JP2010067949A - オブジェクトサポート位置決めデバイスおよびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】オブジェクトサポートを位置決めするオブジェクトサポート位置決めデバイス1は、第1、第2、および第3のスライダのうち少なくとも1つのスライダ内に流体ベアリングが設けられ、流体ベアリングは、少なくとも1つのスライダの摺動方向に垂直である第1の方向に反力を作用させるための複数のベアリング面を含む。
【選択図】図2
Description
Claims (27)
- オブジェクトサポートを位置決めする位置決めデバイスであって、
それぞれに対応する第1および第2のスライダが取り付けられた、第1および第2の側ばりと、
前記第1および第2のスライダをそれぞれに対応する側ばりに沿って移動させるように構成された、第1および第2のモータと、
その第1および第2の端部の近傍でそれぞれ前記第1および第2のスライダに取り付けられ、第3のスライダがそこに取り付けられた横ばりであって、前記横ばりと前記第1および第2のスライダが一緒に取り付けられる、横ばりと、
前記オブジェクトサポートを支持する前記第3のスライダを、前記横ばりに沿って長手方向に移動させる第3のモータと、
前記第1、第2、および第3のスライダのうち少なくとも1つのスライダ内の流体ベアリングであって、使用の際に前記少なくとも1つのスライダの摺動方向に実質的に垂直である第1の方向に反力を作用させる複数のベアリング面を備える、流体ベアリングと
を備える、位置決めデバイス。 - 前記複数のベアリング面が、互いに実質的に平行に構成される、請求項1に記載のデバイス。
- 前記複数のベアリング面のうち2つが、前記第1の方向に互いに離隔して構成される、請求項1に記載のデバイス。
- 前記流体ベアリングが、複数のエアベアリング面を備えるエアベアリングである、請求項1に記載のデバイス。
- 前記複数のベアリング面が、前記第1の方向に対して斜角で構成される、請求項1に記載のデバイス。
- 前記流体ベアリングが、前記第1の方向とは反対の第2の方向に反力を作用させるように構成された1つまたは複数の第2のベアリング面を備える、請求項1に記載のデバイス。
- 前記流体ベアリングが、前記第1の方向とは反対の第2の方向に反力を作用させるように構成された複数の第2のベアリング面を備える、請求項1に記載のデバイス。
- 前記複数の第2のベアリング面が、前記第2の方向に、互いに実質的に平行に、または互いに離隔して、または互いに実質的に平行にかつ離隔して構成される、請求項7に記載のデバイス。
- 前記流体ベアリングが、前記第3のスライダ内に設けられる、請求項1に記載のデバイス。
- 前記流体ベアリングが、前記第1の方向に実質的に垂直である第3の方向に反力を作用させるように構成された1つまたは複数の流体ベアリングを備える、請求項1に記載のデバイス。
- 前記流体ベアリングが、前記第3の方向とは反対の第4の方向に反力を作用させるように構成された1つまたは複数の流体ベアリングを備える、請求項10に記載のデバイス。
- 前記第1、第2、および第3のスライダのうち前記少なくとも1つのスライダが、少なくとも前記第1の方向に実質的に垂直な方向に延在する2つ以上のベアリングアームを備え、前記2つ以上のベアリングアームがそれぞれ、前記複数のベアリング面の1つを範囲設定する、請求項1に記載のデバイス。
- 前記第1、第2、および第3のスライダのうち前記少なくとも1つのスライダが、少なくとも前記第1の方向に実質的に垂直な方向に延在する4つのベアリングアームを備え、前記4つのベアリングアームがそれぞれ、前記複数のベアリング面の1つを範囲設定する、請求項1に記載のデバイス。
- 前記第1、第2、および第3のスライダのうち前記少なくとも1つのスライダが、少なくとも前記第1の方向に実質的に垂直な方向に延在する4つのベアリングアームを備え、前記4つのベアリングアームがそれぞれ、前記複数のベアリング面の少なくとも1つ、および前記第2のベアリング面の少なくとも1つを範囲設定する、請求項6に記載のデバイス。
- オブジェクトサポートを位置決めする位置決めデバイスであって、
それぞれに対応する第1および第2のスライダが取り付けられた第1および第2の側ばりと、
前記第1および第2のスライダをそれぞれに対応する側ばりに沿って移動させる第1および第2のモータと、
その第1および第2の端部の近傍でそれぞれ前記第1および第2のスライダに取り付けられ、第3のスライダがそこに取り付けられた横ばりであって、前記横ばりと前記第1および第2のスライダが一緒に取り付けられる、横ばりと、
前記オブジェクトサポートを支持する前記第3のスライダを、前記横ばりに沿って長手方向に移動させる第3のモータと、
前記第1、第2、および第3のスライダのうち少なくとも1つのスライダ内の流体ベアリングであって、使用の際に、前記少なくとも1つのスライダの摺動方向に実質的に垂直な平面内に少なくとも部分的にある第1の回転方向に、反作用トルクを相まって作用させる複数のベアリング面を備える、流体ベアリングと
を備える、位置決めデバイス。 - 前記複数のベアリング面が、互いに実質的に平行に構成される、請求項15に記載のデバイス。
- 前記複数のベアリング面のうち少なくとも2つが、前記摺動方向に実質的に垂直な方向に互いに離隔して構成される、請求項15に記載のデバイス。
- 前記流体ベアリングが、複数のエアベアリング面を備えるエアベアリングである、請求項15に記載のデバイス。
- 前記複数のベアリング面が、前記摺動方向に実質的に垂直な方向に対して斜角で構成される、請求項15に記載のデバイス。
- 前記流体ベアリングが、使用の際に前記第1の回転方向とは反対の第2の回転方向に反作用トルクを相まって作用させるように構成された、1つまたは複数の第2のベアリング面を備える、請求項15に記載のデバイス。
- 前記流体ベアリングが、使用の際に前記第1の回転方向とは反対の第2の回転方向に反作用トルクを相まって作用させるように構成された、複数の第2のベアリング面を備える、請求項15に記載のデバイス。
- 前記複数の第2のベアリング面が、前記摺動方向に実質的に垂直な方向に、互いに平行に、または互いに離隔して、または互いに平行にかつ離隔して構成される、請求項21に記載のデバイス。
- 前記流体ベアリングが、前記第3のスライダ内に設けられる、請求項15に記載のデバイス。
- 前記第1、第2、および第3のスライダのうち前記少なくとも1つのスライダが、前記摺動方向に実質的に垂直な前記平面内に延在する2つ以上のベアリングアームを備え、前記2つ以上のベアリングアームがそれぞれ、前記複数のベアリング面の1つを範囲設定する、請求項15に記載のデバイス。
