JP2010061085A - レジストの積層構造体およびレジストパターンの形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】波長200〜410nmの遠紫外光〜短波長可視光の範囲に主たる感光波長帯を有する下層レジスト上にアルカリに溶解する金属膜、その上に液晶パネルを透過して明暗差が大きくとれる波長420nm〜530nmの青色可視光を用いて感光させることができる上層レジストを積層する。上層レジストを液晶パネルに指定したパターン形状に感光させてアルカリ現像すると、金属膜もパターン化され、波長200〜410nmの遠紫外光〜短波長可視光を当てると、該金属膜パターンが遮光マスクとして働き、下層レジストに該パターンを転写できる。
【選択図】図1
Description
4:下層レジスト
5:アルカリに溶解する金属膜
6:上層レジスト
7:液晶パネル7
8:露光ビームのスポットの像
9:波長が420nm〜530nmの青色可視光を含む露光光線
10:投影光学系
11:上層レジスト6の感光部
12:現像液
13:上層レジスト6のパターン
14:アルカリに溶解する金属膜5のパターン
15:波長が200〜410nmの遠紫外光〜短波長可視光を含む露光光線
16:下層レジスト4の感光部
17:有機現像液
18:下層レジスト4のパターン
Claims (2)
- 下地基板上に波長200〜410nmの遠紫外光〜短波長可視光の範囲に主たる感光波長帯を有する下層レジストを付し、該下層レジスト上にアルカリに溶解する金属膜を堆積し、該アルカリに溶解する金属膜上に波長420nm〜530nmの青色可視光に感光する上層レジストを付したことを特徴とするレジストの積層構造体
- 下地基板上に波長200〜410nmの遠紫外光〜短波長可視光の範囲に主たる感光波長帯を有する下層レジストを付し、該下層レジスト上にアルカリに溶解する金属膜を堆積し、該アルカリに溶解する金属膜上に波長420nm〜530nmの青色可視光に感光する上層レジストを付したレジストの積層構造体を用い、前記波長420nm〜530nmの青色可視光に感光する上層レジストを、液晶パネルを原図基板の代わりに用いて露光する第1の露光工程と、該第1の露光工程後にアルカリ現像液によって該上層レジストを現像しつつ該アルカリ現像液によって該上層レジストが溶解除去された部分の前記金属膜も該アルカリ現像液に溶かし、該上層レジストと該金属膜の重層パターンを形成する第1の現像工程と、該第1の現像工程で溶け残った前記上層レジストと金属膜の重層パターンを遮光パターンとして波長200〜410nmの遠紫外光〜短波長可視光を含む光によって前記下層レジストを露光する第2の露光工程と、該第2の露光工程後にアルカリ現像液によって前記上層レジストと金属膜の重層パターンを除去する第2の現像工程と、有機現像液によって前記下層レジストを現像する第3の現像工程を有することを特徴とするレジストパターンの形成方法
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