JP2010056402A - 固体撮像素子 - Google Patents
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- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 88
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 83
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 75
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 46
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 abstract description 27
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000004297 night vision Effects 0.000 description 2
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 206010047571 Visual impairment Diseases 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000005247 gettering Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1463—Pixel isolation structures
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14603—Special geometry or disposition of pixel-elements, address-lines or gate-electrodes
Abstract
【課題】感度を向上でき、かつ、素子分離領域が狭小となった場合でも隣接するフォトダイオード間の電荷漏れ込みを十分に抑制することができる固体撮像素子を提供する。
【解決手段】固体撮像素子は、受光部が複数個配置された画素領域と、画素領域に隣接する周辺回路領域とが設けられており、第1導電型または第2導電型の半導体基板102と、半導体基板102に設けられ、半導体基板102より不純物濃度が低い第1導電型の第1の半導体層103と、画素領域内の第1の半導体層103の上部に設けられた第2導電型の第1の不純物領域104と、画素領域内の隣接する複数の第1の不純物領域104の間、および周辺回路領域内に設けられた第1導電型の第2の不純物領域105と、画素領域において、第2の不純物領域105直下から半導体基板102に向かって延伸した第1導電型の第3の不純物領域106とを備えている。
【選択図】図3
【解決手段】固体撮像素子は、受光部が複数個配置された画素領域と、画素領域に隣接する周辺回路領域とが設けられており、第1導電型または第2導電型の半導体基板102と、半導体基板102に設けられ、半導体基板102より不純物濃度が低い第1導電型の第1の半導体層103と、画素領域内の第1の半導体層103の上部に設けられた第2導電型の第1の不純物領域104と、画素領域内の隣接する複数の第1の不純物領域104の間、および周辺回路領域内に設けられた第1導電型の第2の不純物領域105と、画素領域において、第2の不純物領域105直下から半導体基板102に向かって延伸した第1導電型の第3の不純物領域106とを備えている。
【選択図】図3
Description
本発明は、半導体基板上に受光部(pnフォトダイオード)が複数個配置された画素領域と受光部からの信号を外部出力する周辺回路部を備えた固体撮像素子、特にMOS型イメージセンサに関する。
近年、MOS(Metal-Oxide-Semiconductor)型イメージセンサやCCD(Charge Coupled Devices)型イメージセンサの微細化が盛んに行われている。微細化時には、光電変換するフォトダイオードの面積は画素サイズに合わせて縮小される。フォトダイオードの縮小による感度低下はイメージセンサにとって大きな課題である。また、夜間の運転支援用車載カメラや暗視用セキュリティカメラ用途のイメージセンサは人の目に見えず、夜間の照射光に適している近赤外光(波長:650nm〜)の高感度化が求められている。
