JP2010096947A - 電気光学装置の製造方法および電気光学装置、ならびに電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】電気光学パネルの配向方向と光学フィルムの光学軸との位置ズレを低減できる電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００の製造方法は、液晶セル５０および偏光板４４の相対的な面内での位置関係を光学的に決定する第１の工程と、第１の工程で決定された液晶セル５０および偏光板４４の位置関係の情報に基づいて、偏光板４４を液晶セル５０に貼り付ける第２の工程と、を含み、液晶セル５０の一辺部には、規則的に配列された２次元座標を有するパターン６０が設けられており、第１の工程では、決定された位置関係において、素子基板１０に設けられたパターン６０に対する、偏光板４４における少なくとも２点の位置座標情報を記録し、第２の工程では、第１の工程で記録された位置座標情報に基づいて、第１の工程で決定された液晶セル５０および偏光板４４の位置関係を再現することを特徴とする。
【選択図】図１０

Description

本発明は、電気光学装置の製造方法および電気光学装置、ならびに電子機器に関する。

液晶装置は、対向配置された一対の基板の間に液晶層が挟持された液晶セルと、液晶セルの両外側に配置された一対の偏光板とを備えている。液晶装置は、偏光光を利用して表示を行うため、液晶層における液晶分子の配向方向と、一対の偏光板の光学軸とが所定の位置関係となるように設定されている。したがって、液晶セルに偏光板を貼り付ける工程において、液晶セルと偏光板との所定の配置位置にズレが生じると、液晶装置のコントラスト低下等により表示品質の低下を招くこととなる。

そこで、液晶セルの一方の基板に設けられたアライメントマークを基準にして、偏光板の外形との位置合わせを行い偏光板を貼り付ける方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、テーブルに載置した液晶セルの配向方向と偏光板の光学軸との位置合わせを光学的に行い、その状態を維持して偏光板を貼り付ける方法が提案されている（例えば、特許文献２および特許文献３参照）。

特開２０００−２２１４６１号公報 特開平８−２０１８０１号公報 特開２００３−１０７４５２号公報

しかしながら、上記特許文献１に記載された方法では、アライメントマークと偏光板の外形とで位置合わせを行うため、設定された位置に対する液晶セルのアライメントマークと配向方向とのズレや偏光板の外形と光学軸とのズレがある場合、液晶セルに対して偏光板の光学軸を正確に位置合わせすることが難しいという課題がある。特許文献２および特許文献３に記載された方法では、位置合わせを行う装置および環境下で偏光板の貼り付けを行うため、液晶セルとの間にゴミ等が入るリスクがあり、上記特許文献２に記載された方法では、偏光板を液晶セルに平行に維持したまま貼り付けるため、液晶セルとの間に気泡が入りやすくなる。これを防止するため、位置合わせとは別の環境下で偏光板の貼り付け工程を行う場合、光学的に位置合わせした位置関係が貼り付け工程でずれるおそれがあるという課題がある。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例１］本適用例に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学パネルの一方の面の外側に光学フィルムを対向配置させた状態で、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムのうちの少なくとも一方を対向する面内で回転させて、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムの相対的な面内での位置関係を光学的に決定する第１の工程と、前記第１の工程で決定された前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムの前記位置関係の情報に基づいて、前記光学フィルムを前記電気光学パネルに貼り付ける第２の工程と、を含み、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムのうちの少なくとも一方の一辺部には、配列された２次元座標を有するパターンが設けられており、前記第１の工程における前記位置関係の決定は、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムのうちの一方に設けられた前記パターンに対する、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムのうちの他方における少なくとも２点の位置座標情報を記録し、前記第２の工程では、前記第１の工程で記録された前記位置座標情報に基づいて、前記第１の工程で決定された前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムの前記位置関係を再現することを特徴とする。

この構成によれば、第１の工程では、光学的に決定された電気光学パネルおよび光学フィルムの相対的な面内での位置関係を、電気光学パネルおよび光学フィルムのうちの少なくとも一方の一辺部に設けられた２次元座標を有するパターンに対する他方の少なくとも２点の位置座標情報により記録する。このため、第２の工程では、第１の工程において記録された位置座標情報に基づき、光学的に決定された電気光学パネルおよび光学フィルムの相対的な面内での位置関係を再現して、光学フィルムを電気光学パネルに貼り付けることができる。これにより、電気光学パネルおよび光学フィルムの相対的な位置ズレを低減できる。

［適用例２］上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記電気光学パネルまたは前記光学フィルムのいずれか一方には前記パターンが設けられておらず、前記第１の工程では、前記パターンが設けられていない前記一方の一辺部が、他方の一辺部に設けられた前記パターンの２次元座標内を横断する前記少なくとも２点の前記位置座標情報を記録してもよい。

この構成によれば、一方に設けられたパターンに対する他方の一辺部における少なくとも２点の位置座標情報を記録することにより、決定された位置関係を再現できる。

［適用例３］上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムの双方に前記パターンが設けられており、前記第１の工程では、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムのうちの一方の前記パターンにおける前記少なくとも２点の、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムのうちの他方の前記パターンに対する前記位置座標情報を記録してもよい。

この構成によれば、一方に設けられたパターンに対する他方のパターンにおける少なくとも２点の位置座標情報を記録することにより、決定された位置関係を再現できる。

［適用例４］上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記パターンは、前記一辺部において複数箇所に設けられていてもよい。

この構成によれば、パターンが複数箇所に設けられているので、複数のパターンのそれぞれに対して位置座標情報を記録できる。これにより、決定された位置関係をより正確に再現できる。

［適用例５］上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記パターンは、行方向および列方向に配列された点で構成されていてもよい。

この構成によれば、パターンを構成する行方向および列方向に配列された点の座標を基準にして位置座標情報を記録できる。

［適用例６］上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記パターンは、互いに交差して配列された線で構成されていてもよい。

この構成によれば、パターンを構成する互いに交差して配列された線同士の交点または線同士に囲まれた領域の座標を基準にして位置座標情報を記録できる。

［適用例７］上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記電気光学パネルは、互いに対向して配置された第１の基板および第２の基板と、前記第１の基板および前記第２の基板の間に挟持された液晶層と、を備えた液晶セルであり、前記光学フィルムは、偏光体であり、前記第１の工程では、前記液晶セルと前記偏光体とを透過した光の強度の測定結果に基づいて前記位置関係を決定してもよい。

この構成によれば、液晶セルと偏光体とを透過した光の強度の測定結果に基づいて位置関係を決定するので、液晶セルの配向方向と偏光体の光学軸とを光学的に位置合わせすることができる。このように決定された位置関係を再現して偏光体を液晶セルに貼り付けるので、液晶セルと偏光体との相対的な位置ズレを低減できる。これにより、液晶装置のコントラスト低下が抑えられるので、液晶装置の表示品質を向上できる。

［適用例８］本適用例に係る電気光学装置は、電気光学パネルと、前記電気光学パネルの少なくとも一方の面に配置された光学フィルムと、を備え、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムのうちの少なくとも一方の一辺部には、配列された２次元座標を有するパターンが設けられていることを特徴とする。

