JP2010114130A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体ウェハ上における同層のショット間の位置の合わせずれ量を高精度で測定及び検出できるようにする。
【解決手段】半導体装置は、ウェハ状の半導体基板における、第1の露光でパターニングされる少なくとも1つのチップ領域1の周縁部に、第2の露光によって二重露光されてなり、第1の露光及び第2の露光における縦方向又は横方向の互いの位置の合わせずれ量を電気的に測定する検査用評価素子5abを有している。検査用評価素子5abは、第1の露光によって形成される第1の配線パターン5aと、第2の露光によって形成される第2の配線パターン5bとから形成されている。
【選択図】図2
【解決手段】半導体装置は、ウェハ状の半導体基板における、第1の露光でパターニングされる少なくとも1つのチップ領域1の周縁部に、第2の露光によって二重露光されてなり、第1の露光及び第2の露光における縦方向又は横方向の互いの位置の合わせずれ量を電気的に測定する検査用評価素子5abを有している。検査用評価素子5abは、第1の露光によって形成される第1の配線パターン5aと、第2の露光によって形成される第2の配線パターン5bとから形成されている。
【選択図】図2
Description
本発明は、半導体装置及びその製造方法に関し、特にパターン露光時のショット間の位置の合わせずれを検出する半導体装置及びその製造方法に関する。
近年、半導体装置の製造プロセスにおいて、レジストを用いたパターニング(レジストパターニング)における位置合わせ精度の測定は、半導体装置の歩留まりの向上に不可欠な技術となっている。
(第1の従来例)
図5に示すように、従来、レジストパターニングの際の位置合わせ精度の測定手段として、下層パターン11、該下層パターン11の上にパターニングされた層間絶縁膜12及び上層パターン13からなる測定パターンが用いられている。
図5に示すように、従来、レジストパターニングの際の位置合わせ精度の測定手段として、下層パターン11、該下層パターン11の上にパターニングされた層間絶縁膜12及び上層パターン13からなる測定パターンが用いられている。
上層パターン13は、平面正方形状にパターニングされており、上層パターン13の周囲は層間絶縁膜12が平面正方形状に除去されて、下層パターン11が上層パターン13の周囲に露出している。これにより、上層パターン13と層間絶縁膜12とは、それぞれ上層パターン13からなる内側ボックス部と、層間絶縁膜12の開口部からなる外側ボックス部とに分離されて見分けられるようになっている。
上層パターン13と層間絶縁膜12との位置の合わせずれ量の測定は、内側ボックス部と外側ボックス部とのずれ量をCCD(電荷結合素子)によって撮像し、撮像した画像データを処理することにより行われている。この場合、層間絶縁膜12の開口部と上層パターン13とは、共に平面正方形状に形成されていることから、上層パターン13と層間絶縁膜12との合わせずれには、横方向と縦方向とのずれ量のデータが含まれることになる。従って、横方向のずれ量と縦方向のずれ量とをそれぞれ分離して、ずれ量の結果を算出することができる。
しかしながら、第1の従来例に係る方法は、2つのボックス部を形成するためのボックス形成用のマスクが荒れているような場合に、測定の精度が著しく低下するという問題がある。図6は、下層パターン11の表面が荒れた状態の場合の上面から観測した様子を表している。ここで、CCDにより上面から画像処理を行うと、外側ボックス部を構成する内側の壁面、すなわち、層間絶縁膜12の内周面が荒れてしまい、マスク位置の測定精度が著しく低下してしまう。
その上、測定精度の限界は光学顕微鏡の光学的分解能で決まるため、次世代以降の微細技術には、精度の点で対応できない。
ところで、この位置合わせ精度の測定方法は、下層のマスクと上層のマスクとの位置の合わせずれ量だけではなく、同層でのショット間(1ショットとは、1回の露光でパターニングされる領域を指す。)の位置の合わせずれ量の確認においても利用可能な方法である。同じレチクルを用いた2回の重ね露光(二重露光)で内側リングボックス部と外側リングボックス部とをパターニングすることにより、同層でのショット間の重ね合わせの合わせずれ量を測定することが可能となる。
しかしながら、上述したように、被処理膜の表面が荒れた状態では、上層と下層との位置の合わせずれ量の測定と同様に、同層においても位置測定の精度が著しく低下してしまう。
(第2の従来例)
このような問題に影響されないレジストパターニングの位置合わせ精度を持つ測定方法が下記の特許文献1に提示されており、図7を用いて説明する。
このような問題に影響されないレジストパターニングの位置合わせ精度を持つ測定方法が下記の特許文献1に提示されており、図7を用いて説明する。
