JP2010078514A - 周期性パターンのムラ検査装置における検査条件設定方法および検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】周期性パターンが形成された基板に照明光を複数の照射角度で斜め照射し、周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査するムラ検査装置における検査条件設定方法である。周期性パターンの形状に関する情報を入力する検査対象基板情報入力工程と、位置決め工程と、回折格子方程式による回折光強度ピーク角度算出工程と、回折光の測定を行う際の測定角度範囲を決定する回折光測定角度範囲決定工程と、回折光強度プロファイルを得る回折光強度取得工程と、得られた回折光強度プロファイルと、回折光強度ピーク角度算出工程において得られた回折光角度と回折光次数、照明光波長とを元に、照明光の照射角度、撮像倍率および照明光波長を設定する検査条件設定工程とを含む。
【選択図】図3
Description
ここで、被検査基板60の基板面には周期性パターンが形成されている。ここで基板面とは被検査基板60の厚さ方向の一方に位置する面である。
情報処理手段101は周期性パターンの形状に関する情報を入力する検査対象基板情報入力手段を構成している。
ここで、図4に被検査基板60とθとの対応関係を示す(この場合は、例としてθ=0゜、45゜、90゜、135゜の4種類について定義してある)。
すなわち、X−Y−θステージ部20とアライメント用撮像部30と処理・制御部100により、基板面上の直交する2方向であるX軸Y軸方向における位置決め、および基板面と直交する基板面法線回りの回転方向における位置決めを行う位置決め手段を構成している。
本実施例では、10゜≦φ(m)≦60゜かつm≦20を満たす全ての角度φ(m)を計算する。ここで、φ(m)、およびmを上記範囲としたのは、次の理由による。φ(m)が10°より小さい場合は、照明ヘッド12からの直接光(0次回折光)が回折光強度測定部40に入射する可能性があるため、光強度が強い直接光により光電センサー41が損傷するのを回避する必要があるとともに、0次回折光はもともと検査対象物のムラの有無を判断するのに寄与しないため、なるべく入射させないほうがよい。また、φ(m)が60°より大きいか、mが20より大きい場合は、回折光の強度が弱くなるので、その回折光強度プロファイルが検査条件を決定するのに有用なデータとは言えなくなる。
以上の理由により、φ(m)およびmを上記範囲とした。
また、(1)式による計算は、R、G、B3色の光学フィルタを利用した場合における照明光中心波長λそれぞれについて実施する。Rフィルタを利用する場合は、λ=670nm、Gフィルタを利用する場合は、λ=540nm、Gフィルタを利用する場合は、λ=435nmとする。本実施例においては、Gフィルタを利用した場合について説明する。但し、S1にて決定したθに応じて光の照射方向に対応した見かけ上のピッチの値が変化するので、各θ軸における見かけ上のピッチdiを導出する必要がある。0゜≦θ≦45゜、および90゜≦θ≦135゜のときは、di=(ピッチ)/cosθとして導出され、45゜≦θ≦90゜、135゜≦θ≦180゜のときは、di=(ピッチ)/cos(90゜−θ)として導出される。図5に、Gフィルタ利用時において、di=15μmとして計算を実施した場合における、回折光次数mと回折角φ(m)との関係を示す。
全てのθ軸について検査条件が決定された後、実際の検査動作へ移行する。
S3〜S7までのフローは、処理・制御部100により実行される。
すなわち、処理・制御部100はS1で入力された前記周期性パターンに関する情報を元に、所定の波長λの光源からの光を、周期性パターンに対して基板面法線方向から照射した場合に生じうる回折光のうち、回折した光強度の極大値が得られる回折光角度とその時の回折光次数を理論計算により取得する回折光強度ピーク角度算出手段をも構成している(S3)。
また、処理・制御部100は、S3で得られた回折光角度と回折光次数を元に、周期性パターンに対し照明光を複数の照射角度で照射して回折光強度の測定を行う際の、測定角度範囲を決定するための回折光測定角度範囲決定手段をも構成している(S4)。
また、処理・制御部100は、回折光強度の測定を、S4で決定された測定角度範囲において、複数の照射角度について行い、各照射角度に対する回折光強度からなる回折光強度プロファイルを得る回折光強度取得手段をも構成している(S6)。
また、処理・制御部100は、S6で得られた回折光強度プロファイルと、S3で得られた回折光角度と回折光次数、照明光波長とを元に導出された、照明光の照射角度、撮像倍率および照明光波長を含む検査条件を設定する検査条件設定手段をも構成している(S7)。
11 円弧レール
12 照明ヘッド
13 光源
14 ライトガイド
20 X−Y−θステージ部
30 アライメント用撮像部
31 カメラ
32 レンズ
33 照明
34 照明制御装置
40 回折光強度測定部
41 光電センサー
42 平行光学系
60 被検査基板
100 処理・制御部
101 情報処理手段
102 信号入力装置
103 信号入力装置
104 表示手段
105 対人操作手段
Claims (7)
- 基板面に周期性パターンが形成された基板を検査対象とし、前記基板に照明光を複数の照射角度で斜めに照射し、前記周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査するムラ検査装置における検査条件設定方法であって、
前記周期性パターンの形状に関する情報を入力する検査対象基板情報入力工程と、
前記基板面上の直交する2方向であるX軸Y軸方向における位置決め、および前記基板面と直交する基板面法線回りの回転方向における位置決めを行う位置決め工程と、