この構成によれば、電気光学パネルおよび光学フィルムの相対的な面内での位置関係を光学的に決定する際に、その決定された位置関係を、電気光学パネルおよび光学フィルムのうちの少なくとも一方に設けられたパターンに対する他方の少なくとも２点の位置座標情報により記録することができる。このため、光学フィルムを電気光学パネルに貼り付ける際に、記録された位置座標情報により、光学的に決定された電気光学パネルおよび光学フィルムの位置関係を再現することができる。これにより、電気光学パネルおよび光学フィルムの相対的な位置ズレを低減できる。

［適用例９］上記適用例に係る電気光学装置であって、前記パターンは、前記電気光学パネルまたは前記光学フィルムのいずれか一方に設けられていてもよい。

この構成によれば、一方に設けられたパターンに対する他方の一辺部における少なくとも２点の位置座標情報を記録することにより、決定された位置関係を再現できる。

［適用例１０］上記適用例に係る電気光学装置であって、前記パターンは、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムの双方に設けられていてもよい。

この構成によれば、一方に設けられたパターンに対する他方のパターンにおける少なくとも２点の位置座標情報を記録することにより、決定された位置関係を再現できる。

［適用例１１］上記適用例に係る電気光学装置であって、前記パターンは、前記一辺部において複数箇所に設けられていてもよい。

この構成によれば、パターンが複数箇所に設けられているので、複数のパターンのそれぞれに対して位置座標情報を記録できる。これにより、決定された位置関係をより正確に再現できる。

［適用例１２］上記適用例に係る電気光学装置であって、前記パターンは、行方向および列方向に配列された点で構成されていてもよい。

この構成によれば、パターンを構成する行方向および列方向に配列された点の座標を基準にして位置座標情報を記録できる。

［適用例１３］上記適用例に係る電気光学装置であって、前記パターンは、互いに交差して配列された線で構成されていてもよい。

この構成によれば、パターンを構成する互いに交差して配列された線同士の交点または線同士に囲まれた領域の座標を基準にして位置座標情報を記録できる。

［適用例１４］上記適用例に係る電気光学装置であって、前記電気光学パネルは、互いに対向して配置された第１の基板および第２の基板と、前記第１の基板および前記第２の基板の間に挟持された液晶層と、を備えた液晶セルであり、前記光学フィルムは、偏光体であってもよい。

この構成によれば、液晶セルの配向方向と偏光体の光学軸とを光学的に位置合わせし、このように決定された位置関係を再現して偏光体を液晶セルに貼り付けることができる。このため、液晶セルと偏光体との相対的な位置ズレを低減できる。これにより、液晶装置のコントラスト低下が抑えられるので、液晶装置の表示品質を向上できる。

［適用例１５］本適用例に係る電子機器は、上記に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする。

この構成によれば、電子機器は、上記の電気光学装置を表示部として有しているので、表示品質の向上が図られる。

以下に、本実施の形態について図面を参照して説明する。なお、参照する各図面において、構成をわかりやすく示すため、各構成要素の層厚や寸法の比率、角度等は適宜異ならせてある。

（第１の実施形態）
＜液晶装置＞
まず、第１の実施形態に係る電気光学装置としての液晶装置について図を参照して説明する。図１は、第１の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す図である。詳しくは、図１（ａ）は液晶装置の平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）中のＡ−Ａ’線に沿った断面図である。図２は、第１の実施形態に係る液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図である。図３は、第１の実施形態に係る液晶装置の画素の構成を説明する図である。詳しくは、図３（ａ）は観察側（対向基板側）から見たときの画素の構成を示す平面図であり、図３（ｂ）は観察側から見たときの液晶セルの配向方向を示す図である。図４は、図３（ａ）中のＣ−Ｃ’線に沿った断面図である。なお、図３（ａ）では対向基板の図示を省略している。

第１の実施形態に係る液晶装置１００は、例えば、スイッチング素子としてＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置であるとともに、ＦＦＳ（Fringe-Field Switching）方式の透過型の液晶装置である。

図１（ａ）および（ｂ）に示すように、液晶装置１００は、液晶セル５０を備えている。液晶セル５０は、第１の基板としての素子基板１０と、素子基板１０に対向して配置された第２の基板としての対向基板３０と、素子基板１０と対向基板３０との間に挟持された液晶層４０とを備えている。素子基板１０と対向基板３０とは、枠状のシール剤４１を介して互いに対向して貼り合わされている。液晶層４０は、素子基板１０と対向基板３０とシール剤４１とによって囲まれた空間に封入されている。液晶装置１００は、液晶層４０が封入された表示領域２において表示を行う。

素子基板１０は、対向基板３０より大きく、一部が対向基板３０に対して張り出した状態で貼り合わされている。この張り出した部位には、液晶層４０を駆動するためのドライバＩＣ４２が実装されている。素子基板１０の一辺部には、規則的に配列された２次元座標を有するパターン６０が設けられている。パターン６０は、素子基板１０の辺１０ａ側の端面からシール剤４１の外側までの領域内に位置しており、辺１０ａに沿うように配置されている。

図１（ｂ）に示すように、素子基板１０の外側の面には、偏光体としての偏光板４４が配置されている。対向基板３０の外側の面には、偏光体としての偏光板４５が配置されている。図示しないが、偏光板４４の側には、偏光板４４に対向してバックライト等の照明装置が配置されている。

図２に示すように、表示領域２には、走査線１２と信号線１４と共通配線１７とが形成されている。走査線１２と共通配線１７とは、互いに略平行に配置されている。信号線１４は、走査線１２と共通配線１７とに交差するように配置されている。走査線１２および共通配線１７と信号線１４との交差に対応して画素４が設けられている。

画素４は、液晶装置１００の表示の最小単位であり、例えば矩形状の平面形状を有している。画素４は、互いに隣り合う画素４同士の間に間隔が空くように、Ｘ軸およびＹ軸に沿ってマトリクス状に配置されている。画素４は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの表示に寄与し、Ｒ、Ｇ、Ｂの各表示に寄与する３つの画素４から１つの画素群が構成されている。液晶装置１００では、各画素群において３つの画素４のそれぞれの輝度を適宜変えることで、種々の色の表示を行うことができる。

なお、図２を含め以降の図面において、Ｘ軸は、画素４の行方向を示しており、走査線１２の延在方向に沿った方向である。また、Ｙ軸は、画素４の列方向を示しており、信号線１４の延在方向に沿った方向である。素子基板１０の辺１０ａ（図１参照）は、例えば、Ｙ軸に沿った方向の辺である。素子基板１０の辺１０ａは、Ｘ軸に沿った方向の辺であってもよい。

画素４のそれぞれには、画素電極１６と、画素電極１６を制御するためのＴＦＴ素子２０とが形成されている。また、画素４のそれぞれには、画素電極１６との間で横電界を発生させるための共通電極１８が形成されている。共通電極１８は、共通配線１７に電気的に接続されている。