図1に各波長の光について、シリコン基板の深さと、当該深さ位置での光強度比との関係を示す。ここで、光強度比は、(シリコン基板の各深さ位置での光強度I)/(シリコン基板の上面での光強度I0)で求められた値である。波長の短い光はシリコン基板の浅い領域で光強度比が0に近づく。これは波長の短い光は吸収係数が高く、基板の浅い領域でほぼ吸収されるためである。一方、波長の長い光は吸収係数が低く、シリコン基板の深い領域まで、光が吸収されずに到達する。フォトダイオードを基板深部に拡大すれば、波長の長い光により光電変換された電荷をフォトダイオードに集めることが出来、感度を高めることが出来る。フォトダイオードを基板深部に拡大する方法としては以下の2つが考えられる。
第1はフォトダイオードのn型不純物領域を基板深さ方向に拡げる方法で、第2はフォトダイオードの空乏層を基板深部に伸張する方法である。
第1の方法ではフォトダイオードのポテンシャルが高くなり、フォトダイオードに蓄積された電荷を全て転送することが出来ず残像が発生しやすいという課題が生じるため、一般的に第2の方法を用いて感度向上が図られている。
以下、本発明の従来技術について図面を用いて説明する。
−第1の従来技術−
特許文献1に記載のフォトダイオード構成を図8に示す。この構成では、半導体基板11にp型ウェル層12が形成され、p型ウェル層12にn型の受光領域17が形成されるとともに、そ受光領域17の下方にp型深ウェル層16が形成され、受光領域17と深ウェル層16との間にp型の不純物層20が形成されている。p型の不純物層20の不純物濃度は深ウェル層16より低く、深ウェル層16の不純物濃度はウェル層12より低い。この構成であれば、フォトダイオードの空乏層が伸張し、感度が向上するとしている。しかし、この構成ではフォトダイオードの空乏層は不純物層20の領域までは伸張するが、不純物層20の下部に備えられている不純物層より不純物濃度の高い深ウェル層16領域では伸長せず、十分な空乏層伸張効果(感度向上効果)を得ることは出来ない。
特許文献1に記載のフォトダイオード構成を図8に示す。この構成では、半導体基板11にp型ウェル層12が形成され、p型ウェル層12にn型の受光領域17が形成されるとともに、そ受光領域17の下方にp型深ウェル層16が形成され、受光領域17と深ウェル層16との間にp型の不純物層20が形成されている。p型の不純物層20の不純物濃度は深ウェル層16より低く、深ウェル層16の不純物濃度はウェル層12より低い。この構成であれば、フォトダイオードの空乏層が伸張し、感度が向上するとしている。しかし、この構成ではフォトダイオードの空乏層は不純物層20の領域までは伸張するが、不純物層20の下部に備えられている不純物層より不純物濃度の高い深ウェル層16領域では伸長せず、十分な空乏層伸張効果(感度向上効果)を得ることは出来ない。
−第2の従来技術−
一方、フォトダイオードの空乏層を基板深さ方向に十分伸張することで、隣接するフォトダイオード間が電気的に接続し、電荷が漏れこむクロストークが発生する課題も生じる。クロストークの抑制技術として、特許文献2に記載された構造を図9に示す。光電変換部22と信号走査回路を含む単位セル複数を半導体基板あるいはウェル21上に行列2次元状に配列してなる撮像領域と各セルからの信号を読み出す信号線を備えた固体撮像素子で、光電変換部22を分離する素子分離領域24の下に、基板あるいはセルを配置したウェルと同一導電型のp型の不純物層24−1を形成すると共にp型の不純物層の下に第2の不純物分離層24−2を形成することにより3段構成の素子分離領域を有する。この構成であれば、基板深部まで分離領域を有しているため、クロストークを抑制できるとしている。しかし、光電変換部を分離する素子分離領域の下にのみ不純物層を形成している特許文献2に記載の構造では、素子分離領域が狭小となる微細化時では、深部分離領域(24−1、24−2)も素子分離領域24に合わせて狭小となり、基板深部における十分なフォトダイオード間分離は行えない。
特許第3886297号
特許第3403062号
一方、フォトダイオードの空乏層を基板深さ方向に十分伸張することで、隣接するフォトダイオード間が電気的に接続し、電荷が漏れこむクロストークが発生する課題も生じる。クロストークの抑制技術として、特許文献2に記載された構造を図9に示す。光電変換部22と信号走査回路を含む単位セル複数を半導体基板あるいはウェル21上に行列2次元状に配列してなる撮像領域と各セルからの信号を読み出す信号線を備えた固体撮像素子で、光電変換部22を分離する素子分離領域24の下に、基板あるいはセルを配置したウェルと同一導電型のp型の不純物層24−1を形成すると共にp型の不純物層の下に第2の不純物分離層24−2を形成することにより3段構成の素子分離領域を有する。この構成であれば、基板深部まで分離領域を有しているため、クロストークを抑制できるとしている。しかし、光電変換部を分離する素子分離領域の下にのみ不純物層を形成している特許文献2に記載の構造では、素子分離領域が狭小となる微細化時では、深部分離領域(24−1、24−2)も素子分離領域24に合わせて狭小となり、基板深部における十分なフォトダイオード間分離は行えない。
