JP2010091779A - 光源ユニット及びこれを備えた光走査装置 - Google Patents

光源ユニット及びこれを備えた光走査装置 Download PDF

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Abstract

【課題】光源の位置と光学素子の位置との微調整を行うことができ、かつ、フォーカスずれ及びビーム位置ずれが発生することを抑制できる光源ユニット及びこれを備えた光走査装置を提供する。
【解決手段】LD6は、LDホルダ4に取り付けられ、かつ、ビームを放射する。コリメータレンズは、ベース部12に取り付けられ、かつ、ビームを集光する。LDホルダ4は、コリメータレンズの光軸に垂直であってかつベース部12に平行なy軸方向において、ベース部12と壁部14との接合部Jの両端よりも光軸から離れた位置であってかつベース部12を挟む少なくとも2箇所以上の位置において、該壁部14に対して固定されている。壁部14には、光軸を含みかつベース部12に垂直な所定平面に対して面対称な構造を有する低強度部であって、かつ、壁部14の所定の部分の強度を該壁部14の他の部分の強度よりも低くさせる低強度部S1,S2を有している。
【選択図】図2

Description

本発明は、光源ユニット及びこれを備えた光走査装置に関し、より特定的には、光源及び光源からのビームを集光する光学素子を備えた光源ユニット及びこれを備えた光走査装置に関する。
従来の光走査装置に用いられる光源ユニットとしては、例えば、特許文献1に記載の光源装置が知られている。特許文献1に記載の光源装置では、平板と筒状部とからなるレーザホルダの筒状部に、半導体レーザが圧入されている。更に、筒状部の先端には、レンズホルダを介してコリメータレンズが取り付けられている。また、レーザホルダの平板部には、半導体レーザの回路基板が該平板部に対して平行に取り付けられていると共に、溝が形成されることにより低強度部が設けられている。
特許文献1には、以下に説明するように、前記光源装置が、ビーム位置ずれを抑制できると記載されている。ビーム位置ずれとは、半導体レーザが放射したビームのコリメータレンズに対する照射位置が所定の設計値からずれることを意味する。
光源装置が使用されると、光源装置の温度が上昇する。レーザホルダと回路基板とは、異なる線膨張係数を有しているので、レーザホルダの伸び量と回路基板の伸び量とは異なっている。そのため、通常では、レーザホルダが湾曲してしまい、ビーム射出方向がずれてしまうおそれがある。そこで、特許文献1に記載の光源装置では、レーザホルダの平板部に低強度部が設けられている。これにより、レーザホルダの変形が、低強度部で局所的に発生するようになる。その結果、レーザホルダが圧入されている孔付近での変形が抑制されるようになり、ビーム位置ずれが抑制される。
ところで、特許文献1に記載の光源装置において、コリメータレンズは、半導体レーザが照射したビームを集光するので、レンズホルダ及び半導体レーザは、互いに位置合わせされた状態でレーザホルダに対して精度良く取り付けられる必要がある。しかしながら、特許文献1に記載の光源装置では、一つのレーザホルダにレンズホルダ及び半導体レーザの両方が直接に取り付けられている。そのため、レーザホルダにおいてレンズホルダの位置と半導体レーザの位置との微調整を行うことが困難である。
このような問題を解決しうる光源ユニットとしては、例えば、図10及び図11に示す光源ユニット100が考えられる。図10は、従来の光源ユニット100の構成を示した外観斜視図である。図11は、図10の光源ユニット100のA−Aにおける断面構造図である。以下に、光源ユニット100の構成について説明する。
図10及び図11に示すように、光源ユニット100は、光走査装置に用いられ、中間ホルダ102、LD(Laser Diode)ホルダ104、LD106、コリメータレンズ108(図10には図示せず)、レンズホルダ110及びねじ116a〜116c,120a,120b(図10には図示せず)を備えている。