図7に示すように、第2の従来例に係る縦方向及び横方向のずれ量が0となる校正用回路30は、層間絶縁膜27と、該層間絶縁膜27に形成された平面二等辺三角形状の横方向ずれ量検出窓27aから露出する第1の下層メタル配線17と、層間絶縁膜27に形成され、横方向ずれ量検出窓27aと底辺が直交した平面二等辺三角形状の縦方向ずれ量検出窓27bから露出する第2の下層メタル配線18と、層間絶縁膜27に形成された平面長方形状で縦方向及び横方向のずれ量が0となる校正用検出窓27cから露出する第3の下層メタル配線19とを有している。さらに、校正用回路30は、層間絶縁膜27の上に形成された横方向ずれ測定出力端子20と、該横方向ずれ測定出力端子20及び第1の下層メタル配線17とそれぞれ電気的に接続される上層横方向ずれ量検出用メタル配線21と、層間絶縁膜27の上に形成された縦方向ずれ測定出力端子22と、該縦方向ずれ測定出力端子22及び第2の下層メタル配線18とそれぞれ電気的に接続される上層縦方向ずれ量検出用メタル配線23と、層間絶縁膜27の上に形成された縦方向及び横方向のずれ量が0の測定出力端子24と、該測定出力端子24及び第3の下層メタル配線19とそれぞれ電気的に接続される縦方向及び横方向のずれ量が0となる上層校正用検出メタル配線25と、層間絶縁膜27に形成された共通端子用窓から露出する共通端子26とを有している。
第2の従来例においては、各下層メタル配線17、18及び19の表面の状態が荒れている場合であっても、また、上層の各メタル配線21、23及び25の線幅がばらついたとしても、上層の各メタル配線21、23及び25と層間絶縁膜27との合わせずれの測定結果の精度の低下を防止できると共に、測定誤差の要因となるテスタの測定精度及び外部からの電気的ノイズに対して効果的に悪影響を低減することができる。
ここで、各下層メタル配線17、18及び19と共通端子26とは電気的に接続されており、共通端子26と例えば横方向ずれ量測定端子20とをテスタで接続することにより、上層横方向ずれ量検出用メタル配線21と横方向ずれ量検出用窓27aから露出した第1の下層メタル配線17との電気抵抗を測定することができる。層間絶縁膜27と上層横方向ずれ量検出用メタル配線21との合わせずれ量が0の場合には理想状態である。
同様に、共通端子26と縦方向ずれ量測定端子22とをテスタで接続することにより、上層縦方向ずれ量検出用メタル配線23と縦方向ずれ量検出用窓27bから露出した第2の下層メタル配線18との電気抵抗を測定することができる。層間絶縁膜27と上層縦方向ずれ量検出用メタル配線23との合わせずれ量が0の場合には理想状態である。
この理想状態における上層横方向ずれ量検出用メタル配線21と第1の下層メタル配線層17との接触面積Sと、上層縦方向ずれ量検出用メタル配線23と第2の下層メタル配線層18との接触面積Sとは同一の接触面積であり、上層校正用検出メタル配線25と第3の下層メタル配線層19との接触面積は、常に理想状態である接触面積Sとなるように校正用検出窓27cの縦辺の幅を設定しておく。これにより、校正用検出窓27cが平面長方形状であることと相まって、上層校正用検出メタル配線25と第3の下層メタル配線層19との接触面積が、上層横方向ずれ量検出用メタル配線21と第1の下層メタル配線層17との合わせずれ及び上層縦方向ずれ量検出用メタル配線23と第2の下層メタル配線層18との合わせずれに対して変化することがない。従って、上層校正用検出メタル配線25と第3の下層メタル配線層19との接触面積による電気抵抗が、縦方向及び横方向の合わせずれ量が0のときの電気抵抗の指標となる。
従って、このようにして測定された縦方向及び横方向のマスク位置の合わせずれ量に基づいて、レジストパターンの横方向及び縦方向の合わせずれ量を補正し且つ制御することが可能となる。
例えば、この縦方向及び横方向の合わせずれ量を測定する評価素子を、半導体ウェハにおけるチップ領域を分けるスクライブ領域にスクライブTEG(Test Element Group)として配置することにより、製造工程中及び製造完了後のスクライブTEGの測定と同時に、マスク位置の合わせずれ量を測定することが可能である。
特開平9−27529号公報
第2の従来例のように、マスクの縦方向及び横方向の合わせずれ量を測定する評価素子は、上層メタル配線と層間絶縁膜とのマスク位置の合わせずれを精度良く測定することは可能であるものの、同一層(同一のマスク)のショット間での縦方向及び横方向の合わせずれ量を測定することはできない。
一方、半導体装置の製造プロセスにおいて、パターンを形成する際のレジストパターニングの位置の合わせずれは、製造プロセスのばらつきに依存しており、半導体装置の微細化が進むにつれて、半導体装置の上層のマスクと下層のマスクとの位置の合わせずれだけではなく、半導体ウェハ内のショット間における位置の合わせずれがデバイス特性に大きな影響を与えるようになり、半導体装置の歩留まりの低下に影響を与える不可欠な要因となってきている。
しかしながら、第1の従来例に係る位置合わせ精度の測定手段は、CCDによる上面からの画像処理によって同層のショット間における位置の合わせずれ量を測定しているため、外側ボックス部の端部、すなわち層間絶縁膜の内周面が荒れる等の、半導体装置の製造プロセスのばらつきによって位置の測定精度が著しく低下してしまう。
このように、現状では、同層のショット間における位置の合わせずれが測定可能な従来技術は、その精度が半導体装置の製造プロセスのばらつき等の要因によって著しく低下する。このため、面内管理を精度良く行うことが難しいだけでなく、縦方向及び横方向の同層でのショット間における位置の合わせずれ量を高精度で且つ電気的に測定する手段が存在しないという問題がある。
本発明は、前記従来の問題に鑑み、半導体ウェハ上における同層のショット間の位置の合わせずれ量を高精度で測定及び検出できるようにすることを目的とする。