ＴＦＴ素子２０のソース電極２０ｓ（図３（ａ）参照）は、信号線駆動回路１３から延在する信号線１４に電気的に接続されている。信号線１４には、信号線駆動回路１３からデータ信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎが線順次で供給される。ＴＦＴ素子２０のゲート電極２０ｇ（図３（ａ）参照）は、走査線駆動回路１５から延在する走査線１２の一部である。走査線１２には、走査線駆動回路１５から走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍが線順次で供給される。ＴＦＴ素子２０のドレイン電極２０ｄ（図３（ａ）参照）は、画素電極１６に電気的に接続されている。

データ信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、ＴＦＴ素子２０を一定期間だけオン状態とすることにより、信号線１４を介して画素電極１６に所定のタイミングで書き込まれる。このようにして画素電極１６を介して、液晶層４０に書き込まれた所定レベルのデータ信号は、共通電極１８との間で一定期間保持される。ここで、画素電極１６と共通電極１８との間には保持容量１９が形成されており、画素電極１６の電圧は、例えば、ソース電圧が印加された時間よりも長い時間保持される。これにより、電荷の保持特性が改善され、液晶装置１００はコントラスト比の高い表示を行うことができる。

次に、液晶装置１００の構成について説明する。図３（ａ）に示すように、画素４には、画素電極１６と、画素電極１６との間で横電界を発生させるための共通電極１８と、画素電極１６を制御するためのＴＦＴ素子２０とが設けられている。

画素電極１６は、矩形状に形成されており、複数のスリット状の開口部１６ａを有している。スリット状の開口部１６ａは、例えば信号線１４の延在方向に沿う方向に、互いに平行に形成されている。画素電極１６は、絶縁層２４（図４参照）を貫通するコンタクトホール２４ａを介して、ＴＦＴ素子２０のドレイン電極２０ｄに電気的に接続されている。画素電極１６は、透光性を有する導電材料からなり、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる。

共通電極１８は、矩形状に形成されており、画素電極１６に平面的に重なるように設けられている。共通電極１８は、一辺部において共通配線１７に重なっており、この部分で共通配線１７に電気的に接続されている。共通電極１８は、透光性を有する導電材料からなり、例えばＩＴＯからなる。

ＴＦＴ素子２０は、ゲート電極２０ｇと半導体層２０ａとソース電極２０ｓとドレイン電極２０ｄとを備えている。ゲート電極２０ｇは、走査線１２の一部である。半導体層２０ａは、ゲート電極２０ｇに平面的に重なる位置に形成されている。ソース電極２０ｓは、信号線１４から分岐した部分であり、その一部が半導体層２０ａの一部（ソース側）を覆うように形成されている。ドレイン電極２０ｄは、一部が半導体層２０ａの一部（ドレイン側）を覆うように形成されている。

図４に示すように、素子基板１０は、基板１１を基体として構成されており、基板１１上に、ＴＦＴ素子２０と、共通配線１７と、共通電極１８と、ゲート絶縁層２２と、絶縁層２４と、画素電極１６と、配向膜２８と、パターン６０（図５参照）を備えている。基板１１は、透光性を有する材料からなり、例えば、ガラス、石英、樹脂等からなる。基板１１は、酸化シリコン（ＳｉＯ₂）膜等からなる絶縁層に覆われていてもよい。

基板１１の液晶層４０側には、ゲート電極２０ｇと、共通配線１７と、共通電極１８とが形成されている。ゲート絶縁層２２は、基板１１とゲート電極２０ｇと共通配線１７と共通電極１８とを覆うように形成されている。ゲート絶縁層２２上には、半導体層２０ａとソース電極２０ｓとドレイン電極２０ｄとが形成されている。

絶縁層２４は、ゲート絶縁層２２と、半導体層２０ａと、ソース電極２０ｓと、ドレイン電極２０ｄとを覆うように形成されている。画素電極１６は、絶縁層２４上に形成されている。画素電極１６と共通電極１８とはゲート絶縁層２２と絶縁層２４とを介して対向しており、画素電極１６と共通電極１８との間に挟まれたゲート絶縁層２２と絶縁層２４とを誘電体膜とする保持容量１９（図２参照）が形成されている。

素子基板１０では、画素電極１６と共通電極１８との間に電圧が印加されると、スリット状の開口部１６ａおよびその周辺に横電界が発生する。この横電界によって、液晶層４０の液晶分子の配向が制御される。なお、画素電極１６と共通電極１８との配置はこの形態に限定されない。共通電極１８が画素電極１６よりも液晶層４０側に配置されていてもよい。このような構成の場合は、共通電極１８がスリット状の開口部を有することとなる。

素子基板１０の液晶層４０に接する側には配向膜２８が形成されている。配向膜２８は、例えばポリイミド樹脂からなる。配向膜２８の表面には、例えば、信号線１４の延在方向に対して時計回りの方向に５度の角度をなす方向を配向方向（図３（ｂ）参照）として、ラビング処理等の配向処理が施されている。

次に、対向基板３０は、液晶装置１００の観察側に位置している。対向基板３０は、基板３１を基体として構成されており、基板３１上に、遮光層３２と、カラーフィルタ層３４と、オーバーコート層３５と、配向膜３６とを備えている。

基板３１は、透光性を有する材料からなり、例えば、ガラス、石英、樹脂等からなる。遮光層３２とカラーフィルタ層３４とは、基板３１上に形成されている。遮光層３２は、基板３１上の隣り合う画素４同士の間の領域に配置されている。カラーフィルタ層３４は、画素４の領域に対応して配置されている。カラーフィルタ層３４は、例えばアクリル樹脂等からなり、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色に対応する色材を含有している。オーバーコート層３５は、遮光層３２とカラーフィルタ層３４とを覆うように形成されている。

対向基板３０の液晶層４０に接する側には配向膜３６が形成されている。配向膜３６は、例えばポリイミド樹脂からなる。配向膜３６の表面には、例えば、観察側から見て信号線１４の延在方向に対して時計回りの方向に５度の角度をなす方向を配向方向（図３（ｂ）参照）として、配向膜２８のラビングの向きとは１８０度異なる向きに、ラビング処理等の配向処理が施されている。

液晶層４０は、素子基板１０と対向基板３０との間に配置されている。液晶層４０の液晶分子は、画素電極１６と共通電極１８との間に電界が発生していない状態（オフ状態）では、配向膜２８と配向膜３６とに施された配向処理によって規制される配向方向（図３（ｂ）参照）に沿って水平に配向する。また、液晶層４０の液晶分子は、画素電極１６と共通電極１８との間に電界が発生している状態（オン状態）では、開口部１６ａの延在方向と直交する方向に発生する電界に沿って配向する。このように、液晶層４０では、オフ状態とオン状態とで液晶分子をツイストさせることにより、配向状態を制御している。