中間ホルダ102は、ベース部112及び壁部114を有している。ベース部112は、溝Gを有していると共に、ねじ116a〜116cにより、図示しない光走査装置のハウジングに取り付けられている。壁部114は、ベース部112に対して垂直となるように設けられており、孔H及びスリットSを有している。LDホルダ104は、ねじ120a,120bにより、壁部114に取り付けられている。
LD106は、LDホルダ104に取り付けられており、ビームBを放射する。ビームBは、孔Hを通過し、コリメータレンズ108に入射する。コリメータレンズ108は、ビームBを平行光となるように集光する。レンズホルダ110は、コリメータレンズ108を保持する筒状部材であり、ベース部112の溝Gに取り付けられている。
以上のような光源ユニット100では、LDホルダ104とレンズホルダ110との間に中間ホルダ102が設けられているので、中間ホルダ102において、LDホルダ104の位置の微調整が可能である。よって、LD106とコリメータレンズ108との位置合わせを中間ホルダ102上において行うことができる。更に、光源ユニット100は、特許文献1に記載の光源装置の低強度部に相当するスリットSが設けられているので、温度変化によるフォーカスずれ及びビーム位置ずれを抑制できるとも考えられる。フォーカスずれとは、コリメータレンズの焦点が所定の設計値からずれることを意味する。
しかしながら、本願発明者が行ったコンピュータシミュレーションによれば、光源ユニット100では、フォーカスずれ及びビーム位置ずれが発生していることが分かった。図12は、光源ユニット100の使用時に発生する光源ユニット100の各部の変形量を計算した結果である。なお、変形量は、理解の容易のために、誇張して示してある。
まず、フォーカスずれについて説明する。図12に示すように、光源ユニット100では、温度上昇により、LDホルダ104が相対的に大きく湾曲しているのに対して、壁部114が相対的に小さく湾曲している。そのため、LD106が、ビームBの進行方向側に変位してしまい、LD106とコリメータレンズ108との距離L100が短くなっている。その結果、光源ユニット100では、フォーカスずれが発生している。理由は以下の通りである。
図11及び図12に示すように、スリットSは、ビームBに対して対象に設けられていない。更に、壁部114は、図11及び図12に示すように、ビームBと垂直な方向において、全長にわたってベース部112と接合されている。そのため、壁部114は、十分に湾曲することができない。その結果、図12に示すように、LDホルダ104が、壁部114に比べて大きく湾曲してしまい、LD106が、コリメータレンズ108に近づいてしまう。すなわち、光源ユニット100においてフォーカスずれが発生する。
次に、ビーム位置ずれについて説明する。LD106は、図12に示すように、ねじ120a側(すなわち、図12の上側)に変位している。理由は以下の通りである。
図12に示すように、光源ユニット100では、ビームBに対して非対称にスリットSが設けられている。壁部114において、スリットSが設けられている部分は、他の部分に比べて強度が低いので、湾曲し易い。そのため、温度変化時に、壁部114がLDホルダ104に引っ張られると、壁部114において、スリットSが設けられている部分が、スリットSが設けられていない部分よりも大きく湾曲する。その結果、LD106は、図12に示すように、ねじ120a側(すなわち、図12の上側)に変位してしまう。すなわち、光源ユニット100において、ビーム位置ずれが発生する。
特開2003−295088号公報
そこで、本発明の目的は、光源の位置と光学素子の位置との微調整を行うことができ、かつ、フォーカスずれ及びビーム位置ずれが発生することを抑制できる光源ユニット及びこれを備えた光走査装置を提供することである。
本発明の一形態に係る光源ユニットは、光走査装置に用いられる光源ユニットにおいて、ベース部、及び、該ベース部に立設されている壁部を有する第1のホルダと、前記壁部に取り付けられている第2のホルダと、前記第2のホルダに取り付けられ、かつ、ビームを放射する光源と、前記ベース部に取り付けられ、かつ、前記ビームを集光する光学素子と、を備えており、前記第2のホルダは、前記光学素子の光軸に垂直であってかつ前記ベース部に平行な所定方向において、該ベース部と前記壁部とが接合されている部分の両端よりも該光軸から離れた位置であってかつ該ベース部を挟む少なくとも2箇所以上の位置において、該壁部に対して固定されており、前記壁部には、前記光軸を含みかつ前記ベース部に垂直な所定平面に対して面対称な構造を有する低強度部であって、該壁部の所定の部分の強度を該壁部の他の部分の強度よりも低くさせる低強度部が設けられていること、を特徴とする。