前記の目的を達成するため、本発明は、半導体装置を、第1の露光(1ショット目露光)による露光領域の周縁部に形成される第1のパターンと、第2の露光(2ショット目露光)による露光領域の周縁部に形成される第2のパターンとを二重露光によって組み合わせることにより、縦方向又は横方向の位置の合わせずれ量を評価する検査用評価素子を形成する構成とする。
具体的に、本発明に係る半導体装置は、ウェハ状の半導体基板における第1の露光でパターニングされる少なくとも1つのチップ領域の周縁部に、第2の露光によって二重露光されてなり、第1の露光及び第2の露光による縦方向又は横方向の互いの位置の合わせずれ量を電気的に測定する第1の検査用評価素子を備え、第1の検査用評価素子は、第1の露光によって形成される第1のパターンと、第2の露光によって形成される第2のパターンとから形成されていることを特徴とする。
本発明の半導体装置によると、少なくとも1つのチップ領域の周縁部に二重露光によって形成された第1の検査用評価素子は、第1の露光によって形成される第1のパターンと、第2の露光によって形成される第2のパターンとから形成されているため、同層のショット間における縦方向又は横方向の位置の合わせずれの測定が、半導体装置の製造工程中及び製造完了後の両方で可能となる。
本発明の半導体装置において、チップ領域は、複数であって、半導体基板における縦方向及び横方向の少なくとも一方向に互いに間隔をおいて行列状に配置され、複数のチップ領域の間には、第2の検査用評価素子が形成されており、第1の検査用評価素子の電極端子と、第2の検査用評価素子の電極端子とは同一の構成であってもよい。
このようにすると、第2の検査用評価素子が位置合わせの測定以外を目的とするTEGであっても、第1の検査用評価素子と第2の検査用評価素子とを同時に測定することができる。
この場合に、第1の検査用評価素子のパターンと、第2の検査用評価素子のパターンとは同一であることが好ましい。
このようにすると、第1の検査用評価素子における縦方向又は横方向の位置の合わせずれ量の測定を、1ショット露光で形成される第2の検査用評価素子を基準として行うことができる。
さらに、この場合に、第1のパターンと第2のパターンとの接触の有無は、電流値又は抵抗値として電気的に検出され、検出の基準となる電流値又は抵抗値には、第2の検査用評価素子における電流値又は抵抗値が用いられることが好ましい。
このようにすると、第1の検査用評価素子における縦方向又は横方向の位置の合わせずれ量の測定を第2の検査用評価素子を基準として電気的に行うことができる。
本発明の半導体装置において、第1の検査用評価素子は、第1のパターン及び第2のパターンがそれぞれ櫛形状のパターンである櫛形状評価素子であり、第1のパターン及び第2のパターンは、互いの櫛形状のパターンにおける櫛の歯部分を交互に噛み合わせて対向しており、縦方向又は横方向の位置の合わせずれによって生じる第1のパターンと第2のパターンとの接触の有無が電流値又は抵抗値として電気的に検出されることが好ましい。
このようにすると、第1のパターンと第2のパターンとの、縦方向又は横方向の位置の合わせずれを確実に測定することができる。
また、本発明の半導体装置において、第1の検査用評価素子は、配線の電気的特性を評価する配線評価素子であり、第1のパターンと第2のパターンとは同一であり、縦方向又は横方向の位置の合わせずれによって生じる第1のパターンと第2のパターン同士の重なり量が、電流値又は抵抗値として電気的に検出されることが好ましい。
このようにすると、例えば線状のパターンを第1の露光でパターニングされる縦方向の周縁部及び横方向の周縁部に形成すれば、縦方向及び横方向の位置の合わせずれを同時に測定することができる。
また、本発明の半導体装置において、第1の検査用評価素子は、第1のパターンが拡散領域からなり、第2のパターンが拡散領域の上に形成される導体膜からなり、縦方向又は横方向の位置の合わせずれによって生じる第1のパターンと第2のパターン同士の重なり量が、電流値又は抵抗値として電気的に検出されることが好ましい。
このようにすると、下層のマスクによりパターニングされる第1のパターンと、その上層のマスクによりパターニングされる第2のパターンの位置ずれをも測定することができる。
この場合に、チップ領域は、複数であって、半導体基板における縦方向及び横方向の少なくとも一方向に互いに間隔をおいて行列状に配置され、複数のチップ領域の間には、第2の検査用評価素子が形成されており、検出の基準となる電流値又は抵抗値には、第2の検査用評価素子における電流値又は抵抗値を用いてもよい。
このようにすると、第1の検査用評価素子における縦方向又は横方向の位置の合わせずれ量の測定を、第2の検査用評価素子を基準として行うことができる。
本発明の半導体装置において、第1の露光でパターニングされる少なくとも1つのチップ領域の周縁部は、半導体基板からチップ領域を切り出す際のスクライブ領域であってもよい。
このようにすると、スクライブTEGと同一の方法で測定することができる。
本発明に係る半導体装置の製造方法は、ウェハ状の半導体基板の主面に、複数のチップ領域を含む第1の露光領域を露光する工程(a)と、工程(a)よりも後に、半導体基板における第1の露光領域の周縁部の一部と重なるように、複数のチップ領域を含む第2の露光領域を露光する工程(b)とを備え、第1の露光領域及び第2の露光領域との重なり領域は、半導体基板から複数のチップ領域を切り出す際の第1のスクライブ領域であり、第1のスクライブ領域には、工程(a)及び工程(b)における縦方向又は横方向の互いの位置の合わせずれ量を電気的に測定する第1の検査用評価素子を形成する第1のパターンと第2のパターンとが形成され、第1のパターンは工程(a)により露光され、且つ、第2のパターンは工程(b)により露光され、工程(a)及び工程(b)のそれぞれにおいて、複数のチップ領域同士の間の領域である第2のスクライブ領域に、第1の検査用評価素子と同一のパターンを有する第2の検査用評価素子が形成されることを特徴とする。