- 前記第1、第2、および第3のスライダのうち前記少なくとも1つのスライダが、前記摺動方向に実質的に垂直な平面内に延在する4つのベアリングアームを備え、前記4つのベアリングアームがそれぞれ、前記複数のベアリング面の1つを範囲設定する、請求項1に記載のデバイス。
- 前記第1、第2、および第3のスライダのうち前記少なくとも1つのスライダが、前記摺動方向に実質的に垂直な前記平面内に延在する4つのベアリングアームを備え、前記4つのベアリングアームがそれぞれ、前記複数のベアリング面の少なくとも1つ、および前記複数の第2のベアリング面の少なくとも1つを範囲設定する、請求項21に記載のデバイス。
- 放射ビームの断面内にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持する第1のオブジェクトサポートと、
基板を保持する第2のオブジェクトサポートと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
前記オブジェクトサポートのうち少なくとも1つのオブジェクトサポートを位置決めする位置決めデバイスであって、
それぞれに対応する第1および第2のスライダが取り付けられた第1および第2の側ばり、
前記第1および第2のスライダをそれぞれに対応する側ばりに沿って移動させる第1および第2のモータ、
その第1および第2の端部の近傍でそれぞれ前記第1および第2のスライダに取り付けられ、第3のスライダがそこに取り付けられた横ばりであって、前記横ばりと前記第1および第2のスライダが一緒に取り付けられる、横ばり、
前記少なくとも1つのオブジェクトサポートを支持する前記第3のスライダを、前記横ばりに沿って長手方向に移動させる第3のモータ、ならびに
前記第1、第2、および第3のスライダのうち少なくとも1つのスライダ内の流体ベアリングであって、使用の際に前記少なくとも1つのスライダの摺動方向に実質的に垂直である第1の方向に反力を作用させる複数のベアリング面を備える、流体ベアリングと
を備える位置決めデバイスと
を備えるリソグラフィ投影装置。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63172988A (ja) * | 1987-01-12 | 1988-07-16 | キヤノン株式会社 | 移動機構 |
JPS63231019A (ja) * | 1987-03-19 | 1988-09-27 | Canon Inc | 静圧軸受装置 |
JP2001143984A (ja) * | 1999-11-16 | 2001-05-25 | Canon Inc | 位置決め装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH519661A (de) * | 1969-08-21 | 1972-02-29 | Oerlikon Buehrle Ag | Hydrostatisches Gleitlager |
JPS566919A (en) * | 1979-06-26 | 1981-01-24 | Canon Inc | Fluid bearing |
US5815246A (en) * | 1996-12-24 | 1998-09-29 | U.S. Philips Corporation | Two-dimensionally balanced positioning device, and lithographic device provided with such a positioning device |
DE69717975T2 (de) | 1996-12-24 | 2003-05-28 | Asml Netherlands B.V., Veldhoven | In zwei richtungen ausgewogenes positioniergerät, sowie lithographisches gerät mit einem solchen positioniergerät |
USRE40043E1 (en) | 1997-03-10 | 2008-02-05 | Asml Netherlands B.V. | Positioning device having two object holders |
US5971614A (en) * | 1997-09-08 | 1999-10-26 | Aesop, Inc. | Modular hydrostatic bearing with carriage form-fit to PR |
DE69926753T2 (de) * | 1998-06-17 | 2006-01-19 | Nikon Corp. | Statischdrucklager,dieses verwendende einrichtung und optisches gerät versehen mit solch einer einrichtung |
DE60032568T2 (de) * | 1999-12-01 | 2007-10-04 | Asml Netherlands B.V. | Positionierungsapparat und damit versehener lithographischer Apparat |
TWI264617B (en) * | 1999-12-21 | 2006-10-21 | Asml Netherlands Bv | Balanced positioning system for use in lithographic apparatus |
US20040252287A1 (en) * | 2003-06-11 | 2004-12-16 | Michael Binnard | Reaction frame assembly that functions as a reaction mass |
TWI288306B (en) * | 2003-11-05 | 2007-10-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and method for manufacturing a lithographic device |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63172988A (ja) * | 1987-01-12 | 1988-07-16 | キヤノン株式会社 | 移動機構 |
JPS63231019A (ja) * | 1987-03-19 | 1988-09-27 | Canon Inc | 静圧軸受装置 |
JP2001143984A (ja) * | 1999-11-16 | 2001-05-25 | Canon Inc | 位置決め装置 |
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