JP2010084178A - パラジウム合金めっき液およびめっき方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明によるパラジウム金合金めっき液は、可溶性パラジウム塩と、可溶性金塩と、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウムおよびメタ重亜硫酸アンモニウムからなる群より選択される1以上のものと、サッカリンおよびサッカリンナトリウムからなる群より選択される1以上のものとの組合せからなる結晶調整剤とを含んでなることを特徴とする。
【選択図】なし
Description
本発明は、パラジウム合金めっき液およびそれを用いためっき方法に関する。より詳しくは本発明は、電気めっき用のパラジウム金合金めっき液、およびそれを用いためっき方法に関する。
一般的に、パラジウム合金めっきは、水素を選択的に吸収して透過する性質を持つことから、水素分離膜としても利用されており、燃料電池普及に伴う高純度水素の需要にこたえ得る材料として注目されている。
可溶性パラジウム塩と、
可溶性金塩と、
メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウムおよびメタ重亜硫酸アンモニウムからなる群より選択される1以上のものと、サッカリンおよびサッカリンナトリウムからなる群より選択される1以上のものとの組合せからなる、結晶調整剤と
を含んでなることを特徴とする。
可溶性パラジウム塩をパラジウム量換算として1〜60g/Lと、
可溶性金塩を金量換算として1〜60g/Lと、
結晶調整剤を0.1〜150g/L
の量で含んでなる。
該めっき浴中において、浴温度を10〜80℃、陰極電流密度を0.1〜60A/dm2、pH7〜10の条件下で、基材を電気めっき処理することによって、該基材上にめっき皮膜を形成させることを含んでなる。
本発明によるパラジウム金合金めっき液は、前記したように、可溶性パラジウム塩と、可溶性金塩と、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウムおよびメタ重亜硫酸アンモニウムからなる群より選択される1以上のものと、サッカリンおよびサッカリンナトリウムからなる群より選択される1以上のものとの組合せからなる、結晶調整剤とを含んでなることを特徴とする。すなわち、本発明においては、前記した特定の組合せからなる結晶調整剤を少なくとも含んでなるものである。ここで、結晶調整剤は、金属結晶の成長方向を一定方向に整える働きを有するものであり、その結果光沢を有するめっき外観を得るために有利である。このため、結晶調整剤は「光沢剤」(ブライトナー)としても働き得るものである。必要であれば、前記した結晶調整剤(光沢剤)に加えて、公知の光沢剤等をさらに使用しても良い。
なお、前記したものの内、例えば、メタ重亜硫酸ナトリウムは、別名として、ピロ亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム、または、酸性亜硫酸ソーダとも言い換えることができ、これは他の成分(メタ重亜硫酸カリウムまたはメタ重亜硫酸アンモニウム)についても同様に言い換えることができる。
本発明において用られる可溶性パラジウム塩としては、めっき液に対して可溶性であって、かつ、めっき液中にパラジウムイオンを供給することができるものであれば特に制限はなく、例えば、パラジウムのアンミン錯塩類、硝酸塩、硫酸塩、塩化物等が使用可能である。
これらは単独で用いてもよく、また2種以上を併用して用いてもよい。
本発明において用られる可溶性金塩としては、めっき液に対して可溶性であって、かつ、めっき液中に金イオンを供給することができるものであれば特に制限はない。例えば、可溶性金塩は、金の塩化物、臭化物、硝酸塩、ビス(チオスルファト)金酸塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)、亜硫酸金塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)、塩化金酸塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)等が使用可能である。
本発明によるパラジウム金合金めっき液は、電導性化合物をさらに含んでなることが好ましい。本発明において電導性化合物とは、めっき液の電導性、およびめっき効率を向上させるために加えられるものであって、めっき処理に有害とならないものであれば、特に制限はない。例えば、各種単純塩、強酸、および強塩基等が電導性化合物として使用可能である。よって、本発明に用いる電導性化合物としては、電解により物性に悪影響を与えるような副生成物を生じるものが包含されることは望ましくない。このように、本発明によるめっき液は、長期間にわたって安定な物性を示すことができるものである。
これらの塩は単独で用いてもよく、2種以上併用して用いてもよい。
本発明によるめっき液は、表面調整剤をさらに含んでなることができる。ここで表面調整剤とは、金属結晶の表面の凹凸を整えるために添加する薬品のことであって、レベリング剤とも言うものである。表面調整剤を添加することは、形成されるめっき皮膜表面の外観を向上させる上で有利である。
本発明のめっき液は、必要に応じて、他の任意成分をさらに含んでなることができる。このような他の任意成分としては、例えば、錯化剤、pH調整剤、界面活性剤、緩衝剤、分散剤等が挙げられる。
本発明のパラジウム金合金めっき液を用いて電気めっき処理を行う場合には、典型的には、前記したように、めっき液のpHを7〜10の範囲内、好ましくは7〜9の範囲内に調整する。また、めっき液の温度は、典型的には10〜80℃、好ましくは30〜70℃、より好ましくは45℃〜65℃の範囲内に調整し、パラジウム金合金めっき処理を行うことが好ましい。
さらに、めっき処理における陰極電流密度は、典型的には0.1〜60A/dm2、好ましくは0.2〜20A/dm2、より好ましくは0.5〜10A/dm2である。
また、形成されるパラジウムめっき層の厚みは、特に制限はされないが、適用される電流密度およびめっき時間等により適宜変更することができる。
表1に示した組成に従って、実施例1〜5と比較例1〜7の各めっき液を調製した。