本発明の半導体装置の製造方法によると、第1の露光領域の周縁部の一部である第1のスクライブ領域に形成された第1の検査用評価素子は、工程(a)の第1の露光によって形成される第1のパターンと、工程(b)の第2の露光によって形成される第2のパターンとから形成されているため、同層のショット間における縦方向又は横方向の位置の合わせずれの測定が、半導体装置の製造工程中及び製造完了後の両方で可能となる。
本発明に係る半導体装置及びその製造方法によると、半導体ウェハ上における同層のショット間の位置の合わせずれ量を高精度で測定及び検出することができる。これにより、高精度な面内管理が可能となるため、工程ばらつきの削減及び課題の抽出が迅速に行えるので、半導体装置の歩留まりを向上することができる。
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態について図面を参照しながら説明する。
本発明の第1の実施形態について図面を参照しながら説明する。
図1(a)は本発明の第1の実施形態に係る、半導体ウェハ上にパターニングされた半導体装置の平面構成を模式的に示している。また、図1(b)は本実施形態に係る半導体装置をパターン露光する際の1ショット分のレチクル(フォトマスク)の平面構成を模式的に示している。
まず、図1(b)に示すように、1ショット露光領域10をパターニングするレチクル10Aには、複数のチップ領域1が行列状に且つ互いに間隔をおいて配置されている。レチクル10Aにおけるチップ領域1同士の間の領域は、各チップ領域1を個片に切り出す際のダイシング用のスクライブ領域2となる。スクライブ領域2には、検査用の複数のスクライブTEG3が選択的に形成されている。なお、レチクル10Aは、複数でなく、1つのチップ領域1のみを有する構成であってもよい。
1ショット露光ごとに二重露光となる周縁部の一方の縦スクライブ領域4aには、本発明の半導体装置である検査用評価素子(スクライブTEG)を構成する第1の配線パターン5aが形成され、また、二重露光となる周縁部の他方の縦スクライブ領域4bには、本発明の半導体装置である検査用評価素子を構成する第2の配線パターン5bが形成されている。
同様に、二重露光される周縁部の上方の横スクライブ領域及び下方の横スクライブ領域 には、それぞれスクライブTEG6a、6bが形成されている。
図1(a)は、図1(b)に示すレチクル10Aを用いて、1ショット露光ごとに半導体ウェハ上の露光位置を変えながら、周縁部の縦スクライブ領域4a、4bを二重露光して、二重露光領域4abが形成されるように、所定の回数だけ露光を繰り返してパターニングされる様子を示している。ここでは、図面の都合上、横方向に露光位置を変えてパターニングされた2ショット露光分を示している。
図1(a)に示すように、二重露光領域4abにおいて、同一のレチクル10Aを用いて1ショット露光ごとにパターン露光され且つ二重露光されることにより、縦方向又は横方向の位置の合わせずれ量を測定する検査用評価素子5abが形成される。
ここで、スクライブTEGである検査用評価素子5abと接続される電極端子の配置構成は、レチクル10Aの内側にあるスクライブ領域2に配置されているスクライブTEG3と同一の配置構成である。これにより、スクライブTEG3と検査用評価素子5abとは同時に測定が可能である。
検査用評価素子5abは、例えば、パターニング及びドライエッチ工程の後に電気的に測定可能となる検査用評価素子であり、主にデバイス特性に影響を与える拡散層工程、ポリシリコンゲート工程及びメタル配線工程において用いられる。このため、拡散層、ポリシリコンゲート及びメタル配線によりレイアウトされた検査用評価素子である。
図2(a)は縦スクライブ領域4a、4bにそれぞれ配置される第1の配線パターン5a及び第2の配線パターン5bの一例を示している。
図2(b)は図2(a)に示した各配線パターン5a、5bのうち、平面櫛形状の配線パターンを拡大して示している。図2(b)に示すように、第1の配線パターン5aは、第1の電極端子5a1と該第1の電極端子5a1と接続された第1の櫛形パターン5a2とから構成される。同様に、第2の配線パターン5bは、第2の電極端子5b1と該第2の電極端子5b1と接続された第2の櫛形パターン5b2とから構成される。
このように、第1の電極端子5a1と第1の櫛形パターン5a2及び第2の電極端子5b1と第2の櫛形パターン5b2は、いずれも同層でレイアウトされる。さらに、第1の櫛形パターン5a2と第2の櫛形パターン5b2とは、互いの櫛形状パターンにおける櫛の歯部分同士を交互に且つ間隔をおいて噛み合わせるように対向している。このため、例えば1層メタル配線の形成工程が終了した後の、半導体装置の製造工程中にも電気的な測定が可能となり、さらには、半導体装置の製造の完了後にも、製造工程中と同様の電気的な測定が可能となる。
また、前述したように、第1の電極端子5a1と第2の電極端子5b1とは、スクライブTEG3に設けられた電極端子(図示せず)と同一のレイアウトであるため、検査用評価素子5abは、スクライブTEG3と同時に測定が可能である。