また、本発明のその他の形態に係る光走査装置は、前記光源ユニットを備えていることを特徴とする。
以下、本発明の実施形態に係る光源ユニット及びこれを備えた光走査装置について、図面を参照しながら説明する。
(光走査装置)
図1は、本発明の実施形態に係る光源ユニットを備えた光走査装置50の概略斜視図である。図1に示す光走査装置50は、概略、光源ユニット1、ポリゴンミラー32、走査レンズ34,36、折り返しミラー38及びハウジング40により構成されており、画像形成装置に搭載される。なお、光源ユニット1は、後述する第1の実施形態ないし第3の実施形態では、光源ユニット1a〜1cと記載する。
光源ユニット1から放射されたビームBは、主走査方向に略平行な光に整形されており、ポリゴンミラー32に入射する。ポリゴンミラー32に入射したビームBは、主走査方向に等角速度に偏向され、走査レンズ34,36を透過することで収差を補正され、折り返しミラー38にて反射して感光体ドラム42上で結像する。感光体ドラム42は所定速度で回転駆動され、ビームによる主走査と感光体ドラム42の回転による副走査にて2次元の画像(静電潜像)が形成される。ハウジング40は、光源ユニット1、ポリゴンミラー32、走査レンズ34,36及び折り返しミラー38を保持している筐体である。
(第1の実施形態)
次に、第1の実施形態に係る光源ユニット1aについて図面を参照しながら説明する。図2は、第1の実施形態に係る光源ユニット1aの外観斜視図である。図3は、図1の光源ユニット1aのA−Aにおける断面構造図である。
光源ユニット1aは、図2及び図3に示すように、中間ホルダ2、LDホルダ4、LD6、コリメータレンズ8(図2では図示せず)、レンズホルダ10及びねじ16a,16b,20a,20b(図2では図示せず)を備えている。図2及び図3において、コリメータレンズ8の光軸が延在している方向をx軸方向と定義し、主走査方向をy軸方向と定義し、副走査方向をz軸方向と定義する。x軸方向、y軸方向及びz軸方向は、互いに直交している。
中間ホルダ2は、ベース部12及び壁部14を有しており、アルミダイキャスト製である。ベース部12は、図1のハウジング40にねじ16a〜16cにより取り付けられる長方形状の板状部材であり、xy平面に対して平行である。また、ベース部12は、x軸方向に延在しているV字型の溝Gを有している。
壁部14は、ベース部12に対して略垂直となるように立設されている長方形状の板状部材であり、yz平面に対して平行である。ベース部12及び壁部14は、一体的に形成されており、ベース部12と壁部14との接合部Jは、図2に示すように、y軸方向に延在している。また、壁部14は、y軸方向に長手方向を有しており、壁部14の両端は、接合部Jからy軸方向の正方向及び負方向のそれぞれにはみ出している。
LDホルダ4は、中間ホルダ2とは異なる線膨張係数を有する材料であるSUS製の板状部材であり、図3に示すように、ねじ20a,20bにより、壁部14のx軸方向の負方向側の主面に所定の隙間を介して平行に取り付けられている。ねじ20a,20bは、スプリングワッシャ及びワッシャが嵌め込まれ、LDホルダ4に設けられた長孔を通過し、壁部14に設けられたねじ孔に取り付けられている。
LD6は、LDホルダ4に取り付けられており、複数のビームBを放射するマルチビームLDである。ビームBは、壁部14に設けられている孔Hを通過し、コリメータレンズ8に入射する。コリメータレンズ8は、ビームBを平行光となるように集光する。レンズホルダ10は、コリメータレンズ8を保持する筒状部材であり、ベース部12の溝Gに取り付けられている。すなわち、コリメータレンズ8は、レンズホルダ10を介してベース部12に取り付けられている。レンズホルダ10は、例えば、接着剤により溝G上に固定される。
