JP2010062336A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4908614B2 (ja) * 2009-06-12 2012-04-04 日本電波工業株式会社 水晶振動子の製造方法
CN105540527A (zh) * 2015-12-10 2016-05-04 西安交通大学 微压电加速度传感器芯片及其制作方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3765969A (en) * 1970-07-13 1973-10-16 Bell Telephone Labor Inc Precision etching of semiconductors
JPH06163511A (ja) 1992-11-19 1994-06-10 Toyota Motor Corp エッチングマスクパターンとこのエッチングマスクパターンを用いた微細装置の製造方法
JP2661513B2 (ja) 1993-08-13 1997-10-08 日本電気株式会社 半導体加速度センサの製造方法及びフォトマスク
JPH0778800A (ja) * 1993-09-07 1995-03-20 Fujitsu Ltd 微細加工方法および加速度計とその製造方法
JPH0845897A (ja) * 1994-07-29 1996-02-16 Japan Aviation Electron Ind Ltd 異方性エッチングにおけるアンダーエッチング補正方法
JP3489309B2 (ja) * 1995-12-27 2004-01-19 株式会社デンソー 半導体力学量センサの製造方法および異方性エッチングマスク
US6831765B2 (en) * 2001-02-22 2004-12-14 Canon Kabushiki Kaisha Tiltable-body apparatus, and method of fabricating the same
JP2002321196A (ja) * 2001-02-22 2002-11-05 Canon Inc マイクロ構造体、マイクロ力学量センサ、マイクロアクチュエータ、マイクロ光偏向器、光走査型ディスプレイ、及びそれらの製造方法
US6986609B2 (en) * 2001-05-08 2006-01-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Optical module and method for manufacturing the same
KR100612838B1 (ko) * 2004-02-07 2006-08-18 삼성전자주식회사 광학벤치, 이를 사용한 박형광픽업 및 그 제조방법
JP5147366B2 (ja) * 2007-11-16 2013-02-20 キヤノン株式会社 異方性エッチングによる構造体の作製方法、及びエッチングマスク付きシリコン基板

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