JP4851287B2 - 半導体装置用気密端子 - Google Patents
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Description
2 ベース
3 リード
4 貫通孔
5 封着ガラス
6 素子搭載部
Claims (6)
- 貫通孔を有するベースと、
前記貫通孔に挿通されたリードと、
前記貫通孔に挿入され、前記リードを封着する封着ガラスとを備えた半導体装置用気密端子において、
前記封着ガラスおよび前記リードの熱膨張係数は、同一であり、前記ベースの熱膨張係数より小さく、
前記ベースのビッカース硬さは、20HVから50HVであることを特徴とする半導体装置用気密端子。 - 前記ベース主面に、半導体素子を搭載可能に一体形成された素子搭載部を備えた請求項1記載の半導体装置用気密端子。
- 前記ベースの貫通孔内壁面に形成された酸化皮膜を備えた請求項1または2記載の半導体装置用気密端子。
- 前記ベースは、銅または銅合金で構成され、
前記封着ガラスは、硼珪酸ガラスで構成され、
前記リードは、鉄−ニッケル−コバルト合金で構成された請求項1〜3のいずれか一項に記載の半導体装置用気密端子。 - 前記ベースは、銅または銅合金を含むクラッド材で構成され、
前記封着ガラスは、硼珪酸ガラスで構成され、
前記リードは、鉄−ニッケル−コバルト合金で構成された請求項1〜3のいずれか一項に記載の半導体装置用気密端子。 - 前記銅は、無酸素銅である請求項4または5記載の半導体装置用気密端子。
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