次に、LDホルダ4の壁部14への取り付け位置について説明する。LDホルダ4は、コリメータレンズ8の光軸に垂直であってかつベース部12に平行な方向(すなわち、y軸方向)において、接合部Jの両端よりも該光軸から離れた位置であってかつベース部12を挟む2箇所の位置において、壁部14に対してねじ20a,20bにより固定されている。すなわち、LDホルダ4は、壁部14の接合部Jからはみ出している部分のそれぞれにおいて、該壁部14に対して固定されている。そして、LDホルダ4は、壁部14の接合部Jとx軸方向に重なる位置においては、該壁部14に対して固定されていない。
次に、壁部14に設けられている低強度部S1,S2について説明する。低強度部S1,S2は、壁部の所定の部分の強度を壁部14の他の部分の強度よりも低くさせる構造である。具体的には、図2及び図3に示すように、低強度部S1,S2は、z軸方向に延在する溝である。壁部14において、低強度部S1,S2が設けられている部分の厚みは、x軸方向において、低強度部S1,S2が設けられている部分以外の部分の厚みよりも薄くなっている。
また、低強度部S1,S2は、図2に示すように、コリメータレンズ8の光軸を含みかつベース部12に垂直な平面に対して面対称な構造を有している。すなわち、低強度部S1,S2は、図3に示す断面構造図において、コリメータレンズ8の光軸に対して線対称な構造を有している。更に、低強度部S1,S2は、図2に示すように、y軸方向において、接合部Jの両端よりも、コリメータレンズ8の光軸に近い位置に設けられている。
(効果)
以上のように構成された光源ユニット1aによれば、以下に説明するように、フォーカスずれ及びビーム位置ずれを抑制することができる。本願発明者は、かかる効果を明確にするために、コンピュータシミュレーションを行った。具体的には、図2及び図3に示す光源ユニット1aのモデルを作製し、該モデルの温度を上昇させて、各部の変形量を計算した。図4は、光源ユニット1aの使用時に発生する光源ユニット1aの各部の変形量を計算した結果である。
まず、フォーカスずれについて説明する。中間ホルダ2は、アルミニウムにより作製され、2.1×10-5/℃の線膨張係数を有し、LDホルダ4は、SUSにより作製され、1.7×10-5/℃の線膨張係数を有している。そのため、光源ユニット1aの使用により中間ホルダ2及びLDホルダ4の温度が上昇した場合には、中間ホルダ2の方がLDホルダ4よりも大きく膨張する。したがって、図4に示すように、中間ホルダ2の壁部14のy軸方向の両端は、LDホルダ4によりx軸方向の負方向側に引っ張られる。その結果、壁部14及びLDホルダ4は、x軸方向の正方向側に突出するように湾曲する。
ここで、図2及び図3に示すように、LDホルダ4は、y軸方向おいて、接合部Jの両端よりも該光軸から離れた位置であってかつベース部12を挟む2箇所の位置において、壁部14に対してねじ20a,20bにより固定されている。したがって、LDホルダ4は、ベース部12と壁部14とが接合されていない部分(すなわち、壁部14のベース部12からはみ出している部分)において、壁部14と接続されている。壁部14において、ベース部12と壁部14とが接合されていない部分は、ベース部12と壁部14とが接合されている部分に比べて、x軸方向の力により湾曲しやすい。そのため、図4に示すように、光源ユニット1aの使用時における温度上昇によって、LDホルダ4が湾曲したら、LDホルダ4からの力により、壁部14もLDホルダ4に倣って湾曲するようになる。その結果、LDホルダ4の湾曲により、LD6がx軸方向の正方向側に変位したとしても、壁部14の湾曲により、LDホルダ4全体がx軸方向の負方向側に変位させられて、LD6は、初期位置付近に戻るようになる。すなわち、LD6は、x軸方向に変動することが抑制され、LD6とコリメータレンズ8(図4には図示せず)との距離L1が変動することが抑制される。以上より、光源ユニット1aでは、フォーカスずれの発生が抑制される。
次に、ビーム位置ずれについて説明する。壁部14は、x軸方向に力が加わった際に、低強度部S1,S2が設けられている部分において他の部分よりも湾曲し易くなっている。そのため、光源ユニットの使用時における温度上昇によって、LDホルダ4が湾曲したら、LDホルダ4からの力により、壁部14は、低強度部S1,S2が設けられている部分において大きく湾曲する。ここで、光源ユニット1aでは、低強度部S1,S2は、コリメータレンズ8の光軸を含みかつベース部12に垂直な平面に対して面対称な構造を有している。そのため、壁部14は、図4に示すように、LDホルダ4からの力により、該平面に対して面対称な形状に湾曲するようになり、LDホルダ4も、該平面に対して面対称な形状に湾曲する。これにより、LD6は、y軸方向にずれることが抑制される。以上より、光源ユニット1aでは、ビーム位置ずれの発生が抑制される。
