JP2010087139A - 気密端子 - Google Patents

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中村  聡
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Abstract

【課題】動作の安定性が要求される光半導体素子においては、外部環境による出力信号の変動などの特性の劣化を抑制するため、気密封止パッケージングされることが多い。従来の気密封止パッケージングにおいては困難であった、大きな電流を流した場合であっても気密を保持できる気密端子を提供する。
【解決手段】パッケージベースと、前記パッケージベースの内側に設けられたガラス材と、前記ガラス材を貫通して設けられた銅タングステン系合金製のリードピンとを備えた気密端子。
【選択図】図1

Description

本発明は、動作の安定性が必要で大電流を流す素子を気密封止する、パッケージの気密端子に関する。
動作の安定性が要求される半導体素子などの素子、特に光半導体素子においては、外部環境による出力信号の変動などの特性の劣化を抑制するため、気密封止パッケージングされることが多い。従来の気密封止パッケージングにおいては鉄・ニッケル系合金が使用されることが多かったが、耐腐食性能を向上させることを目的として、非磁性のニッケル・モリブデン系合金、ニッケル・クロム・モリブデン系合金、ステンレスなどでリードピンを構成した例も知られていた(例えば特許文献1)。
特開2005−353291号公報
しかしながら、従来のニッケル・モリブデン系合金、ニッケル・クロム・モリブデン系合金、ステンレスなどの非磁性材料でリードピンを構成した場合、材料の抵抗率が10×10−7Ωcm程度と十分に低くない。そのため、例えば1mmφ程度の径のリードピンに平均5A程度の大電流を流すと、リードピンに流れる電流によりリードピンの発熱に伴う伸縮が生じ、リードピンとガラス材との間に亀裂が発生するなど、気密を十分に保つことができない場合があった。
上記のようなリードピンの発熱に起因する問題を回避するために電流を流すリードピンの径を大きくしてリードピンの線抵抗を下げる方法も考えられるが、リードピンの径を1mmφ程度以上に大きくすると気密封止自体が難しくなるため、最大でも1mmφ程度の径のリードピンに大電流を流す必要があった。
また、磁性材料で構成されるリードピンに交流電流を流した場合に、リードピンの磁歪による振動が発生し、リードピンとガラス材との間に亀裂の発生を加速する場合があった。
本発明は、このような問題点を解決するためになされたもので、非磁性で、かつ、低抵抗のリードピンにより、大電流を流すことができる、信頼性の高い気密端子を提供することを目的とする。
本発明の気密端子は、パッケージベースと、前記パッケージベースの内側に設けられたガラス材と、前記ガラス材を貫通して設けられた銅タングステン系合金製のリードピンと
を備えたものである。
本発明の気密端子によれば、リードピンに大きな電流を流した場合であっても、リードピンとガラス材の間に亀裂が生じ難く、信頼性の高い気密端子を得ることができる。
本発明の本実施形態の気密端子について、図を参照しながら以下に説明する。なお、各図において、同一または同様の構成部分については同じ符号を付している。
実施の形態1.
図1に、本実施の形態における気密端子1の構成を示す斜視図を示す。図1において、パッケージベース2に形成された円形の貫通孔にガラス材3が埋められており、ガラス材3の中心部を貫通するようにリードピン4が設けられている。パッケージベース2の材料としては、鉄・ニッケル系合金やニッケル・モリブデン系合金などが用いられ、ガラス材3としては、ホウケイ酸ガラスやソーダ系ガラスが用いられる。また、リードピン4は、銅タングステン系合金で構成されている。
ガラス材3の材料であるホウケイ酸ガラスやソーダ系ガラスの熱膨張係数はおおよそ100×10−7/Kであるが、パッケージベース2の材料である鉄・ニッケル系合金やニッケル・モリブデン系合金とリードピン4の材料である銅タングステン系合金との熱膨張係数も100×10−7/Kに近い値を有する。
ここで、本実施の形態における気密端子1の製造方法を簡単に説明しておく。まず、パッケージベース2に貫通孔を形成する。つづいて、貫通孔の中心にリードピン4を配置する。つづいて、ガラスの融点の1000℃程度にまで加熱して、ガラス材3を溶着し固定する。
このように、気密端子1製造時のガラス材3溶着に際して1000℃程度の高温を経るので、パッケージベース2とガラス材3とリードピン4との熱膨張係数が近いほど常温時の応力が少なくなる。
本実施の形態の気密端子は、熱膨張係数の差の小さいパッケージベース2とガラス材3とリードピン4とにより構成されているので、内部応力が小さく、ガラス材3とリードピン4との間およびガラス材3とパッケージベース2との間の亀裂が発生しにくい。
また、本実施形態の気密端子のリードピン4は銅タングステン系合金製であるため、従来のニッケル・モリブデン系合金、ニッケル・クロム・モリブデン系合金などでリードピンを形成した場合よりリードピンの抵抗率を1×10−7Ωcm以下と低くすることができる。したがって、リードピン4に大きな電流を流した場合であっても、リードピン4の発熱量を小さくでき、リードピン4の発熱による伸縮量が少なく信頼性の高い気密端子を得ることができる。
本実施形態によれば、例えば1mmφのリードピン4に平均5Aの大電流を継続して流した場合にも亀裂発生により気密が破られることがほとんどない、高い信頼性を有する気密端子を得ることができた。
さらに、本実施形態の気密端子は、非磁性材料のリードピン4を使用しているため、リードピン4に交流電流を流した場合にもリードピン4が磁歪により振動せず、リードピン4とガラス材との間の亀裂の原因となる振動が発生しない。
なお、リードピン4に使用する銅タングステン系合金の組成は、銅が30質量%、すなわち、タングステンが70質量%の時に、特に、抵抗率が小さくまた熱膨張係数がガラス材3と近くなり、より有効に信頼性を高めることができる。銅が30質量%の場合の銅タングステン系合金の抵抗率は、およそ0.36×10−7Ωcmであった。ここで、銅の含有率は厳密に30質量%である必要はなく、25質量%以上、35質量%以下の範囲であればよい。また、銅タングステン系合金は、銅とタングステンとからだけで構成されている必要はなく、銅とタングステンとが主成分であれば、他の材料を含有していてもよい。
図2に、複数の気密端子を備えたパッケージの一例の斜視図を示す。図2のように本発明の気密端子を複数有するパッケージの場合、一つの気密端子でも気密性が損なわれると内部にパッケージングされている素子の信頼性が損なわれる場合があるため、本発明の本実施の形態の気密端子を使用することにより、信頼性を大幅に高めることができる。
この発明の実施の形態1における気密端子の構成を示す斜視図である。 この発明の実施の形態2における複数の気密端子を有するパッケージの構成を示す斜視図である。
符号の説明
1 気密端子、2 パッケージベース、3 ガラス材、4 リードピン。

Claims (3)

  1. パッケージベースと、
    前記パッケージベースの内側に設けられたガラス材と、
    前記ガラス材を貫通して設けられた銅タングステン系合金製のリードピンと
    を備えた気密端子。
  2. リードピンは、銅の含有率が25質量%以上かつ35質量%以下の銅タングステン系合金で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の気密端子。
  3. リードピンは、銅の含有率が30質量%の銅タングステン系合金で構成されていることを特徴とする請求項2に記載の気密端子。
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