図2(b)に示した第1の櫛形パターン5a2と第2の櫛形パターン5b2との配置の方向では、検査用評価素子5abは縦方向の位置の合わせずれ量を電気的に確認することが可能である。従って、第1の櫛形パターン5a2と第2の櫛形パターン5b2とをそれぞれ90°回転させることにより、横方向の位置の合わせずれ量を電気的に確認することができる。なお、第1の電極端子5a1と第2の電極端子5b1との各レイアウトは、櫛形パターン5a2、5b2の配置の方向に拘わらず、スクライブTEG3を構成する電極端子と同一である。
以上説明したように、図1(b)に示すレチクル10Aを用いた1ショット目の露光でパターニングされた第1の配線パターン5aと、2ショット目の露光でパターニングされた第2の配線パターン5bとによって、検査用評価素子5abが形成される。
第1の実施形態においては第1の櫛形パターン5a2と第2の櫛形パターン5b2とは、製造プロセスのばらつきを考慮したレイアウト設計がなされている。例えば、検査用評価素子5abにおいて、各櫛形パターン5a2、5b2が噛み合っているそれぞれの櫛の歯の間隔は、そのずれ量が0の場合に互いに隣接する櫛の歯の間隔が等しくなる一条件のみで配置される。
具体的には、設計値通りで理想的な、位置合わせのずれ量が0の場合、又は製造プロセスのばらつきが規格内でパターニングされた場合には、第1の櫛形パターン5a2と第2の櫛形パターン5b2とは互いに重なり合うことなく分離される。ところが、製造プロセスのばらつきが規格外にまで大きくなると、第1の櫛形パターン5a2と第2の櫛形パターン5b2とは、互いに接触するか、又は櫛形パターン5a2、5b2同士の間隔が製造プロセスで想定している以上に小さくなるため、正常なパターニングがなされていないことになる。
このように、実際の製造プロセスにおいては、レチクル10Aの位置の合わせずれが発生する場合が多く、この場合には、櫛形パターン5a2、5b2同士の櫛の歯の間隔が等間隔とならないため、測定される電流値が理想値からずれ、ずれの程度に応じて電気抵抗が低下するという現象が起こる。すなわち、櫛形パターン5a2、5b2同士が繋がると、第1の電極端子5a1と第2の電極端子5b1との間に電圧を印加した際に、該第1の電極端子5a1と第2の電極端子5b1との間に電流が流れ、電気抵抗が低下する。これにより、測定される電気抵抗値の大きさから、レチクル10Aの位置の合わせずれの程度を検出することができる。
また、第1の実施形態においては、位置の合わせずれ量が0となる理想的な状態の電流値又は抵抗値、すなわち、ずれの検出の基準となる電流値又は抵抗値を求めるには、二重露光されないスクライブ領域2又は二重露光されるスクライブ領域4a、4b等に、1ショット露光によるパターニングのみで形成された、検査用評価素子5abと同一のレイアウトを持つ基準値生成用の他の検査用評価素子を横方向と縦方向に配置しておく。この基準値生成用の検査用評価素子から得た電流値又は抵抗値を検査用評価素子5abにおける電流値又は抵抗値の基準値とする。従って、検査用評価素子5abから得られた電流値又は抵抗値と、基準値とを比較することにより、半導体ウェハ上での同層のレチクル10Aを用いたショット間の縦方向及び横方向の位置の合わせずれ量を電気的に確認することができる。
第1の実施形態によると、半導体ウェハ上での同層のレチクル10Aを用いた1ショットごとのパターニングで二重露光となるスクライブ領域4a、4b等に、同層でのショット間の縦方向又は横方向の位置の合わせずれ量を電気的に測定可能な電極端子付き櫛形評価素子である検査用評価素子5abを形成する。この検査用評価素子5abは、位置の合わせずれ量が0の理想的な状態でパターニングされた場合に、1ショット目の露光による第1の櫛形パターン5a2と、2ショット目の露光による第2の櫛形パターン5b2との櫛の歯同士の間隔が等しくなるようにレイアウトしておき、検査用評価素子5abにおける電流値又は抵抗値を基準値と比較することにより、横方向又は縦方向の位置の合わせずれ量を容易に検出することができる。
その上、半導体ウェハにおける面内管理が可能となり、且つ製造工程中及び製造工程の完了後の双方で測定が可能となる。また、電極端子の構成及びレイアウトが従来のスクライブTEG3等と同一であるため、検査用評価素子5abをスクライブTEG3と同時に測定することができる。その結果、製造プロセスへの迅速なフィードバックも可能となり、半導体装置の歩留りの向上に繋がる。
(第2の実施形態)
以下、本発明の第2の実施形態について図面を参照しながら説明する。
以下、本発明の第2の実施形態について図面を参照しながら説明する。
図3は本発明の第2の実施形態に係る半導体装置であって、図1(b)に示すレチクル10Aの周縁部の、例えば縦スクライブ領域4a、4bに形成される検査用評価素子の平面構成を示している。
図3に示すように、第2の実施形態に係る検査用評価素子5abは、1ショット目の露光によりパターニングされる第1の配線パターン5aと、2ショット目の露光によりパターニングされる第2の配線パターン5bとから構成される。
本実施形態においては、第1の配線パターン5aは、第1の電極端子5a1と第1の線状パターン5a3とから構成され、第2の配線パターン5bは、第2の電極端子5b1と第2の線状パターン5b3とから構成される。なお、ここでは第1の線状パターン5a3及び第2の線状パターン5b3は直線状で且つ同一の幅を有するパターンとしているが、線幅が同一であれば、必ずしも直線状には限られない。