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたもので、空乏層を基板深部へ十分伸張(感度向上)でき、かつ、たとえ素子分離領域が狭小となった場合でも隣接するフォトダイオード間の電荷漏れ込みを十分に抑制することができる固体撮像素子を提供することを目的とする。
本発明の固体撮像素子は、受光部が複数個配置された画素領域と、画素領域に隣接する周辺回路領域とが設けられた固体撮像素子であって、第1導電型または第2導電型の半導体基板と、半導体基板上に設けられ、半導体基板よりも不純物濃度が低い第1導電型の第1の半導体層と、画素領域内の第1の半導体層の上部に設けられた第2導電型の第1の不純物領域と、画素領域内の隣接する複数の第1の不純物領域の間、および周辺回路領域内に設けられた第1導電型の第2の不純物領域と、画素領域において、第2の不純物領域直下から半導体基板に向かって延伸した第1導電型の第3の不純物領域とを備えている。
この構成であれば、フォトダイオードの空乏層は不純物層に隔てられることはなく、基板深部に十分に伸張することが可能である。また、第1の半導体層よりも不純物濃度の高い第1導電型または第2導電型の半導体基板を用いているため、空乏層が伸張した領域より下方で光電変換された電荷は半導体基板で再結合して消滅するか、または、オーバーフロードレイン構造で基板側へ排除することができ、フォトダイオード間の電荷の漏れ込みを抑制することが可能である。また、画素領域において隣接した第1の不純物領域間に第2の不純物領域と第2の不純物領域直下から半導体基板に向かって延伸した第3の不純物領域とを有しているため、フォトダイオード間の電荷の漏れ込みを基板深部まで十分に抑制することが出来る。さらに、素子分離領域が狭くなっても、基板深部の分離を行う第3の不純物領域は第2の不純物領域の直下に形成されているため、微細化時でも隣接フォトダイオードへの電荷の漏れ込みを十分に抑制することが出来る。
本発明の固体撮像素子では、画素領域内の第3の不純物領域が画素領域内の第2の不純物領域の内側に形成されていてもよい。この構成であれば、基板深部でのフォトダイオード間の電荷漏れ込みを抑制でき、かつ、フォトダイオードを構成する第2の不純物領域を横方向へ拡大することが可能であり、感度を向上することが出来る。
本発明の固体撮像素子では、画素領域内の第3の不純物領域が半導体基板に接していてもよい。この構成であれば、基板深部におけるフォトダイオード間の電荷漏れ込みを完全に防止することが可能となる。
本発明の固体撮像素子では、第1の半導体層の不純物濃度は1×1014atoms/cm3以上1×1015atoms/cm3以下であることが好ましい。この構成であれば、フォトダイオード間のばらつきを抑制しつつ、空乏層を十分に基板深部に伸張させることが出来る。
本発明の固体撮像素子では、第1の半導体層がエピタキシャル成長層であってもよい。この構成であれば、第1の半導体層の厚みを簡易に制御することが出来、空乏層を基板深部に十分伸張させることが出来る。
本発明の固体撮像素子では、第1の半導体層の不純物濃度は均一であってもよい。この構成であれば、各フォトダイオードの空乏層の深さが一定となるため、ばらつきを低減することが出来る。
本発明の固体撮像素子では、画素領域内の第2の不純物領域内にフローティングディフュージョン、または、受光部の電荷をリセットするトランジスタが設けられている。この構成であれば、フォトダイオードからフローティングディフュージョン部への電荷の漏れ込みをより抑制でき、また、トランジスタのより良い動作特性を得ることが出来る。
本発明の固体撮像素子の構成であれば、フォトダイオードの空乏層を基板深部に十分に伸張させることが可能で、近赤外光に対する高感度化を実現できる。また、微細化時に空乏層が基板深部に伸張しても、基板深部におけるフォトダイオード間の電荷漏れ込みを抑制することができる。
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。
(第1の実施形態)
図2は、本発明の第1の実施形態に係る固体撮像素子の全体的な構成を説明するための平面概略図である。同図は、基板の上面(半導体素子が形成されている面)側から見た図である。図2に示すように、本実施形態の固体撮像素子には、光電変換を行うための複数の受光部(及び受光部を含む画素)がマトリクス状に配列された画素領域100と、画素領域100に隣接する周辺回路領域101とが設けられている。ここでは、周辺回路領域101は画素領域100の辺に沿った領域に配置されている。この周辺回路領域101は、信号を読み出す画素を選択するための垂直シフトレジスタ101bや、画素から読み出された信号を固体撮像素子の外部へ出力するための水平シフトレジスタ101aなど、信号の読み出しに関わる回路を含んでいる。