なお、比較例6は、特開2008−81765号公報(特許文献3)の実施例1に記載のめっき液に相当し、比較例7は、特開平9−209164号公報(特許文献4)実施例組成物2のめっき液に相当し、さらに、比較例8は、特開平8−53791号公報(特許文献5)の実施例1のめっき液に相当する。
次に、得られた各めっき液用に、試験基材としてハルセル銅板を使用し、予め無光沢Niめっきを1μm施した。次いで、得られた基材に対して、前記各めっき液の浴中において、めっき液を攪拌しながら、表1のめっき条件で、10秒間、めっき処理を行い、めっき層を得、これをめっき液についての評価サンプルとした。まためっき処理時の電流密度を、表1のめっき条件以外にも、0.5、1、5、および10A/dm2でとした各場合全てについて、めっきを行い、評価サンプルを得た。
・評価基準:
○: 均一で良好な外観であった。
×: 表面にはがれや割れが確認された。
前記(2)で得られた各評価サンプルのパラジウム金合金めっき被膜中への共析量を、高周波誘導結合プラズマ(ICP)発光分光分析装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製、型番SPS−5520)を用いて測定した。
結果から、本発明によるめっき液では、電流密度の変化に対して、共析率の変動が殆ど無く、共析率の推移は安定していた。すなわち本発明によるめっき液によれば、電流密度に対して安定な共析率を得ることができる。
各評価サンプルを所定の加熱温度条件(350±2℃)下に一定時間保持することによって、高温の熱履歴を加えた後、半田浴(63%スズ−37%鉛、液温230±5℃)に浸漬してから、該半田浴より受ける力が0(ゼロ)になるまでの所要時間(ゼロクロスタイム(秒))を測定し、半田濡れ性を、下記の基準に基づいて評価した。
なおゼロクロスタイムが短いほど、半田濡れ性に優れていること意味する。
○: 加熱温度350度180秒保持後のゼロクロスタイムが1秒以内であった。
×: ゼロクロスタイムが1秒以上であった。
本発明のめっき液のワイヤーボンディング性を評価するためにワイヤープル試験を行った。具体的には、ボンディングされた金ワイヤー、アルミワイヤー、銅ワイヤー等の下に適当なフックを入れ、下から上へ垂直にワイヤーをプルテストして破断した時の強度および破断個所のモードの観察をした。
評価は、MIL−STD−883(MIL規格)、METHOD2011、Test Condition−Dの条件に従って行った。
25μmφの金ワイヤーを使用し、各評価サンプルについて、ワイヤープル試験を行った。ワイヤープル試験にはボンディングテスタ(DAGE社製、型番:Series−4000)を用い測定した。
ワイヤープル試験において、下記基準のように、ワイヤー引張フックを掛けた箇所にてワイヤーが破断したモードを良好(○)とし、めっき表面またはめっき皮膜と下地との界面で破断したモードを不良(×)と評価した。
○: ワイヤー引張フック部でワイヤー破断した。
×: Pd−Au合金めっき層と下地界面で破断した。
Claims (10)
- 可溶性パラジウム塩と、
可溶性金塩と、
メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウムおよびメタ重亜硫酸アンモニウムからなる群より選択される1以上のものと、サッカリンおよびサッカリンナトリウムからなる群より選択される1以上のものとの組合せからなる、結晶調整剤と
を含んでなることを特徴とする、パラジウム金合金めっき液。 - 可溶性パラジウム塩が、パラジウムのアンミン錯塩の、塩化物、臭化物、ヨウ化物、亜硝酸塩、硝酸塩、亜硫酸塩および硫酸塩からなる群から選択されるものである、請求項1に記載のめっき液。
- 可溶性金塩が、亜硫酸金ナトリウム、亜硫酸金カリウム、亜硫酸金アンモニウム、塩化金酸、塩化金酸ナトリウム、塩化金酸カリウムからなる群から選択されるものである、請求項1または2に記載のめっき液。
- 可溶性パラジウム塩をパラジウム量換算として1〜60g/Lと、
可溶性金塩を金量換算として1〜60g/Lと、
結晶調整剤を0.1〜150g/L
の量で含んでなる、請求項1〜3のいずれか一項に記載のめっき液。 - グルコース、マルトース、スクロース、ラクトース、セロビオース、トレハロース、シクロデキストリン、グリコーゲン、アミロペクチン、アミロース、デンプン、およびセルロースからなる群より選択される表面調整剤をさらに含んでなる、請求項1〜4のいずれか一項に記載のめっき液。
- 表面調整剤を0.1〜50g/Lの量で含んでなる、請求項5に記載のめっき液。
- 電導性化合物をさらに含んでなる、請求項1〜6のいずれか一項に記載のめっき液。
- 電導性化合物が、アルカリ金属またはアンモニアの硝酸塩、塩化物、臭化物、硫酸塩、シュウ酸塩、水酸化物、ホウ酸塩、酒石酸塩、炭酸塩およびリン酸塩からなる群より選択されるものである、請求項7に記載のめっき液。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載のめっき液を用いてめっき浴を用意し、次いで
該めっき浴中において、浴温度を10〜80℃、陰極電流密度を0.1〜60A/dm2、pH7〜10の条件下で、基材を電気めっき処理することによって、該基材上にめっき皮膜を形成させることを含んでなる、パラジウム金合金めっき方法。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載のパラジウム金合金めっき液を用いて、基材を電気めっき処理することによって形成された、めっき製品。
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012049042A (ja) * | 2010-08-27 | 2012-03-08 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 可動接点部品用銀被覆複合材料およびその製造方法および可動接点部品 |
| JP2013224478A (ja) * | 2012-04-19 | 2013-10-31 | Rambo Nanotechnology (Shenzhen) Ltd | 金−パラジウム合金電気めっき液およびその調製方法と電気めっき方法 |
| CN104561958A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-29 | 北京达博有色金属焊料有限责任公司 | 一种制备化学镀金钯键合银合金丝的镀金钯液 |