また、光源ユニット1aによれば、LD6がマルチビームLDであってもフォーカスずれ及びビーム位置ずれの発生を効果的に抑制できる。より詳細には、近年、感光体ドラム42に高速で静電潜像を形成するために、複数のビームを同時に感光体ドラム42に照射することが行われている。そこで、LD6として、複数のビームBを放射できるマルチビームLDが用いられる。この場合、マルチビームLD自体が大型なのでLD6が大型化し、更に、複数のビームBの照射の制御が必要なのでLD6の回路基板が大型化する。そのため、図2及び図3のねじ20a,20bの間隔が大きくなってしまう。ねじ20a,20bの間隔が大きくなると、LDホルダ4及び壁部14の湾曲量も大きくなる。そのため、フォーカスずれ及びビーム位置ずれの問題も顕著になる。そこで、前記のように低強度部S1,S2を設けると共にLDホルダ4を壁部14に対して固定すれば、フォーカスずれ及びビーム位置ずれの発生を効果的に抑制できる。
また、光源ユニット1aでは、中間ホルダ2に対してLDホルダ4及びレンズホルダ10が取り付けられている。故に、中間ホルダ2に対してLDホルダ4を移動させてLD6の位置の微調整を行うことができると共に、中間ホルダ2に対してレンズホルダ10を移動させてコリメータレンズ8を移動させることができる。よって、光源ユニット1aでは、LD6とコリメータレンズ8との相対的な位置関係の微調整を行うことができるようになり、LD6とコリメータレンズ8との光軸合わせ等を精度良く行うことができる。
また、光源ユニット1aでは、ねじ20a,20bが通されるLDホルダ4の孔は、長孔である。これにより、壁部14に対してLDホルダ4を動かすことができるようになる。その結果、LD6をyz平面内において平行移動させてLD6とコリメータレンズ8との光軸合わせを行うことができると共に、LD6を回転させて複数のビームBの副走査方向のピッチを調整することができる。
また、光源ユニット1aでは、レンズホルダ10は、x軸方向に延在している溝G上に取り付けられている。そのため、LD6とコリメータレンズ8との光軸合わせ及びビームBのピッチ調整を行った後に、LD6から放射されるビームBが略平行光に集光されるように、レンズホルダ10の位置を調整することができる。
また、低強度部S1,S2は、図2に示すように、y軸方向において、接合部Jの両端よりも、コリメータレンズ8の光軸に近い位置に設けられている。これにより、以下に説明するように、光源ユニット1aの使用時において、壁部14が大きく振動してしまうことが防止される。より詳細には、低強度部S1,S2が、接合部Jの両端よりも、コリメータレンズ8の光軸に遠い位置に設けられた場合には、y軸方向において壁部14がベース部12からはみ出した部分の強度が相対的に低くなる。この場合、壁部14がベース部12からはみ出した部分の共振周波数が相対的に低くなり、光源ユニット1aの使用時に生じる振動によって、壁部14のベース部12からはみ出した部分が、大きく振動し易くなる。
そこで、光源ユニット1aでは、低強度部S1,S2は、y軸方向において、接合部Jの両端よりも、コリメータレンズ8の光軸に近い位置に設けられている。これにより、y軸方向において壁部14がベース部12からはみ出した部分の強度が相対的に高くなる。その結果、壁部14がベース部12からはみ出した部分の共振周波数が相対的に高くなり、光源ユニット1aの使用時に生じる振動によって、壁部14のベース部12からはみ出した部分が大きく振動することが抑制される。
(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態に係る光源ユニット1bについて図面を参照しながら説明する。図5は、第2の実施形態に係る光源ユニット1bの外観斜視図である。図6は、図5の光源ユニット1bのA−Aにおける断面構造図である。なお、図5及び図6に示す光源ユニット1bでは、図2及び図3に示す光源ユニット1aと同じ構成については同じ参照符号を付してある。