図2は、本発明の第1の実施形態に係る固体撮像素子の全体的な構成を説明するための平面概略図である。同図は、基板の上面(半導体素子が形成されている面)側から見た図である。図2に示すように、本実施形態の固体撮像素子には、光電変換を行うための複数の受光部(及び受光部を含む画素)がマトリクス状に配列された画素領域100と、画素領域100に隣接する周辺回路領域101とが設けられている。ここでは、周辺回路領域101は画素領域100の辺に沿った領域に配置されている。この周辺回路領域101は、信号を読み出す画素を選択するための垂直シフトレジスタ101bや、画素から読み出された信号を固体撮像素子の外部へ出力するための水平シフトレジスタ101aなど、信号の読み出しに関わる回路を含んでいる。
各画素から出力された信号は垂直シフトレジスタ101b、水平シフトレジスタ101aを用いて読み出され、固体撮像素子の外部に出力される。なお、図2では、各領域に設けられたMOSトランジスタの構造や配線の詳細の図示を省略している。
図3は、図2に示すIII−III線における、第1の実施形態に係る固体撮像素子の構成例を示す断面図である。
同図に示すように、本実施形態の固体撮像素子は画素領域100と周辺回路領域101が設けられ、画素領域100の各画素は分離酸化膜107により、分離されている。分離酸化膜107はLOCOSまたはSTIによって形成されている。同図ではLOCOSを用いた場合の構造例を示している。半導体基板102と、半導体基板102上に半導体基板102よりも低濃度の不純物を含むp型半導体層(第1の半導体層)103と、画素領域100内のp型半導体層103の上部に設けられたn型不純物領域(第1の不純物領域)104と、n型不純物領域104間、および周辺回路領域101内に設けられたp型ウェル領域(第2の不純物領域)105と、画素領域100においてp型ウェル領域105直下から半導体基板102に向かって延伸したp型深部分離領域(第3の不純物領域)106とを備えている。なお、p型深部分離領域106は画素領域100内だけでなく、周辺回路領域101内のp型ウェル領域105直下に形成されていても、本発明の効果は損なわれない。
半導体基板102の表面(上面)から平面的に見て、画素領域100のp型ウェル領域105は、n型不純物領域104を囲むように形成されている。また、p型ウェル領域105直下から半導体基板102に向かって延伸したp型深部分離領域106もn型不純物領域104を囲むように形成されている。それぞれの不純物領域の不純物濃度の一例を示す。p型半導体層103の不純物濃度は約1×1015atoms/cm3、n型不純物領域104の不純物濃度は約1×1016atoms/cm3、p型ウェル領域105の不純物濃度は約1×1016atoms/cm3、p型深部分離領域の不純物濃度は約1×1016atoms/cm3である。次にそれぞれの不純物領域の半導体基板表面からの深さの一例を示す。p型半導体層103の厚みは約4〜5μmでp型ウェル領域105とn型不純物領域104は基板表面から約1μmの深さに形成されている。p型深部分離領域106は基板表面から約3〜4μmの深さに形成されている。
以上で説明した構成のうち、本実施形態の固体撮像素子の特徴は、不純物濃度の高いp型基板またはn型基板に設けられた不純物濃度の低いp型半導体層103にn型不純物領域104が形成され、フォトダイオードが構成される。また、画素領域100内でn型不純物領域104間にp型ウェル領域105が形成され、p型ウェル領域105直下から半導体基板に向かって延伸したp型分離領域を有していることにある。この構成であれば、半導体基板の深さ方向に、空乏層の伸びを遮る不純物領域はなく、空乏層を基板深部に十分に延伸することが出来、基板深部まで吸収されずに到達する波長の長い光の感度を高めることが出来る。また、不純物濃度の高いp型基板またはn型基板を用いているので、空乏層が形成された領域の下方で光電変換された電荷は再結合で消滅、あるいはオーバーフロードレイン構造で基板側に電荷を除去でき、フォトダイオード間の電荷の漏れ込みを抑制することが出来る。さらに、濃度の高いp型深部分離領域がp型ウェル領域直下から半導体基板に向かって延伸しているので、たとえ、微細化時に分離酸化膜107が狭小となっても、基板深部のフォトダイオード間の電荷の漏れ込みを抑制することが出来る。
ここで、半導体基板102が不純物濃度の高いp型を用いた場合、好ましくは不純物濃度が1×1018atoms/cm3以上、1×1020atoms/cm3以下である。この構成であれば、半導体基板102はゲッタリング効果を有し、ノイズを低減することも出来る。また、n型基板より低コストという利点もある。また、半導体基板102がn型を用いた場合、オーバーフロードレイン構造で空乏層が形成された領域の下方で光電変換された電荷を排除するので、再結合で消滅させるp型基板より、過飽和時の電荷の漏れ込みを抑制することができる。