次に、パターン６０について説明する。図５は、第１の実施形態に係るパターン６０の平面図である。詳しくは、図１中のＢ部の拡大図である。

図５に示すように、パターン６０は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向、すなわち画素４の行方向および列方向に規則的に配列された複数の黒塗り状の点６１で構成されている。パターン６０は、例えば、Ｘ軸方向に１００行、Ｙ軸方向に１００列で配列された点６１で構成されている。点６１の径は、例えば１μｍ程度である。互いに隣り合う点６１同士の間隔は、例えば１μｍ程度である。したがって、点６１の配置ピッチは２μｍ程度である。なお、図５では、パターン６０における点６１の配列数を一部省略して表示している。

パターン６０における点６１の配列数は上記に限定されるものではなく、Ｘ軸方向に２００行、Ｙ軸方向に２００列であってもよい。また、Ｘ軸方向における行数にかかわらず、Ｙ軸方向には辺１０ａの長さに亘って点６１が配列されていてもよい。

パターン６０を構成する点６１のそれぞれは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向における配置位置に対応する２次元座標を有している。本実施形態では、点６１のそれぞれのＸ軸方向における座標をａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ・・・、Ｙ軸方向における座標を１、２、３、４、５・・・で表すものとする。この構成によれば、図５中にＤで示す点６１の座標はａ１となり、Ｅで示す点６１の座標はｈ１２となる。

パターン６０は、素子基板１０に半導体プロセスによりＴＦＴ素子２０等を形成する工程の中で形成された薄膜からなる。したがって、パターン６０は、画素４に対してＴＦＴ素子２０等と同等の位置精度を有している。

次に、液晶装置１００の光学設計条件について説明する。図６は、液晶装置１００の光学設計条件を説明する図である。偏光板４４，４５は、光学軸としての透過軸および吸収軸を有している。図６（ａ）に、偏光板４４の透過軸４４ａと偏光板４５の透過軸４５ａとを示す。偏光板４４の透過軸４４ａと偏光板４５の透過軸４５ａとは、互いに直交するように配置されている。

図６（ｂ）に示すように、画素電極１６のスリット状の開口部１６ａは、信号線１４の延在方向に沿って延在している。オン状態において画素電極１６と共通電極１８との間に発生する電界の方向は、信号線１４の延在方向と直交する方向、すなわち走査線１２の延在方向に沿った方向である。配向膜２８，３６のラビング方向は、信号線１４（開口部１６ａ）の延在方向に対して時計回りの方向に５度の角度をなす方向である。偏光板４４の透過軸４４ａは配向膜２８，３６のラビング方向に平行であり、偏光板４５の透過軸４５ａは配向膜２８，３６のラビング方向と直交している。なお、図６（ｂ）に示す透過軸やラビング方向は、液晶装置１００の観察側から見たときの配置である。

偏光板４４，４５の透過軸４４ａ，４５ａがこのような所定の位置に配置されていると、オフ状態において照明装置から液晶装置１００に入射した光は、偏光板４４によって透過軸４４ａに平行な直線偏光に変換されて液晶層４０に入射する。そして、同一の偏光状態で液晶層４０から射出された直線偏光は、その偏光方向が偏光板４５の透過軸４５ａと直交するため、偏光板４５で遮断されるので、液晶装置１００は暗表示となる。したがって、液晶装置１００はノーマリーブラックモードである。なお、偏光板４４の透過軸４４ａが配向膜２８，３６のラビング方向と直交しており、偏光板４５の透過軸４５ａが配向膜２８，３６のラビング方向に平行であってもよい。

ところで、配向膜２８，３６のラビング方向と偏光板４４，４５の透過軸４４ａ，４５ａとの相対的な位置関係にズレが生じると、オフ状態において入射した光が少量ではあるが透過することによるコントラスト低下や、背景色の着色等、表示品質の低下を招くこととなる。このため、液晶セル５０に偏光板４４，４５を貼り付ける際に、配向膜２８，３６のラビング方向に対して透過軸４４ａ，４５ａが光学設計上の所定の位置に配置されるように、液晶セル５０に対する偏光板４４，４５の相対的な位置関係を正確に合わせることが、液晶装置１００の表示品質を確保する上で重要である。

なお、液晶装置１００において、画素電極１６の開口部１６ａの延在方向や配向膜２８，３６のラビング方向等の光学設計条件は、上記の形態に限定されるものではない。また、液晶装置１００は、オフ状態で照明装置から入射した光が透過して明表示となるノーマリーホワイトモードであってもよい。液晶装置１００がノーマリーホワイトモードの場合は、偏光板４４の透過軸４４ａと偏光板４５の透過軸４５ａとが互いに平行に配置される。

＜液晶装置の製造方法＞
次に、第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法について図を参照して説明する。図７は、第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明するフローチャートである。図８、図９、図１０および図１１は、第１の実施形態に係る偏光板の位置合わせ方法および貼り付け方法を説明する図である。

図７において、工程Ｐ１１および工程Ｐ１２は素子基板１０を製造する工程であり、工程Ｐ２１および工程Ｐ２２は対向基板３０を製造する工程である。工程Ｐ１１および工程Ｐ１２と、工程Ｐ２１および工程Ｐ２２とはそれぞれ独立に行われる。工程Ｐ３１および工程Ｐ３２は、素子基板１０と対向基板３０とを組み合わせて液晶セル５０を用意する工程である。工程Ｐ３３は、一対の偏光板４４，４５を液晶セル５０に貼り付ける工程である。なお、工程Ｐ１１、工程Ｐ１２、工程Ｐ２１、工程Ｐ２２、工程Ｐ３１、工程Ｐ３２については詳述しないが、これらの工程においては公知の技術を適用することができる。

まず、素子基板１０を製造する工程と対向基板３０を製造する工程とを説明する。工程Ｐ１１では、基板１１上にＴＦＴ素子２０、共通配線１７、共通電極１８、ゲート絶縁層２２、絶縁層２４、画素電極１６、パターン６０等を形成する。ここで、パターン６０は、半導体プロセスによりＴＦＴ素子２０等を形成する工程の中で形成される。続いて、工程Ｐ１２では、これらの素子、電極等が形成された素子基板１０の表面に配向膜２８を形成し、配向膜２８の表面に図６（ｂ）に示す方向にラビング処理を施す。

次に、工程Ｐ２１では、基板３１上に遮光層３２、カラーフィルタ層３４、オーバーコート層３５等を形成する。続いて、工程Ｐ２２では、対向基板３０の表面に配向膜３６を形成し、配向膜３６の表面に図６（ｂ）に示す方向にラビング処理を施す。

次に、工程Ｐ３１では、素子基板１０と対向基板３０との貼り合わせを行う。貼り合わせは、素子基板１０または対向基板３０にシール剤４１を塗布し、アライメント（位置合わせ）をした後、素子基板１０と対向基板３０とを接触させ、圧着して行われる。続いて、工程Ｐ３２では、シール剤４１の開口部（注入口）から素子基板１０と対向基板３０との間に液晶を注入し、注入口を封止する。以上により、液晶セル５０が用意される。

