JP2010075879A - 排ガスの脱臭処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体を、スクラバーにより、微細ゲルもしくはゾルとして排ガスに噴霧し、ついで該排ガスを脱臭フィルター層を通過させることを特徴とする排ガスの脱臭処理方法。脱臭フィルター層としては光触媒層、活性炭層および/または無機繊維層が好適に使用される。
【選択図】図1
Description
(1)炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体を、スクラバーにより、微細ゲルもしくはゾルとして排ガスに噴霧し、ついで該排ガスを脱臭フィルター層を通過させることを特徴とする排ガスの脱臭処理方法;
(2)排ガスが揮発性有機化合物を含有する上記(1)記載の排ガスの脱臭処理方法;
(3)排ガスが塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程からの排ガスである上記(1)もしくは(2)記載の排ガスの脱臭処理方法;
(4)超高分子化合物の炭素原子が直鎖性である上記(1)〜(3)のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法;
(5)超高分子化合物の質量平均分子量が500万〜5000万である上記(1)〜(4)のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法;
(6)超高分子化合物がポリアクリルアミド系、ポリアクリル酸系もしくはポリメタクリル酸系化合物である上記(1)〜(5)のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法;
(7)噴霧された微細ゲルもしくはゾルの粒径が10〜500nmである上記(1)〜(6)のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法;
(8)脱臭フィルター層が光触媒層、活性炭層および/または無機繊維層である上記(1)〜(6)のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法;
(9)光触媒層がチタニアである上記(8)記載の排ガスの脱臭処理方法;
(10)光触媒層がセラミックフォームに担持されている上記(8)もしくは(9)記載の排ガスの脱臭処理方法;
(11)セラミックフォームがアルミナ、コーディエライト、シリカ・アルミナ、ジルコニアもしくは炭化ケイ素から選ばれる上記(10)記載の排ガスの脱臭処理方法;
(12)光触媒層が紫外線照射される上記(8)〜(11)のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法;
(13)除湿した後に、排ガスを脱臭フィルター層を通過させる上記(1)〜(12)のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法;
(14)除湿した後に、さらに除塵する上記(13)記載の排ガスの脱臭処理方法;
(15)脱臭処理前および脱臭処理後の排ガスの臭気濃度がそれぞれ10000以上および500以下である上記(1)〜(14)のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法;
(16)脱臭処理後の排ガスの臭気濃度が300以下である上記(15)記載の排ガスの脱臭処理方法、
(17)排ガスに微細ゲルもしくはゾルを噴霧するための微細ゲルもしくはゾル噴霧部を備えたスクラバー部、ならびに微細ゲルもしくはゾルを噴霧された排ガスを導入するための脱臭フィルター層、を備えた排ガスの脱臭処理装置において、脱臭フィルター層は光触媒層がセラミックフォームに担持されてなる排ガスの脱臭処理装置;
(18)スクラバー部の後に除湿部をさらに備えた上記(17)記載の排ガスの脱臭処理装置;
(19)除湿部の後に除塵部をさらに備えた上記(18)記載の排ガスの脱臭処理装置;ならびに
(20)微細ゲルもしくはゾルが炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体の噴霧により得られる上記(17)〜(19)のいずれか記載の排ガスの脱臭処理装置、
である。
実施例1
図1に示す、微細ゲルもしくはゾル噴霧部を備えたスクラバー部(1)、除湿部(2)、除塵部(3)ならびにアルミナフォーム表面にチタニア光触媒が800nm程度コーティングされた脱臭フィルター層(4)を有する脱臭処理装置を用いて、超高分子化合物として「マイクロゲルS-AL200」(カルモア社製)を用いて、連続してアルミニウム鋳造工場排ガス(排ガス流量375m3/分)の脱臭処理を行なった。
2 除湿部
3 除塵部
4 脱臭フィルター層
Claims (20)
- 炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体を、スクラバーにより、微細ゲルもしくはゾルとして排ガスに噴霧し、ついで該排ガスを脱臭フィルター層を通過させることを特徴とする排ガスの脱臭処理方法。
- 排ガスが揮発性有機化合物を含有する請求項1記載の排ガスの脱臭処理方法。
- 排ガスが塗装、印刷、アルミ鋳造もしくは接着工程からの排ガスである請求項1もしくは2記載の排ガスの脱臭処理方法。
- 超高分子化合物の炭素原子が直鎖性である請求項1〜3のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
- 超高分子化合物の質量平均分子量が500万〜5000万である請求項1〜4のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
- 超高分子化合物がポリアクリルアミド系、ポリアクリル酸系もしくはポリメタクリル酸系化合物である請求項1〜5のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
- 噴霧された微細ゲルもしくはゾルの粒径が10〜500nmである請求項1〜6のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
- 脱臭フィルター層が光触媒層、活性炭層および/または無機繊維層である請求項1〜6のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
- 光触媒層がチタニアである請求項8記載の排ガスの脱臭処理方法。
- 光触媒層がセラミックフォームに担持されている請求項8もしくは9記載の排ガスの脱臭処理方法。
- セラミックフォームがアルミナ、コーディエライト、シリカ・アルミナ、ジルコニアも
しくは炭化ケイ素から選ばれる請求項10記載の排ガスの脱臭処理方法。 - 光触媒層が紫外線照射される請求項8〜11のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
- 除湿した後に、排ガスを脱臭フィルター層を通過させる請求項1〜12のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
- 除湿した後に、さらに除塵する請求項13記載の排ガスの脱臭処理方法。
- 脱臭処理前および脱臭処理後の排ガスの臭気濃度がそれぞれ10,000以上および500以下である請求項1〜14のいずれか記載の排ガスの脱臭処理方法。
- 脱臭処理後の排ガスの臭気濃度が300以下である請求項15記載の排ガスの脱臭処理方法。
- 排ガスに微細ゲルもしくはゾルを噴霧するための微細ゲルもしくはゾル噴霧部を備えたスクラバー部、ならびに微細ゲルもしくはゾルを噴霧された排ガスを導入するための脱臭フィルター層、を備えた排ガスの脱臭処理装置において、脱臭フィルター層は光触媒層がセラミックフォームに担持されてなる排ガスの脱臭処理装置。
- スクラバー部の後に除湿部をさらに備えた請求項17記載の排ガスの脱臭処理装置。
- 除湿部の後に除塵部をさらに備えた請求項18記載の排ガスの脱臭処理装置。
- 微細ゲルもしくはゾルが炭素原子に酸性基、中性基および塩基性基が結合してなる超高分子化合物の水溶液もしくは水分散体の噴霧により得られる請求項17〜19のいずれか記載の排ガスの脱臭処理装置。
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