光源ユニット1aと光源ユニット1bとの相違点は、低強度部S1〜S3の構造である。以下では、かかる相違点を中心に光源ユニット1bについて説明を行う。
光源ユニット1aでは、図2及び図3に示すように、2つの低強度部S1,S2が設けられている。これに対して、光源ユニット1bでは、図5及び図6に示すように、1つの低強度部S3が設けられている。該低強度部S3は、壁部14においてコリメータレンズ8の光軸を含みかつベース部12に垂直な平面が交差する部分に設けられている。
また、低強度部S3は、低強度部S1,S2のように溝ではなく、スリットである。より具体的には、低強度部S3は、z軸方向に壁部14を切り欠くスリットである。この際、低強度部S3は、コリメータレンズ8の光軸を含みかつベース部12に垂直な平面に対して面対称な構造を有するように形成される。
以上のように構成された光源ユニット1bは、光源ユニット1aと同様に、フォーカスずれ及びビーム位置ずれの発生を抑制できる。本願発明者は、かかる効果を明確にするために、コンピュータシミュレーションを行った。具体的には、図5及び図6に示す光源ユニット1bのモデルを作製し、該モデルの温度を上昇させて、各部の変形量を計算した。図7は、光源ユニット1bの使用時に発生する光源ユニット1bの各部の変形量を計算した結果である。
図7によれば、LD6は、x軸方向に変動することが抑制され、LD6とコリメータレンズ8(図7では図示せず)との距離L2が変動することが抑制されていることが分かる。故に、光源ユニット1bにおいても、フォーカスずれの発生が抑制されることが分かる。
また、壁部14は、図7に示すように、LDホルダ4からの力により、コリメータレンズ8の光軸を含みかつベース部12に垂直な平面に対して面対称な形状に湾曲し、LDホルダ4も、該平面に対して面対称な形状に湾曲していることが分かる。これにより、LD6は、y軸方向にずれることが抑制される。故に、光源ユニット1bにおいても、ビーム位置ずれの発生が抑制されることが分かる。
また、光源ユニット1bでは、光源ユニット1aと同様に、LD6の位置とコリメータレンズ8の位置との微調整を行うことができる。
更に、光源ユニット1aでは、低強度部S1,S2が2つ設けられているのに対して、光源ユニット1bでは、低強度部S3が1つしか設けられていない。そのため、光源ユニット1bでは、光源ユニット1aに比べて、壁部14の構造を簡単にできると共に、壁部14の強度が必要以上に低下することを防止できる。
(第3の実施形態)
次に、第3の実施形態に係る光源ユニット1cについて図面を参照しながら説明する。図8は、第3の実施形態に係る光源ユニット1cの外観斜視図である。なお、図8に示す光源ユニット1cでは、図5に示す光源ユニット1bと同じ構成については同じ参照符号を付してある。
光源ユニット1bと光源ユニット1cとの相違点は、光源ユニット1bにはLD6の回路基板が設けられていないのに対して、光源ユニット1cにはLD6の回路基板24が設けられている点である。以下では、かかる相違点を中心に光源ユニット1cについて説明を行う。
図8に示すように、光源ユニット1cでは、回路基板24が設けられている。回路基板24は、LD6を駆動させるための回路が形成されている基板であり、線膨張係数が1.4×10-5/℃のガラスエポキシにより作製されている。該回路基板24は、図8に示すように、LDホルダ4のx軸方向の負方向側の主面に平行に取り付けられている。すなわち、回路基板24は、壁部14と共にLDホルダ4を挟んでいる。なお、回路基板24は、LDホルダ4の一部が折り曲げられて形成されている固定部26a〜26c(図8では、固定部26cはLDホルダ4に隠れている)が該回路基板24に形成された孔に挿入されることによりLDホルダ4に固定されている。固定部26a,26bは、コリメータレンズ8の光軸を含みかつベース部12に垂直な平面に面対称な位置に設けられている。