次に、図８、図９、図１０および図１１を参照して第１の実施形態に係る偏光板の貼り付け方法を詳しく説明する。

工程Ｐ３３は、液晶セル５０および偏光板４４の位置関係を決定する第１の工程と、偏光板４４を液晶セル５０に貼り付ける第２の工程と、液晶セル５０および偏光板４５の位置関係を決定する第３の工程と、偏光板４５を液晶セル５０に貼り付ける第４の工程とを含んでいる。

なお、第１の工程において、液晶セル５０および偏光板４４の位置関係を決定して、その位置関係を維持したまま偏光板４４を液晶セル５０に貼り付ける方法も考えられる。しかしながら、偏光板４４を貼り付ける際に偏光板４４と液晶セル５０（素子基板１０）との間に気泡やゴミ等が入るのを防止する観点から、本実施形態では、偏光板の貼り付けに適した装置や環境下で偏光板４４を貼り付けるように、第１の工程とは別の第２の工程を設けている。第４の工程についても同様である。

第１の工程では、図８に示すように、液晶セル５０の素子基板１０の外側に、素子基板１０に対向させて偏光板４４を配置する。そして、液晶セル５０の対向基板３０の外側に、対向基板３０に対向させて基準偏光子４６を配置する。基準偏光子４６は、図６（ｂ）に示す偏光板４５の透過軸４５ａと同じ方向の透過軸を有している。液晶セル５０と偏光板４４と基準偏光子４６とは、それぞれ保持部５２により、互いに平行に保持される。また、液晶セル５０と偏光板４４と基準偏光子４６とは、液晶セル５０の表面（素子基板１０、対向基板３０の表面）、偏光板４４の表面、および基準偏光子４６の法線方向を回転軸として回転可能に保持される。

保持部５２は、例えば吸着孔等を有し、液晶セル５０や偏光板４４および基準偏光子４６を吸着固定可能に構成されている。保持部５２は、例えば透光性を有する材料からなる。保持部５２の材料が非透光性である場合は、保持部５２に光を透過させる貫通孔等が設けられていてもよい。

続いて、基準偏光子４６の液晶セル５０とは反対側に光源５６を配置する。また、偏光板４４の液晶セル５０とは反対側に受光部５８を配置する。そして、光源５６からの光を、基準偏光子４６と液晶セル５０と偏光板４４とに順次入射させる。この基準偏光子４６と液晶セル５０と偏光板４４とを透過した光５７を受光部５８で受光し、光５７の強度を測定する。

光源５６としては、例えば可視光領域の波長を有する光を発するランプを用いてもよいし、発光ダイオード（ＬＥＤ）やレーザダイオード等を用いてもよい。また、受光部５８として、例えばフォトマルチメータ等を用いて、光５７の強度を電気信号に変換して測定してもよい。あるいは、受光部５８として輝度計等を用いて、光５７の輝度を測定してもよい。

なお、光源５６から射出される光が液晶セル５０の法線方向から入射するように、液晶セル５０に対して光源５６を相対的に配置することが望ましい。また、光源５６と受光部５８との位置関係は、図面上において上下逆であってもよい。

次に、図９に示すように、液晶セル５０と偏光板４４と基準偏光子４６とを対向させた状態を維持しながら、液晶セル５０と偏光板４４と基準偏光子４６とのうちの少なくとも２つを対向する面内で回転させる。ここでは、基準偏光子４６を固定し、液晶セル５０と偏光板４４とを回転させる。そして、光５７の強度の測定結果に基づいて光５７の強度が最小となるように、基準偏光子４６に対する液晶セル５０と偏光板４４との相対的な面内での位置関係を調整する。なお、図９では、保持部５２の図示を省略している。

このとき、基準偏光子４６の透過軸が対向基板３０の配向膜３６のラビング方向（図６（ｂ）参照）に直交し、偏光板４４の透過軸４４ａが素子基板１０の配向膜２８のラビング方向（図６（ｂ）参照）に平行になる所定の位置において、光５７の強度が最小となる。このようにして、基準偏光子４６と液晶セル５０と偏光板４４とを透過した光５７の強度の測定結果に基づいて位置関係を決定するので、液晶セル５０の配向方向と偏光板４４の透過軸４４ａとを光学的に位置合わせすることができる。以上で、液晶セル５０に対する偏光板４４の相対的な面内での位置関係が決定される。液晶セル５０に対する偏光板４４の位置関係が決定したら、基準偏光子４６を取り外す。

ところで、このように決定された位置関係において、図１０に示すように、素子基板１０の辺１０ａと、辺１０ａに対応する偏光板４４の辺４４ｂとが平行にならない場合、あるいは交差する場合があり、辺１０ａと辺４４ｂとがなす角度も必ずしも同じとはならない。このような場合、次の第２の工程において、光学的に決定された液晶セル５０と偏光板４４との位置関係を再現させて、偏光板４４の液晶セル５０への貼り付けを行わないと、液晶セル５０の配向方向に対する偏光板４４の透過軸４４ａの配置にズレが生じてしまう。なお、図１０では、偏光板４４に斜線を施して表示している。

そこで、本実施形態では、辺１０ａに対応する偏光板４４の辺４４ｂを基準辺とし、決定された液晶セル５０と偏光板４４との位置関係において、パターン６０が設けられた面に辺４４ｂを投影した場合に、パターン６０の２次元座標内を横断する辺４４ｂ上の少なくとも２点の位置座標情報を認識し記録する。

図１０において、例えば、辺４４ｂが点６１の辺１０ａ側に接する位置関係となる点６１として、Ｄで示す点６１とＦで示す点６１とが存在する。そこで、これらの点の位置座標情報として、Ｄで示す点６１の座標ａ１と、Ｆで示す点６１の座標ｂ１７とを記録する。これらの２点は、互いに間が離れた位置にあることが好ましい。位置座標情報は、座標値で記録してもよいし、画像等で記録してもよい。偏光板４４の辺４４ｂにおいて、３点以上の位置座標情報を記録してもよい。

また、パターン６０と辺４４ｂとの位置関係は、辺４４ｂが点６１の辺１０ａ側に接する位置関係に限定されず、辺４４ｂが点６１の辺１０ａとは反対側に接する位置関係であってもよいし、辺４４ｂが点６１の中心を通過する位置関係であってもよい。なお、偏光板４４の辺４４ｂが素子基板１０の辺１０ａに平行でないが、辺４４ｂが辺１０ａよりも図１０中の左側に位置しているためにパターン６０に平面的に重ならない場合は、必要に応じて、図１０におけるＸ軸方向に沿って偏光板４４を平行移動させてもよい。

次に、第２の工程では、第１の工程で記録された前述の位置座標情報に基づいて、第１の工程で決定された液晶セル５０に対する偏光板４４の位置関係を再現して、偏光板４４を液晶セル５０に貼り付ける。

次に、第３の工程では、図１１に示すように、液晶セル５０の偏光板４４が貼り付けられた側とは反対側、すなわち対向基板３０の側に、偏光板４５を配置する。液晶セル５０と偏光板４５とは、それぞれ保持部５２により、互いに平行に保持される。また、液晶セル５０と偏光板４５とは、液晶セル５０の表面（素子基板１０、対向基板３０の表面）および偏光板４５の法線方向を回転軸として回転可能に保持される。なお、図１１では、保持部５２の図示を省略している。

