JP2010078981A5 - - Google Patents
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2008247904A JP2010078981A (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | リソグラフィープロセスに適用されるリンス液及び当該リンス液を用いたレジストパターンの形成方法 |
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| JP2008247904A JP2010078981A (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | リソグラフィープロセスに適用されるリンス液及び当該リンス液を用いたレジストパターンの形成方法 |
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| JP2010078981A JP2010078981A (ja) | 2010-04-08 |
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ID=42209496
Family Applications (1)
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| JP2008247904A Pending JP2010078981A (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | リソグラフィープロセスに適用されるリンス液及び当該リンス液を用いたレジストパターンの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2010078981A (enExample) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5848869B2 (ja) * | 2010-08-25 | 2016-01-27 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法 |
| CN109074002A (zh) * | 2016-03-30 | 2018-12-21 | 日产化学株式会社 | 抗蚀剂图案被覆用水溶液以及使用了该水溶液的图案形成方法 |
| WO2021111976A1 (ja) * | 2019-12-04 | 2021-06-10 | 日産化学株式会社 | ポリマーの製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11249323A (ja) * | 1998-03-05 | 1999-09-17 | Kao Corp | レジスト現像方法 |
| JP2006011054A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リンス液及びこれを用いたレジストパターン形成方法 |
| WO2008070060A2 (en) * | 2006-12-06 | 2008-06-12 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Device manufacturing process utilizing a double pattering process |
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2008
- 2008-09-26 JP JP2008247904A patent/JP2010078981A/ja active Pending
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