以上のように構成された光源ユニット1cは、光源ユニット1bと同様に、フォーカスずれ及びビーム位置ずれの発生を抑制できる。本願発明者は、かかる効果を明確にするために、コンピュータシミュレーションを行った。具体的には、図8に示す光源ユニット1cのモデルを作製し、該モデルの温度を上昇させて、各部の変形量を計算した。図9は、光源ユニット1cの使用時に発生する光源ユニット1cの各部の変形量を計算した結果である。
より詳細には、中間ホルダ2は、2.1×10-5/℃の線膨張係数を有し、LDホルダ4は、1.7×10-5/℃の線膨張係数を有し、回路基板24は、1.4×10-5/℃の線膨張係数を有している。すなわち、中間ホルダ2の線膨張係数α1とLDホルダ4の線膨張係数α2と回路基板24の線膨張係数α3とは、α1>α2>α3の関係が成立している。したがって、光源ユニット1cの使用時には、中間ホルダ2の壁部14の伸び量が最大となり、回路基板24の伸び量が最小となる。その結果、図9に示すように、壁部14、LDホルダ4及び回路基板24は、x軸方向の正方向側に突出するように湾曲する。そして、光源ユニット1cでは光源ユニット1bと同じ位置において、LDホルダ4が壁部14に固定されている。よって、図9に示すように、LD6は、x軸方向に変動することが抑制され、LD6とコリメータレンズ8(図9には図示せず)との距離L3が変動することが抑制される。故に、光源ユニット1cにおいても、フォーカスずれの発生が抑制されることが分かる。
また、壁部14は、図9に示すように、LDホルダ4からの力により、コリメータレンズ8の光軸を含みかつベース部12に垂直な平面に対して面対称な形状に湾曲し、LDホルダ4も、回路基板24からの力により、該平面に対して面対称な形状に湾曲していることが分かる。更に、回路基板24も、図9に示すように、LDホルダ4及び壁部14と同じように、該平面に対して面対称な形状に湾曲していることが分かる。これにより、LD6は、y軸方向にずれることが抑制される。故に、光源ユニット1cにおいても、ビーム位置ずれの発生が抑制される。
また、光源ユニット1cでは、光源ユニット1a,1bと同様に、LD6の位置とコリメータレンズ8の位置との微調整を行うことができる。
更に、光源ユニット1aでは、低強度部S1,S2が2つ設けられているのに対して、光源ユニット1cでは、低強度部S3が1つしか設けられていない。そのため、光源ユニット1cでは、光源ユニット1aに比べて、壁部14の構造を簡単にできると共に、壁部14の強度が必要以上に低下することを防止できる。
更に、光源ユニット1cでは、LDホルダ4がLD6及び回路基板24の両方を保持している。よって、LDホルダ4と回路基板24との間にハーネス等の中間部材を設ける必要がない。そのため、光源ユニット1cでは、部品点数を削減することが可能である。更に、LD6と回路基板24とが近接するようになるので、LD6へのノイズの低減及び省スペース化が図られる。
なお、壁部14、LDホルダ4及び回路基板24は、同じ方向に突出するように湾曲していればよい。よって、中間ホルダ2の線膨張係数α1とLDホルダ4の線膨張係数α2と回路基板24の線膨張係数α3とは、α1<α2<α3の関係が成立していてもよい。
(その他の実施形態)
本発明に係る光源ユニット1は、前記実施形態に示した光源1a〜1cに限らない。よって、その要旨の範囲内において変更可能である。
例えば、光源ユニット1aでは、低強度部S1,S2は、溝が形成されることにより設けられているが、例えば、光源ユニット1b,1cと同じように、スリットが形成されることにより設けられていてもよい。
また、光源ユニット1b,1cでは、低強度部S3は、スリットが形成されることにより設けられているが、例えば、光源ユニット1aと同じように、溝が形成されることにより設けられていてもよい。
本発明の実施形態に係る光源ユニットを備えた光走査装置の概略斜視図である。 第1の実施形態に係る光源ユニットの外観斜視図である。 図1の光源ユニットのA−Aにおける断面構造図である。 図1の光源ユニットの使用時に発生する該光源ユニットの各部の変形量を計算した結果である。 第2の実施形態に係る光源ユニットの外観斜視図である。 図5の光源ユニットのA−Aにおける断面構造図である。 図5の光源ユニットの使用時に発生する光源ユニットの各部の変形量を計算した結果である。 第3の実施形態に係る光源ユニットの外観斜視図である。 図8の光源ユニットの使用時に発生する該光源ユニットの各部の変形量を計算した結果である。 従来の光源ユニットの構成を示した外観斜視図である。 図10の光源ユニットのA−Aにおける断面構造図である。 図10の光源ユニットの使用時に発生する該光源ユニットの各部の変形量を計算した結果である。