液晶セル５０の偏光板４４が貼り付けられた側に光源５６を配置し、偏光板４５の液晶セル５０とは反対側に受光部５８を配置する。光源５６と受光部５８との位置関係は、上下逆であってもよい。偏光板４４と液晶セル５０と偏光板４５とを透過した光５７を受光部５８で受光し、光５７の強度を測定する。

次に、液晶セル５０と偏光板４５とを対向させた状態を維持しながら、液晶セル５０と偏光板４５とのうちの少なくとも１つを対向する面内で回転させる。そして、光５７の強度の測定結果に基づいて光５７の強度が最小となるように、液晶セル５０と偏光板４５との相対的な面内での位置関係を調整する。

このとき、偏光板４４の透過軸４４ａは素子基板１０の配向膜２８のラビング方向（図６（ｂ）参照）に平行に配置されているので、偏光板４５の透過軸４５ａが対向基板３０の配向膜３６のラビング方向（図６（ｂ）参照）に直交する所定の位置において、光５７の強度が最小となる。このようにして、液晶セル５０に対する偏光板４５の相対的な面内での位置関係が光学的に決定される。

次に、図は省略するが、決定された位置関係において、偏光板４５の辺１０ａに対応する辺をパターン６０が設けられた面に投影した場合に、パターン６０に対して特定の位置関係となる偏光板４５の辺上の少なくとも２点の位置座標情報を認識し記録する。ただし、第３の工程では、偏光板４５が偏光板４４に平面的に重なる領域においては光５７が遮断されるので、偏光板４５が偏光板４４に平面的に重ならない領域において辺４４ｂの少なくとも２点の位置座標情報を記録すればよい。

次に、第４の工程では、第３の工程で記録された前述の位置座標情報に基づいて、第３の工程で決定された液晶セル５０に対する偏光板４５の位置関係を再現して、偏光板４５を液晶セル５０に貼り付ける。以上により、液晶装置１００が完成する。

なお、本実施形態では液晶装置１００がノーマリーブラックモードである場合を例としたが、本実施形態に係る液晶装置の製造方法は、液晶装置１００がノーマリーホワイトモードである場合にも適用することができる。液晶装置１００がノーマリーホワイトモードである場合は、工程Ｐ３３において、光５７の強度が最大となるように、液晶セル５０と偏光板４４，４５との相対的な位置関係を調整すればよい。

この場合、第１の工程においては、基準偏光子４６の透過軸が対向基板３０の配向膜３６のラビング方向に平行になり、偏光板４４の透過軸４４ａが素子基板１０の配向膜２８のラビング方向に平行になる所定の位置において、光５７の強度が最大となる。第３の工程においては、偏光板４５の透過軸４５ａが対向基板３０の配向膜３６のラビング方向に平行になる所定の位置において、光５７の強度が最大となる。

また、本実施形態では第１の工程で先に偏光板４４の貼り付けを行い、その後に第３の工程で偏光板４５の貼り付けを行ったが、第１の工程で先に偏光板４５の貼り付けを行ってもよい。この場合、第１の工程において、偏光板４４の透過軸４４ａと同じ方向の透過軸を有する基準偏光子４６を、素子基板１０側に配置すればよい。

上記第１の実施形態によれば、以下の効果が得られる。

第１の工程で、光学的に決定された液晶セル５０および偏光板４４，４５の相対的な面内での位置関係を、素子基板１０の一辺部に設けられた２次元座標を有するパターン６０に対する偏光板４４，４５の少なくとも２点の位置座標情報により記録する。このため、第２の工程では、第１の工程において記録された位置座標情報に基づき、光学的に決定された液晶セル５０および偏光板４４，４５の相対的な面内での位置関係を再現して、偏光板４４，４５を液晶セル５０に貼り付けることができる。これにより、液晶セル５０および偏光板４４，４５の相対的な位置ズレを低減できる。これにより、液晶装置１００のコントラスト低下等が抑えられるので、液晶装置の表示品質を向上できる。

なお、工程Ｐ３１で素子基板１０と対向基板３０との貼り合わせを行う際に、素子基板１０と対向基板３０との位置合わせ用のアライメントマークとして、パターン６０を用いることも可能である。

（第２の実施形態）
＜液晶装置＞
次に、第２の実施形態に係る液晶装置について図を参照して説明する。第２の実施形態に係る液晶装置は、第１の実施形態に係る液晶装置に対して、規則的に配列された２次元座標を有するパターンが複数箇所に設けられている点が異なっているが、その他の構成は同じである。図１２は、第２の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す図である。第１の実施形態と共通する構成要素については、同一の符号を付しその説明を省略する。

第２の実施形態に係る液晶装置２００は、図１２に示すように、素子基板１０の一辺部に、３箇所に規則的に配列された２次元座標を有するパターン６０ａ，６０ｂ，６０ｃが設けられている。パターン６０ａ，６０ｂ，６０ｃは、素子基板１０の辺１０ａに沿うように配置されている。パターン６０ｂは、素子基板１０と対向基板３０とが平面的に重なる領域内において、辺１０ａの略中央部に位置している。パターン６０ａ，６０ｃは、パターン６０ｂを間に挟んで、素子基板１０と対向基板３０とが平面的に重なる領域内において辺１０ａの両端側にそれぞれが位置している。

パターン６０ａ，６０ｂ，６０ｃのそれぞれは、第１の実施形態に係る液晶装置１００が備えるパターン６０と同様に、例えば、Ｘ軸方向に１００行、Ｙ軸方向に１００列で配列された点６１で構成されている。なお、パターン６０ａ，６０ｂ，６０ｃにおける点６１の配列数は上記に限定されない。

＜液晶装置の製造方法＞
次に、第２の実施形態に係る液晶装置の製造方法について説明する。第２の実施形態に係る液晶装置の製造方法は、第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法に対して、工程Ｐ３３において光学的に決定された位置関係をパターン６０ａ，６０ｂ，６０ｃのそれぞれに対する位置座標情報により記録する点が異なっているが、その他の工程は同じである。

図は省略するが、工程Ｐ３３の第１の工程では、光学的に決定された液晶セル５０および偏光板４４の相対的な面内での位置関係を、パターン６０ａ，６０ｂ，６０ｃのそれぞれに対する位置座標情報により、第１の実施形態と同様にして記録する。このとき、パターン６０ａ，６０ｂ，６０ｃのそれぞれに対して、偏光板４４の辺４４ｂにおける少なくとも１点の位置座標情報を記録する。第３の工程においても、光学的に決定された液晶セル５０および偏光板４５の相対的な面内での位置関係を、パターン６０ａ，６０ｂ，６０ｃのそれぞれに対する位置座標情報により記録する。