| JP2015157966A (ja) * | 2014-02-21 | 2015-09-03 | 共栄メタル株式会社 | 黒色合金メッキ皮膜 |
| CN105401182A (zh) * | 2015-10-14 | 2016-03-16 | 佛山科学技术学院 | 一种在不锈钢上电镀厚钯的镀液配方及其电镀方法 |
| TWI558858B (zh) * | 2012-08-31 | 2016-11-21 | Electroplating Eng | 非氰系金-鈀合金鍍覆液及鍍覆方法 |
| JP2019520485A (ja) * | 2016-06-29 | 2019-07-18 | トングク・ユニバーシティ・キョンジュ・キャンパス・インダストリー−アカデミー・コーオペレイション・ファウンデーション | 微細噴霧用多孔性フィルタの製造方法およびこれを用いて製造された多孔性フィルタ |
| JP2019522731A (ja) * | 2016-06-06 | 2019-08-15 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガナイゼーション | 基材上にPd−Au合金層を形成する方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0853791A (ja) * | 1994-02-26 | 1996-02-27 | Sung-Soo Moon | パラジウム合金めっき組成物、めっき方法及びめっき製品 |
| JP2005256140A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | C Uyemura & Co Ltd | 金めっき浴 |
| JP2006249485A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Japan Pure Chemical Co Ltd | 金めっき液用亜硫酸金塩水溶液 |
| JP2008115449A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Ne Chemcat Corp | 金バンプ又は金配線形成用非シアン系電解金めっき浴 |
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0853791A (ja) * | 1994-02-26 | 1996-02-27 | Sung-Soo Moon | パラジウム合金めっき組成物、めっき方法及びめっき製品 |
| JP2005256140A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | C Uyemura & Co Ltd | 金めっき浴 |
| JP2006249485A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Japan Pure Chemical Co Ltd | 金めっき液用亜硫酸金塩水溶液 |
| JP2008115449A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Ne Chemcat Corp | 金バンプ又は金配線形成用非シアン系電解金めっき浴 |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012049042A (ja) * | 2010-08-27 | 2012-03-08 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 可動接点部品用銀被覆複合材料およびその製造方法および可動接点部品 |
| JP2013224478A (ja) * | 2012-04-19 | 2013-10-31 | Rambo Nanotechnology (Shenzhen) Ltd | 金−パラジウム合金電気めっき液およびその調製方法と電気めっき方法 |
| TWI558858B (zh) * | 2012-08-31 | 2016-11-21 | Electroplating Eng | 非氰系金-鈀合金鍍覆液及鍍覆方法 |
| JP2015157966A (ja) * | 2014-02-21 | 2015-09-03 | 共栄メタル株式会社 | 黒色合金メッキ皮膜 |
| CN104561958A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-29 | 北京达博有色金属焊料有限责任公司 | 一种制备化学镀金钯键合银合金丝的镀金钯液 |
| CN105401182A (zh) * | 2015-10-14 | 2016-03-16 | 佛山科学技术学院 | 一种在不锈钢上电镀厚钯的镀液配方及其电镀方法 |
| JP2019522731A (ja) * | 2016-06-06 | 2019-08-15 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガナイゼーション | 基材上にPd−Au合金層を形成する方法 |
| JP7038705B2 (ja) | 2016-06-06 | 2022-03-18 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガナイゼーション | 基材上にPd-Au合金層を形成する方法 |
| US12168199B2 (en) | 2016-06-06 | 2024-12-17 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Method of forming a Pd—Au alloy layer on a substrate |
| JP2019520485A (ja) * | 2016-06-29 | 2019-07-18 | トングク・ユニバーシティ・キョンジュ・キャンパス・インダストリー−アカデミー・コーオペレイション・ファウンデーション | 微細噴霧用多孔性フィルタの製造方法およびこれを用いて製造された多孔性フィルタ |
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