JP2010078981A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
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| JP2008247904A JP2010078981A (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | リソグラフィープロセスに適用されるリンス液及び当該リンス液を用いたレジストパターンの形成方法 |
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| JP2008247904A JP2010078981A (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | リソグラフィープロセスに適用されるリンス液及び当該リンス液を用いたレジストパターンの形成方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JP2010078981A JP2010078981A (ja) | 2010-04-08 |
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ID=42209496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2008247904A Pending JP2010078981A (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | リソグラフィープロセスに適用されるリンス液及び当該リンス液を用いたレジストパターンの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2010078981A (https=) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5848869B2 (ja) | 2010-08-25 | 2016-01-27 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法 |
| JP6738050B2 (ja) * | 2016-03-30 | 2020-08-12 | 日産化学株式会社 | レジストパターン被覆用水溶液及びそれを用いたパターン形成方法 |
| KR20220112264A (ko) * | 2019-12-04 | 2022-08-10 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 폴리머의 제조 방법 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11249323A (ja) * | 1998-03-05 | 1999-09-17 | Kao Corp | レジスト現像方法 |
| JP2006011054A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リンス液及びこれを用いたレジストパターン形成方法 |
| JP2010511915A (ja) * | 2006-12-06 | 2010-04-15 | フジフィルム・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・インコーポレイテッド | 二重パターン形成プロセスを利用した装置製造プロセス |
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2008
- 2008-09-26 JP JP2008247904A patent/JP2010078981A/ja active Pending
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