このように、第1の電極端子5a1と第1の線状パターン5a3及び第2の電極端子5b1と第2の線状パターン5b3は、いずれも同層でレイアウトされ、且つ線状パターン5a3、5b3同士は互いに重なっている。このため、例えば1層メタル配線の形成工程が終了した後の、半導体装置の製造工程中にも電気的な測定が可能となり、さらには、半導体装置の製造の完了後にも、製造工程中と同様の電気的な測定が可能となる。
図3に示した第1の線状パターン5a3と第2の線状パターン5b3との配置の方向では、検査用評価素子5abは縦方向の位置の合わせずれ量を電気的に確認することが可能である。従って、第1の線状パターン5a3と第2の線状パターン5b3とをそれぞれ90°回転させることにより、横方向の位置の合わせずれ量を電気的に確認することができる。なお、第1の電極端子5a1と第2の電極端子5b1との各レイアウトは、線状パターン5a3、5b3の配置の方向に拘わらず、スクライブTEG3を構成する電極端子と同一である。
以上説明したように、図1(b)に示すレチクル10Aを用いた1ショット目の露光でパターニングされた第1の配線パターン5aと、2ショット目の露光でパターニングされた第2の配線パターン5bとによって、検査用評価素子5abが形成される。
従って、設計値通りで理想的な、位置合わせのずれ量が0の場合、又は製造プロセスのばらつきが規格内でパターニングされた場合には、検査用評価素子5abにより得られる電流値又は抵抗値の変化は、製造プロセスで想定される規格内である。ところが、半導体装置の製造プロセスのばらつきが規格外になると、第1の線状パターン5a3と第2の線状パターン5b3とが互いにずれてパターニングされるか、さらには正常にパターニングされなくなる。すなわち、検査用評価素子5abの配線幅が二重露光によって規格値の幅と異なるため、第1の電極端子5a1と第2の電極端子5b1との間に電圧を印加すると、第1の電極端子5a1と第2の電極端子5b1との間の電流値又は抵抗値に基準となる電流値又は抵抗値と差が生じる。
第2の実施形態においても、位置の合わせずれ量が0となる理想的な状態の電流値又は抵抗値、すなわち、ずれの検出の基準となる電流値又は抵抗値を求めるには、二重露光されないスクライブ領域2又は二重露光されるスクライブ領域4a、4b等に、1ショット露光によるパターニングのみで形成された、検査用評価素子5abと同一のレイアウトを持つ基準値生成用の他の検査用評価素子を横方向と縦方向とに配置しておく。この基準値生成用の検査用評価素子から得た電流値又は抵抗値を検査用評価素子5abにおける電流値又は抵抗値の基準値とする。従って、検査用評価素子5abから得られた電流値又は抵抗値と、基準値とを比較することにより、半導体ウェハ上での同層のレチクル10Aを用いたショット間の縦方向及び横方向の位置の合わせずれ量を電気的に確認することができる。
第2の実施形態によると、半導体ウェハ上での同層のレチクル10Aを用いた1ショットごとのパターニングで二重露光となるスクライブ領域4a、4b等に、同層でのショット間の縦方向又は横方向の位置の合わせずれ量を電気的に測定可能な電極端子付き配線評価素子である検査用評価素子5abを形成する。この検査用評価素子5abは、位置の合わせずれ量が0の理想的な状態でパターニングされた場合に、1ショット目の露光による第1の線状パターン5a3と、2ショット目の露光による第2の線状パターン5b3との線幅が二重露光前の線幅と等しくなるようにレイアウトしておき、検査用評価素子5abにおける電流値又は抵抗値を基準値と比較することにより、横方向又は縦方向の位置の合わせずれ量を高精度に検出することができる。
その上、半導体ウェハにおける面内管理が可能となり、且つ製造工程中及び製造工程の完了後の双方で測定が可能となる。また、電極端子の構成及びレイアウトが従来のスクライブTEG3等と同一であるため、検査用評価素子5abをスクライブTEG3と同時に測定することができる。その結果、製造プロセスへの迅速なフィードバックも可能となり、半導体装置の歩留りを向上することができる。
なお、第2の実施形態に係る検出用評価素子5abと、第1の実施形態に係る検出用評価素子5abとは適宜組み合わせて用いることができる。
(第3の実施形態)
以下、本発明の第3の実施形態について図面を参照しながら説明する。
以下、本発明の第3の実施形態について図面を参照しながら説明する。
図4は本発明の第3の実施形態に係る半導体装置であって、図1(b)に示すレチクル10Aの周縁部の、例えば縦スクライブ領域4a、4b、又は内側のスクライブ領域2に形成される検査用評価素子の平面構成を示している。
第3の実施形態に係る検査用評価素子は、上層と下層の位置合わせずれ量を確認するための評価素子の一例である。
図4に示すように、第3の実施形態に係る検査用評価素子は、例えば半導体ウェハのスクライブ領域2、4a等に形成された拡散領域7と、該拡散領域7の両端部にそれぞれ電気的に接続された電極端子8と、拡散領域7の上に形成される導電性を有するポリシリコンからなるゲート領域9とから構成されている。