符号の説明
S1〜S3 低強度部
1a〜1c 光源ユニット
2 中間ホルダ
4 LDホルダ
6 LD
8 コリメータレンズ
10 レンズホルダ
12 ベース部
14 壁部
16a,16b,16c,20a,20b ねじ
24 回路基板
26a〜26c 固定部

Claims (7)

  1. 光走査装置に用いられる光源ユニットにおいて、
    ベース部、及び、該ベース部に立設されている壁部を有する第1のホルダと、
    前記壁部に取り付けられている第2のホルダと、
    前記第2のホルダに取り付けられ、かつ、ビームを放射する光源と、
    前記ベース部に取り付けられ、かつ、前記ビームを集光する光学素子と、
    を備えており、
    前記第2のホルダは、前記光学素子の光軸に垂直であってかつ前記ベース部に平行な所定方向において、該ベース部と前記壁部とが接合されている部分の両端よりも該光軸から離れた位置であってかつ該ベース部を挟む少なくとも2箇所以上の位置において、該壁部に対して固定されており、
    前記壁部には、前記光軸を含みかつ前記ベース部に垂直な所定平面に対して面対称な構造を有する低強度部であって、該壁部の所定の部分の強度を該壁部の他の部分の強度よりも低くさせる低強度部が設けられていること、
    を特徴とする光源ユニット。
  2. 前記低強度部は、前記壁部において前記所定平面が交差する部分に設けられていること、
    を特徴とする請求項1に記載の光源ユニット。
  3. 前記低強度部は、前記所定方向において、前記ベース部と前記壁部とが接合されている部分の両端よりも、前記光軸に近い位置に設けられていること、
    を特徴とする請求項1に記載の光源ユニット。
  4. 前記壁部において、前記低強度部が設けられている部分の厚みは、該低強度部が設けられている部分以外の厚みよりも薄いこと、
    を特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の光源ユニット。
  5. 前記第1のホルダの線膨張係数は、前記第2のホルダの線膨張係数と異なっていること、
    を特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の光源ユニット。
  6. 前記光源を制御するための回路が設けられている回路基板であって、前記壁部と共に前記第2のホルダを挟むように、該第2のホルダに対して固定されている回路基板を、
    更に備え、
    前記第1のホルダの線膨張係数α1と、前記第2のホルダの線膨張係数α2と、前記回路基板の線膨張係数α3との間には、α1>α2>α3又はα1<α2<α3の関係が成立していること、
    を特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の光源ユニット。
  7. 請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の光源ユニットを備えていること、
    を特徴とする光走査装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013007792A (ja) * 2011-06-22 2013-01-10 Ricoh Co Ltd 光走査装置、画像形成装置および光学素子組み付け方法
CN103402114A (zh) * 2013-07-05 2013-11-20 中国科学院西安光学精密机械研究所 高精度可见光成像系统组合调校、对接方法及机构
JP2013257515A (ja) * 2012-06-14 2013-12-26 Sharp Corp 光走査装置、及びそれを備えた画像形成装置
JP2014013329A (ja) * 2012-07-04 2014-01-23 Ricoh Co Ltd 光走査装置および画像形成装置

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