前記検査対象基板情報入力工程において入力された前記周期性パターンに関する情報を元に、所定の波長の光源からの光を、前記周期性パターンに対して前記基板面法線方向から照射した場合に生じうる回折光のうち、回折した光強度の極大値が得られる回折光角度とその時の回折光次数を理論計算により取得する回折光強度ピーク角度算出工程と、
前記回折光強度ピーク角度算出工程において得られた回折光角度と回折光次数を元に、前記周期性パターンに対し前記照明光を複数の照射角度で照射して回折光強度の測定を行う際の、測定角度範囲を決定するための回折光測定角度範囲決定工程と、
前記回折光強度の測定を、前記回折光測定角度範囲決定工程にて決定された測定角度範囲において、前記複数の照射角度について行い、各照射角度に対する回折光強度からなる回折光強度プロファイルを得る回折光強度取得工程と、
前記回折光強度取得工程において得られた回折光強度プロファイルと、前記回折光強度ピーク角度算出工程において得られた回折光角度と回折光次数、照明光波長とを元に導出された、照明光の照射角度、撮像倍率および照明光波長を含む検査条件を設定する検査条件設定工程と、
を含むムラ検査装置における検査条件設定方法。 - 前記検査対象基板情報入力工程は、前記周期性パターンに対して、前記基板面法線回りの回転方向における任意の角度で、照明光を照射した場合の回折光強度の取得、検査条件の設定ができるように、前記基板面法線回りの回転方向における角度に関する条件入力が可能であることを特徴とする、請求項1に記載のムラ検査装置における検査条件設定方法。
- 前記回折光強度ピーク角度算出工程は、ブラッグの回折条件に基づいて計算が実行され、かつ算出される回折光角度は回折光次数が20次以下の回折光に関するものであることとし、回折光角度の値は少なくとも10度以上であることを特徴とする、請求項1または2に記載のムラ検査装置における検査条件設定方法。
- 前記回折光測定角度範囲決定工程において、決定される測定角度範囲は、少なくとも10度以上60度以下の範囲内であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載のムラ検査装置における検査条件設定方法。
- 前記回折光強度取得工程は、前記周期性パターンからの回折光の測定を、光電変換素子を利用した光強度測定手段によって実施するものであり、かつ前記光強度測定手段は、前記周期性パターンにより生じる回折光のうち、前記基板面に対して垂直な回折光のみを抽出する光学系を有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載のムラ検査装置における検査条件設定方法。
- 前記検査条件設定工程は、前記回折光強度取得工程において得られた回折光強度プロファイルの極大値のうち、前記回折光強度ピーク角度算出工程にて算出された回折光角度の値とほぼ一致する照射角度における極大値の中で、光強度値が最も小さい極大値をとる場合の照射角度を検査条件として設定することを特徴とした、請求項1〜5のいずれかに記載のムラ検査装置における検査条件設定方法。
- 基板面に周期性パターンが形成された基板を検査対象とし、前記基板に照明光を複数の照射角度で斜めに照射し、前記周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査するムラ検査装置であって、
前記周期性パターンの形状に関する情報を入力する検査対象基板情報入力手段と、
前記基板面上の直交する2方向であるX軸Y軸方向における位置決め、および前記基板面と直交する基板面法線回りの回転方向における位置決めを行う位置決め手段と、
前記検査対象基板情報入力手段において入力された前記周期性パターンに関する情報を元に、所定の波長の光源からの光を、前記周期性パターンに対して前記基板面法線方向から照射した場合に生じうる回折光のうち、回折した光強度の極大値が得られる回折光角度とその時の回折光次数を理論計算により取得する回折光強度ピーク角度算出手段と、
前記回折光強度ピーク角度算出手段において得られた回折光角度と回折光次数を元に、前記周期性パターンに対し前記照明光を複数の照射角度で照射して回折光強度の測定を行う際の、測定角度範囲を決定するための回折光測定角度範囲決定手段と、
前記回折光強度の測定を、前記回折光測定角度範囲決定手段にて決定された測定角度範囲において、前記複数の照射角度について行い、各照射角度に対する回折光強度からなる回折光強度プロファイルを得る回折光強度取得手段と、
前記回折光強度取得手段において得られた回折光強度プロファイルと、前記回折光強度ピーク角度算出手段において得られた回折光角度と回折光次数、照明光波長とを元に導出された、照明光の照射角度、撮像倍率および照明光波長を含む検査条件を設定する検査条件設定手段と、
を有するムラ検査装置。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011203061A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Toshiba Corp | パターン計測方法およびパターン計測装置 |
JP2011247804A (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Toppan Printing Co Ltd | 周期性パターン検査方法および周期性パターン検査装置 |
JP2012058029A (ja) * | 2010-09-07 | 2012-03-22 | Toppan Printing Co Ltd | 周期性パターン検査装置 |