第２の実施形態の構成によれば、３箇所にパターン６０ａ，６０ｂ，６０ｃが設けられているので、パターン６０ａ，６０ｂ，６０ｃのそれぞれに対して位置座標情報を記録できる。このため、離れた位置における少なくとも３点の位置座標情報を記録できる。これにより、決定された液晶セル５０および偏光板４４，４５の相対的な面内での位置関係を、より正確に再現できる。

なお、本実施形態ではパターンが３箇所に設けられる構成を例としたが、パターンは２箇所に設けられていてもよいし、４箇所以上に設けられていてもよい。

（第３の実施形態）
＜液晶装置＞
次に、第３の実施形態に係る液晶装置について図を参照して説明する。第３の実施形態に係る液晶装置は、第１の実施形態に係る液晶装置に対して、規則的に配列された２次元座標を有するパターンが偏光板４４，４５にも設けられている点が異なっているが、その他の構成は同じである。図１３は、第３の実施形態に係る偏光板４４の平面図である。詳しくは、偏光板４４を対向基板３０側からから見たときの平面図であるとともに、偏光板４４の一部の拡大図である。

図１３に示すように、偏光板４４の一辺部には、規則的に配列された２次元座標を有するパターン６２が設けられている。パターン６２は、偏光板４４の辺４４ｂに沿うように配置されている。パターン６２は、第１の実施形態におけるパターン６０と同様に、Ｘ軸方向に１００行、Ｙ軸方向に１００列で規則的に配列された黒塗り状の点６３で構成されている。点６３の径および配置ピッチは、パターン６０における点６１の径および配置ピッチと同じである。なお、図１３では、パターン６２における点６３の配列数を一部省略して表示している。

なお、パターン６２における点６３の配列数は上記に限定されない。また、点６３の径は点６１の径と異なっていてもよいし、点６３の配置ピッチは点６１の配置ピッチと異なっていてもよい。

パターン６２を構成する点６３のそれぞれは、第１の実施形態におけるパターン６０と同様に、Ｘ軸方向およびＹ軸方向における配置位置に対応する２次元座標を有している。パターン６２においても、点６３のそれぞれのＸ軸方向における座標をａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ・・・、Ｙ軸方向における座標を１、２、３、４、５・・・で表すものとする。

パターン６２を構成する点６３は、例えば、所謂マイクロコンタクトプリンティングに用いるスタンプのように高精細のスタンプ等を用いて、偏光板４４の表面に印刷されたものである。点６３は、液滴吐出法により印刷されたものであってもよい。

図は省略するが、偏光板４５にも、偏光板４４におけるパターン６２と同様のパターンが、素子基板１０の辺１０ａに対応する偏光板４５の一辺部に設けられている。

＜液晶装置の製造方法＞
次に、第３の実施形態に係る液晶装置の製造方法について説明する。第３の実施形態に係る液晶装置の製造方法は、第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法に対して、工程Ｐ３３において光学的に決定された位置関係を、偏光板４４のパターン６２における少なくとも２点の、素子基板１０のパターン６０に対する位置座標情報により記録する点が異なっているが、その他の工程は同じである。図１４は、第３の実施形態に係る偏光板の位置合わせ方法および貼り付け方法を説明する図である。

工程Ｐ３３の第１の工程では、図１４に示すように、光学的に決定された位置関係において、パターン６０が設けられた面に偏光板４４のパターン６２を投影した場合に、パターン６０に対して特定の位置関係となるパターン６２の少なくとも２点の位置座標情報を記録する。なお、図１４において、構成をわかりやすく示すため、偏光板４４に斜線を施して表示するとともに、点６３を白抜きで表示している。

図１４において、例えば、点６１と点６３とが平面的に重なる位置関係となる点６１（点６３）として、Ｇで示す点６１（点６３）とＨで示す点６１（点６３）とが存在する。そこで、Ｇで示す点６１の座標ｆ６および点６３の座標ｆ６と、Ｈで示す点６１の座標ｆ１８および点６３の座標ｅ１８とを記録する。

また、図は省略するが、第３の工程では、第１の工程と同様にして、パターン６０の点６１を基準として偏光板４５のパターンにおける少なくとも２点の位置座標情報を記録する。

第３の実施形態の構成によれば、第１の実施形態と同様に、光学的に決定された液晶セル５０と偏光板４４，４５との相対的な位置関係を再現できる。なお、本実施形態の構成を第２の実施形態の構成に適用しても、第２の実施形態と同等の効果が得られる。

＜電子機器＞
上述した液晶装置１００，２００は、例えば、図１５に示すように、電子機器としての携帯電話機５００に搭載して用いることができる。携帯電話機５００は、表示部５０２に液晶装置１００，２００を備えている。この構成により、表示部５０２を有する携帯電話機５００は優れた表示品質を有している。

また、電子機器は、モバイルコンピュータ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、オーディオ機器、液晶プロジェクタであってもよい。

以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。変形例としては、例えば以下のようなものが考えられる。

（変形例１）
第１の実施形態および第２の実施形態では、素子基板に２次元座標を有するパターンが設けられた構成であったが、この形態に限定されない。２次元座標を有するパターンが、素子基板ではなく、偏光板に設けられていてもよい。このような構成であっても、偏光板の一辺部に設けられた２次元座標を有するパターンに対する素子基板の少なくとも２点の位置座標情報を記録することで、光学的に決定された液晶セルおよび偏光板の相対的な面内での位置関係を再現して、偏光板を液晶セルに貼り付けることができる。また、２次元座標を有するパターンが、素子基板ではなく対向基板に設けられていてもよい。

（変形例２）
上記実施形態では、素子基板または偏光板に設けられた２次元座標を有するパターンは黒塗り状の点で構成されていたが、この形態に限定されない。２次元座標を有するパターンは、図１６（ａ）に示すように、プラス（＋）状に白抜きされた点６５が行方向および列方向に配列されて構成されたパターン６４であってもよいし、図１６（ｂ）に示すように、中心部が白抜きされた点６７が行方向および列方向に配列されて構成されたパターン６６であってもよい。パターンがこのような構成であると、例えば、素子基板または偏光板のうちの一方の辺が、他方に設けられたパターンの点の中心を通過する位置関係の認識が容易にできる。

また、２次元座標を有するパターンは、図１６（ｃ）に示すように、互いに交差して配列された線６９ａ，６９ｂで構成されたパターン６８であってもよい。パターン６８において、例えば、線６９ａはＸ軸に平行に配列されており、線６９ｂはＹ軸に平行に配列されている。パターン６８において、線６９ａがＹ軸に対して時計回りの方向に４５度の角度をなす方向に配列され、線６９ｂがＹ軸に対して反時計回りの方向に４５度の角度をなす方向に配列されていてもよい。第３の実施形態のように素子基板および偏光板の双方にパターンが設けられている場合において、素子基板または偏光板のうちの一方にパターン６８のような線で構成されたパターンが設けられており、他方に点で構成されたパターンが設けられていると、これらのパターン同士の位置関係の認識が容易にできる。

