JP2010078469A - 粒子物性測定装置 - Google Patents
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 72
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 title claims abstract description 35
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 75
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 49
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 37
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 22
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 7
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 claims description 6
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 claims description 6
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 10
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 2
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000012620 biological material Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
【解決手段】
照射光学系機構2として入射側偏光子24及び入射側1/4波長板25を有するとともに、受光光学系機構3としてセル4を中心に複数の角度位置に回転可能な出射側1/4波長板33及び出射側偏光子34を有する粒子物性測定装置1において、光路上に変更状態を変化さセル4ことのない減光手段23を設け、各測定位置での検出光強度が光検出手段31の測定レンジ内に収まるように、減光手段23による減光率を制御するようにした。
【選択図】図1
Description
図1に、この粒子物性測定装置1の全体概要を模式図にして示す。同図中、符号2は、試料を収容した透明セル4に一次光であるレーザ光L1を照射する照射光学系機構であり、符号3は、微小粒子Sからの二次光、すなわち散乱光L2を受光する受光光学系機構である。
透過率=(1/NDフィルタ231の減光率)×試料での検出光強度/ブランクでの検出光強度
例えば、減光手段は一次光及び二次光の光路上であれば、どの部位に挿入しても構わない。
その他、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。
L1・・・一次光(レーザ光)
L2・・・散乱光(散乱光)
2・・・照射光学系機構
21・・・光源(半導体レーザ)
23・・・減光手段
231・・・NDフィルタ
232・・・フィルタ変更機構
232a・・・回転保持板
24・・・入射側偏光子
25・・・入射側1/4波長板
3・・・受光光学系機構
31・・・光検出手段
33・・・出射側1/4波長板
34・・・出射側偏光子
4・・・セル
51・・・角度制御部
52・・・減光率制御部
53・・・物性算出部
54・・・粒子径分布算出部
Claims (7)
- 分散媒中に微小な粒子を分散させた試料を収容する透明セルと、
光源、並びにこの光源から射出された一次光が前記セルに至るまでの光路上に順に設けられた入射側偏光子及び入射側1/4波長板を有する照射光学系機構と、
受光した光の強度を検出する光検出手段、並びに前記セル中の粒子で散乱した二次光が前記光強度検出手段に至るまでの光路上に順に設けられた出射側1/4波長板及び出射側偏光子を有し、前記セルを中心に回転可能に支持された受光光学系機構と、
前記一次光又は二次光を偏光状態を変化させることなくかつ減衰率を変更可能に減光する減光手段と、
前記受光光学系機構を複数の回転角度位置に制御するとともに、各回転角度位置において前記出射側偏光子の偏光角度を複数の角度に制御する角度制御部と、
前記各回転角度位置での各偏光角度それぞれにおける検出光強度が前記光検出手段の測定レンジ内に収まるように、前記減光手段による減光率を制御する減光率制御部と、
前記各回転角度位置での各偏光角度それぞれにおける減光率及び減光後における検出光強度に基づいて前記粒子の物性を算出する物性算出部とを具備していることを特徴とする粒子物性測定装置。 - 前記物性算出部が、粒子のアスペクト比や凝集度などの粒子形状に係る物性値を算出するものである請求項1記載の粒子物性測定装置。
- 前記減光手段が、それぞれ異なる減光率の複数のNDフィルタと、これらNDフィルタのいずれかを前記一次光又は二次光の光路上に選択的に挿入するフィルタ変更機構とを具備したものである請求項1記載の粒子物性測定装置。
- 前記フィルタ変更機構が、周縁部に複数のNDフィルタを並び設けた回転保持板を具備したものであり、回転保持板を回転させることによって、いずれかのNDフィルタが前記一次光又は二次光の光路上に位置するように構成してある請求項2記載の粒子物性測定装置。
- 前記受光光学系機構を、セルを透過する一次光の延長線上に配置可能にして、セルを透過した透過光の強度を前記光検出手段によって測定できるように構成している請求項1乃至4いずれか記載の粒子物性測定装置。
- 前記光検出手段で検出された光強度の揺らぎに基づいて粒子径分布を算出する粒子径分布算出部をさらに具備している請求項1乃至5いずれか記載の粒子物性測定装置。
- 前記角度制御部が、粒子径分布算出部による粒子径分布測定時に、前記試料における粒子濃度に応じて前記受光光学系機構の回転角度位置を変更する請求項6記載の粒子物性測定装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008247414A JP5002564B2 (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | 粒子物性測定装置 |
US13/121,170 US8625093B2 (en) | 2008-09-26 | 2009-09-25 | Particle characterization device |
CN2009801370287A CN102159934A (zh) | 2008-09-26 | 2009-09-25 | 颗粒物性测量装置 |
EP09816190.4A EP2333516A4 (en) | 2008-09-26 | 2009-09-25 | Device for measuring physical property of particle |
GB1104774.3A GB2475458B (en) | 2008-09-26 | 2009-09-25 | Particle characterization instrument |
PCT/JP2009/066628 WO2010035775A1 (ja) | 2008-09-26 | 2009-09-25 | 粒子物性測定装置 |
CN2011101371344A CN102323191B (zh) | 2008-09-26 | 2009-09-25 | 颗粒物性测量装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008247414A JP5002564B2 (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | 粒子物性測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010078469A true JP2010078469A (ja) | 2010-04-08 |
JP5002564B2 JP5002564B2 (ja) | 2012-08-15 |
Family
ID=42209091
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008247414A Active JP5002564B2 (ja) | 2008-09-26 | 2008-09-26 | 粒子物性測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5002564B2 (ja) |
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JP5002564B2 (ja) | 2012-08-15 |
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Legal Events
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