下層のレチクルによりパターニングされる拡散領域7と、その上層のレチクルによりパターニングされる上層のゲート領域9とは、所定の重なり領域を持つようにレイアウトされている。従って、拡散領域7におけるゲート領域9との重ならない部分の幅寸法Wは、半導体ウェハ上でのマスク位置の合わせずれ量が0でない限りは、製造プロセスのばらつきによって変動する。このため、繰り返し露光されるショット間において、拡散領域7とその上のゲート領域9との重なり部分の面積が異なる。その結果、ショット間での拡散領域7ごとに得られる抵抗値に変化が生じるので、その得られた抵抗値によって拡散領域7とその上のゲート領域9との重ねずれ量を確認することが可能となる。
上述の第1及び第2の実施形態においては、半導体ウェハ上に同一のレチクル10Aを用いた同層のショット間における縦方向又は横方向の位置の合わせずれ量を測定することが可能である一方で、異なるレチクルによる上層と下層との位置の合わせずれ量を確認することはでなきない。これに対し、第3の実施形態においては、製造ばらつきの要因の影響を受けない安定した合わせずれの測定精度で上層のレチクルと下層のレチクルとの位置の合わせずれを検出することができる。このため、第3の実施形態を、第1又は第2の実施形態に係る位置の合わせずれ検出用の評価素子と適宜組み合わせることにより、位置の合わせずれ成分を明確に抽出することが可能となるので、半導体装置の歩留まりの向上を図ることができる。
なお、本発明の各実施形態を通して使用した二重露光という技術用語は、同一(同層)のレチクル10Aを用いて、同層におけるショット間の位置の合わせずれ量を確認する手法を意味している。従って、本発明に係る二重露光は、例えば設計密度が高い回路パターンを設計密度がより低い2つのパターンに分割する、一般にリソグラフィで呼ばれるダブルパターニング(又は二重露光と記載される)手法とは異なる。
本発明に係る半導体装置及びその製造方法は、半導体ウェハ上における同層のショット間の位置の合わせずれ量を高精度で測定及び検出することができ、特にパターン露光時のショット間の位置の合わせずれを評価する上で有用である。
1 チップ領域
2 スクライブ領域
3 スクライブTEG
4a 縦スクライブ領域
4b 縦スクライブ領域
4ab 二重露光領域
5a 第1の配線パターン
5b 第2の配線パターン
5ab 検査用評価素子
5a1 第1の電極端子
5a2 第1の櫛形パターン
5a3 第1の線状パターン
5b1 第2の電極端子
5b2 第2の櫛形パターン
5b3 第2の線状パターン
6a スクライブTEG
6b スクライブTEG
7 拡散領域
8 電極端子
9 ゲート領域
10 1ショット露光領域
10A レチクル
2 スクライブ領域
3 スクライブTEG
4a 縦スクライブ領域
4b 縦スクライブ領域
4ab 二重露光領域
5a 第1の配線パターン
5b 第2の配線パターン
5ab 検査用評価素子
5a1 第1の電極端子
5a2 第1の櫛形パターン
5a3 第1の線状パターン
5b1 第2の電極端子
5b2 第2の櫛形パターン
5b3 第2の線状パターン
6a スクライブTEG
6b スクライブTEG
7 拡散領域
8 電極端子
9 ゲート領域
10 1ショット露光領域
10A レチクル
Claims (10)
- ウェハ状の半導体基板における第1の露光でパターニングされる少なくとも1つのチップ領域の周縁部に、第2の露光によって二重露光されてなり、前記第1の露光及び第2の露光による縦方向又は横方向の互いの位置の合わせずれ量を電気的に測定する第1の検査用評価素子を備え、
前記第1の検査用評価素子は、前記第1の露光によって形成される第1のパターンと、前記第2の露光によって形成される第2のパターンとから形成されていることを特徴とする半導体装置。 - 前記チップ領域は、複数であって、前記半導体基板における縦方向及び横方向の少なくとも一方向に互いに間隔をおいて行列状に配置され、
前記複数のチップ領域の間には、第2の検査用評価素子が形成されており、
前記第1の検査用評価素子の電極端子と、前記第2の検査用評価素子の電極端子とは同一の構成であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1の検査用評価素子のパターンと、前記第2の検査用評価素子のパターンとは同一であることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
- 前記第1のパターンと前記第2のパターンとの接触の有無は、電流値又は抵抗値として電気的に検出され、
前記検出の基準となる電流値又は抵抗値には、前記第2の検査用評価素子における電流値又は抵抗値が用いられることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。 - 前記第1の検査用評価素子は、前記第1のパターン及び第2のパターンがそれぞれ櫛形状のパターンである櫛形状評価素子であり、
前記第1のパターン及び第2のパターンは、互いの櫛形状のパターンにおける櫛の歯部分を交互に噛み合わせて対向しており、
縦方向又は横方向の位置の合わせずれによって生じる前記第1のパターンと前記第2のパターンとの接触の有無が、電流値又は抵抗値として電気的に検出されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 前記第1の検査用評価素子は、配線の電気的特性を評価する配線評価素子であり、
前記第1のパターンと前記第2のパターンとは同一であり、
縦方向又は横方向の位置の合わせずれによって生じる前記第1のパターンと前記第2のパターン同士の重なり量が、電流値又は抵抗値として電気的に検出されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 前記第1の検査用評価素子は、前記第1のパターンが拡散領域からなり、前記第2のパターンが前記拡散領域の上に形成される導体膜からなり、