さらには、２次元座標を有するパターンは、点や線以外の要素で構成されたパターンであってもよい。

（変形例３）
上記の実施形態では、液晶装置は偏光板からなる偏光体を備えた構成であったが、この形態に限定されない。偏光体が偏光板の他に光学補償板等の光学フィルムを備えた構成であっても、上記実施形態の液晶装置の製造方法を適用することができる。

（変形例４）
上記の実施形態では、液晶装置はＦＦＳ方式の透過型の液晶装置であったが、この形態に限定されない。液晶装置は、ＦＦＳ方式と同様に横電界により液晶分子の配向制御を行うＩＰＳ（In-Plane Switching）方式の液晶装置であってもよい。また、液晶装置は、素子基板と対向基板との間に生じる縦電界により液晶分子の配向制御を行う、ＴＮ（Twisted Nematic）方式、ＶＡ（Vertical Alignment）方式やＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）方式等の液晶装置であってもよい。さらに、液晶装置は、透過表示領域と反射表示領域とを有する半透過反射型の液晶装置であってもよい。これらの液晶装置であっても、上記実施形態の液晶装置の製造方法を適用することができる。

（変形例５）
上記の実施形態では、電気光学装置は液晶装置であったが、この形態に限定されない。電気光学装置は、有機エレクトロルミネセンス装置（有機ＥＬ装置）や電気泳動装置等であってもよい。これらの電気光学装置が光学フィルムを備える構成であれば、電気光学パネルと光学フィルムとの位置関係を決定して光学フィルムを貼り付ける工程に、上記実施形態の液晶装置の製造方法を適用することができる。

第１の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す図。 第１の実施形態に係る液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図。 第１の実施形態に係る液晶装置の画素の構成を説明する図。 図３（ａ）中のＣ−Ｃ’線に沿った断面図。 第１の実施形態に係るパターンの平面図。 第１の実施形態に係る液晶装置の光学設計条件を説明する図。 第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明するフローチャート。 第１の実施形態に係る偏光板の位置合わせ方法および貼り付け方法を説明する図。 第１の実施形態に係る偏光板の位置合わせ方法および貼り付け方法を説明する図。 第１の実施形態に係る偏光板の位置合わせ方法および貼り付け方法を説明する図。 第１の実施形態に係る偏光板の位置合わせ方法および貼り付け方法を説明する図。 第２の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す図。 第３の実施形態に係る偏光板の平面図。 第３の実施形態に係る偏光板の位置合わせ方法および貼り付け方法を説明する図。 本実施の形態に係る電子機器を示す図。 変形例２に係るパターンの構成を示す図。

符号の説明

２…表示領域、４…画素、１０…素子基板、１０ａ…辺、１１…基板、１２…走査線、１３…信号線駆動回路、１４…信号線、１５…走査線駆動回路、１６…画素電極、１６ａ…開口部、１７…共通配線、１８…共通電極、１９…保持容量、２０…ＴＦＴ素子、２０ａ…半導体層、２０ｄ…ドレイン電極、２０ｇ…ゲート電極、２０ｓ…ソース電極、２２…ゲート絶縁層、２４…絶縁層、２４ａ…コンタクトホール、２８，３６…配向膜、３０…対向基板、３１…基板、３２…遮光層、３４…カラーフィルタ層、３５…オーバーコート層、４０…液晶層、４１…シール剤、４２…ドライバＩＣ、４４，４５…偏光板、４４ｂ…辺、４６…基準偏光子、５０…液晶セル、５２…保持部、５６…光源、５７…光、５８…受光部、６０，６２…パターン、６１，６３…点、１００，２００…液晶装置、５００…携帯電話機、５０２…表示部。

Claims (15)

1. 電気光学パネルの一方の面の外側に光学フィルムを対向配置させた状態で、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムのうちの少なくとも一方を対向する面内で回転させて、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムの相対的な面内での位置関係を光学的に決定する第１の工程と、
   前記第１の工程で決定された前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムの前記位置関係の情報に基づいて、前記光学フィルムを前記電気光学パネルに貼り付ける第２の工程と、を含み、
   前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムのうちの少なくとも一方の一辺部には、配列された２次元座標を有するパターンが設けられており、
   前記第１の工程における前記位置関係の決定は、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムのうちの一方に設けられた前記パターンに対する、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムのうちの他方における少なくとも２点の位置座標情報を記録し、
   前記第２の工程では、前記第１の工程で記録された前記位置座標情報に基づいて、前記第１の工程で決定された前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムの前記位置関係を再現することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
2. 請求項１に記載の電気光学装置の製造方法であって、
   前記電気光学パネルまたは前記光学フィルムのいずれか一方には前記パターンが設けられておらず、
   前記第１の工程では、前記パターンが設けられていない前記一方の一辺部が、他方の一辺部に設けられた前記パターンの２次元座標内を横断する前記少なくとも２点の前記位置座標情報を記録することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
3. 請求項１に記載の電気光学装置の製造方法であって、
   前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムの双方に前記パターンが設けられており、
   前記第１の工程では、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムのうちの一方の前記パターンにおける前記少なくとも２点の、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムのうちの他方の前記パターンに対する前記位置座標情報を記録することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
4. 請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
   前記パターンは、前記一辺部において複数箇所に設けられていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
5. 請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
   前記パターンは、行方向および列方向に配列された点で構成されていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
6. 請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
   前記パターンは、互いに交差して配列された線で構成されていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
7. 請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
   前記電気光学パネルは、互いに対向して配置された第１の基板および第２の基板と、前記第１の基板および前記第２の基板の間に挟持された液晶層と、を備えた液晶セルであり、
   前記光学フィルムは、偏光体であり、
   前記第１の工程では、前記液晶セルと前記偏光体とを透過した光の強度の測定結果に基づいて前記位置関係を決定することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
8. 電気光学パネルと、
   前記電気光学パネルの少なくとも一方の面に配置された光学フィルムと、を備え、
   前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムのうちの少なくとも一方の一辺部には、配列された２次元座標を有するパターンが設けられていることを特徴とする電気光学装置。
9. 請求項８に記載の電気光学装置であって、
   前記パターンは、前記電気光学パネルまたは前記光学フィルムのいずれか一方に設けられていることを特徴とする電気光学装置。
10. 請求項８に記載の電気光学装置であって、
    前記パターンは、前記電気光学パネルおよび前記光学フィルムの双方に設けられていることを特徴とする電気光学装置。
11. 請求項８から１０のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
    前記パターンは、前記一辺部において複数箇所に設けられていることを特徴とする電気光学装置。
12. 請求項８から１１のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
    前記パターンは、行方向および列方向に配列された点で構成されていることを特徴とする電気光学装置。
13. 請求項８から１１のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
    前記パターンは、互いに交差して配列された線で構成されていることを特徴とする電気光学装置。
14. 請求項８から１３のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
    前記電気光学パネルは、互いに対向して配置された第１の基板および第２の基板と、前記第１の基板および前記第２の基板の間に挟持された液晶層と、を備えた液晶セルであり、
    前記光学フィルムは、偏光体であることを特徴とする電気光学装置。
15. 請求項８から１４のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。

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