JP2012194022A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Toppan Printing Co Ltd | むら検査装置、むら検査方法およびむら判定方法 |
JP2013076651A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Toppan Printing Co Ltd | 周期性パターン検査方法および周期性パターン検査装置 |
KR20150040366A (ko) * | 2012-09-28 | 2015-04-14 | 제이엑스 닛코닛세키 에네루기 가부시키가이샤 | 불규칙한 요철 표면을 가지는 기판을 검사하는 장치 및 이것을 사용한 검사 방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001108637A (ja) * | 1999-10-05 | 2001-04-20 | Nikon Corp | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
JP2007240323A (ja) * | 2006-03-08 | 2007-09-20 | Toppan Printing Co Ltd | 周期性パターンの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 |
JP2008089544A (ja) * | 2006-10-05 | 2008-04-17 | Nikon Corp | 検査装置 |
-
2008
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001108637A (ja) * | 1999-10-05 | 2001-04-20 | Nikon Corp | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
JP2007240323A (ja) * | 2006-03-08 | 2007-09-20 | Toppan Printing Co Ltd | 周期性パターンの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 |
JP2008089544A (ja) * | 2006-10-05 | 2008-04-17 | Nikon Corp | 検査装置 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011203061A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Toshiba Corp | パターン計測方法およびパターン計測装置 |
JP2011247804A (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Toppan Printing Co Ltd | 周期性パターン検査方法および周期性パターン検査装置 |
JP2012058029A (ja) * | 2010-09-07 | 2012-03-22 | Toppan Printing Co Ltd | 周期性パターン検査装置 |
JP2012194022A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Toppan Printing Co Ltd | むら検査装置、むら検査方法およびむら判定方法 |
JP2013076651A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Toppan Printing Co Ltd | 周期性パターン検査方法および周期性パターン検査装置 |
KR20150040366A (ko) * | 2012-09-28 | 2015-04-14 | 제이엑스 닛코닛세키 에네루기 가부시키가이샤 | 불규칙한 요철 표면을 가지는 기판을 검사하는 장치 및 이것을 사용한 검사 방법 |
EP2903397A4 (en) * | 2012-09-28 | 2016-06-15 | Jx Nippon Oil & Energy Corp | DEVICE FOR INSPECTING A SUBSTRATE HAVING AN IRREGULAR ROUGH SURFACE AND INSPECTION METHOD USING THE SAME |
KR101683706B1 (ko) | 2012-09-28 | 2016-12-07 | 제이엑스 에네루기 가부시키가이샤 | 불규칙한 요철 표면을 가지는 기판을 검사하는 장치 및 이것을 사용한 검사 방법 |
AU2013321411B2 (en) * | 2012-09-28 | 2017-04-20 | Jx Nippon Oil & Energy Corporation | Device for inspecting substrate having irregular rough surface and inspection method using same |
TWI593957B (zh) * | 2012-09-28 | 2017-08-01 | Jx Nippon Oil & Energy Corp | A device for inspecting a substrate having an irregular surface with irregularities and a method of using the device |
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