前記縦方向及び横方向の位置の合わせずれによって生じる前記第1のパターンと前記第2のパターン同士の重なり量が、電流値又は抵抗値として電気的に検出されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 前記チップ領域は、複数であって、前記半導体基板における縦方向及び横方向の少なくとも一方向に互いに間隔をおいて行列状に配置され、
前記複数のチップ領域の間には、第2の検査用評価素子が形成されており、
前記検出の基準となる電流値又は抵抗値には、前記第2の検査用評価素子における電流値又は抵抗値が用いられることを特徴とする請求項6又は7に記載の半導体装置。 - 前記第1の露光でパターニングされる少なくとも1つのチップ領域の周縁部は、前記半導体基板から前記チップ領域を切り出す際のスクライブ領域であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の半導体装置。
- ウェハ状の半導体基板の主面に、複数のチップ領域を含む第1の露光領域を露光する工程(a)と、
前記工程(a)よりも後に、前記半導体基板における前記第1の露光領域の周縁部の一部と重なるように、複数のチップ領域を含む第2の露光領域を露光する工程(b)とを備え、
前記第1の露光領域及び第2の露光領域との重なり領域は、前記半導体基板から前記複数のチップ領域を切り出す際の第1のスクライブ領域であり、
前記第1のスクライブ領域には、前記工程(a)及び工程(b)における縦方向又は横方向の互いの位置の合わせずれ量を電気的に測定する第1の検査用評価素子を形成する第1のパターンと第2のパターンとが形成され、
前記第1のパターンは前記工程(a)により露光され、且つ、前記第2のパターンは前記工程(b)により露光され、
前記工程(a)及び工程(b)のそれぞれにおいて、前記複数のチップ領域同士の間の領域である第2のスクライブ領域に、前記第1の検査用評価素子と同一のパターンを有する第2の検査用評価素子が形成されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008283051A JP2010114130A (ja) | 2008-11-04 | 2008-11-04 | 半導体装置及びその製造方法 |
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JP (1) | JP2010114130A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011242774A (ja) * | 2010-05-14 | 2011-12-01 | Beijing Boe Optoelectronics Technology Co Ltd | 露光領域間のパターンシフト量に対する測定方法及び測定マーク |
CN112563149A (zh) * | 2020-12-11 | 2021-03-26 | 苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司 | 精准测量钻刻大小的方法及剥离工艺 |
-
2008
- 2008-11-04 JP JP2008283051A patent/JP2010114130A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011242774A (ja) * | 2010-05-14 | 2011-12-01 | Beijing Boe Optoelectronics Technology Co Ltd | 露光領域間のパターンシフト量に対する測定方法及び測定マーク |
US8883523B2 (en) | 2010-05-14 | 2014-11-11 | Beijing Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Method for detecting pattern offset amount of exposed regions and detecting mark |
US9303969B2 (en) | 2010-05-14 | 2016-04-05 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Method for detecting pattern offset amount of exposed regions and detecting mark |
CN112563149A (zh) * | 2020-12-11 | 2021-03-26 | 苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司 | 精准测量钻刻大小的方法及剥离工艺 |
CN112563149B (zh) * | 2020-12-11 | 2023-12-01 | 苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司 | 精准测量钻刻大小的方法及剥离工艺 |
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