(第2の実施形態)
本発明の第2の実施形態に係る固体撮像素子の全体的な構成は第1の実施形態に係る固体撮像素子と同様なため、特徴部分以外の構成の説明は簡略化あるいは省略する。以下の説明は図4を参照しながら行う。
本発明の第2の実施形態に係る固体撮像素子の全体的な構成は第1の実施形態に係る固体撮像素子と同様なため、特徴部分以外の構成の説明は簡略化あるいは省略する。以下の説明は図4を参照しながら行う。
本実施形態の固体撮像素子の特徴は、平面視において、画素領域100内のp型ウェル領域105の内側にp型深部分離領域106が形成されていることにある。このことにより、画素領域100内の基板深部の隣接フォトダイオードへの電荷の漏れ込みを抑制できるだけでなく、フォトダイオードを構成するn型不純物領域104を横方向(基板面に水平な方向)に拡大することが出来る。基板深部のフォトダイオード面積が拡がるため、感度を向上させることが出来る。
(第3の実施形態)
本発明の第3の実施形態に係る固体撮像素子の全体的な構成は第1の実施形態に係る固体撮像素子と同様なため、特徴部分以外の構成の説明は簡略化あるいは省略する。以下の説明は図5を参照しながら行う。
本発明の第3の実施形態に係る固体撮像素子の全体的な構成は第1の実施形態に係る固体撮像素子と同様なため、特徴部分以外の構成の説明は簡略化あるいは省略する。以下の説明は図5を参照しながら行う。
本実施形態の固体撮像素子の特徴は、画素領域100内のp型深部分離領域106が半導体基板102と接していることにある。このことにより、画素領域内の基板深部の隣接フォトダイオードへの電荷の漏れ込みをほぼ完全に抑制することが出来る。
(第4の実施形態)
本発明の第4の実施形態に係る固体撮像素子の全体的な構成は第1の実施形態に係る固体撮像素子と同様なため、特徴部分以外の構成の説明は簡略化あるいは省略する。
本発明の第4の実施形態に係る固体撮像素子の全体的な構成は第1の実施形態に係る固体撮像素子と同様なため、特徴部分以外の構成の説明は簡略化あるいは省略する。
本実施形態の固体撮像素子の特徴は、p型半導体層103の不純物濃度は1×1014atoms/cm3以上1×1015atoms/cm3以下であることである。空乏層幅W[cm]は以下の関係式(式1)で示される。ここでεsは半導体の誘電率[F/cm]、qは素電荷量[C]、Vbiは内蔵電位[V]、NDはドナー不純物濃度[cm-3]である。
ドナーの不純物濃度が低い場合、空乏層幅は大きくなる。よって、p型半導体層103の不純物濃度が低いとフォトダイオードの空乏層は基板深部に伸張する。ただし、p型半導体層103の不純物濃度を低くした場合、均一性を制御するのが困難となる。不純物濃度が1×1014atoms/cm3以上1×1015atoms/cm3以下であれば、フォトダイオードの空乏層を十分に基板深部に伸張でき、かつ、濃度を均一に制御できるため、フォトダイオード間の空乏層の深さの差による信号出力のばらつきを抑制することが出来る。
(第5の実施形態)
本発明の第5の実施形態に係る固体撮像素子の全体的な構成は第1の実施形態に係る固体撮像素子と同様なため、特徴部分以外の構成の説明は簡略化あるいは省略する。
本発明の第5の実施形態に係る固体撮像素子の全体的な構成は第1の実施形態に係る固体撮像素子と同様なため、特徴部分以外の構成の説明は簡略化あるいは省略する。
本実施形態の固体撮像素子の特徴は、p型半導体層103がエピタキシャル成長方法により形成されていることである。多段階のイオン注入により、p型の半導体層を形成する場合は、装置スペックに制限され、半導体層が形成される深さは限られる。
一方、p型半導体層103をエピタキシャル成長により形成した場合、膜厚を自由に制御することが出来る。図6にエピタキシャル成長により、p型半導体層103の膜厚を3.3μm、5.0μm、7.5μmと厚くした場合において、波長800nmの光に対する感度(厚み3.3μmの時の感度を1としたときの相対感度)を示す。p型半導体層103の膜厚が厚くなるほど感度は向上している。p型半導体層103とn型不純物領域104から形成されるフォトダイオードの空乏層はp型半導体層103の膜厚が厚くなればなるほど、基板深部に伸張することができ、長波長の光に対する感度を向上することが出来る。
(第6の実施形態)
本発明の第6の実施形態に係る固体撮像素子の全体的な構成は第1の実施形態に係る固体撮像素子と同様なため、特徴以外の構成の説明は簡略化あるいは省略する。
本発明の第6の実施形態に係る固体撮像素子の全体的な構成は第1の実施形態に係る固体撮像素子と同様なため、特徴以外の構成の説明は簡略化あるいは省略する。
本実施形態の固体撮像素子の特徴は、p型半導体層103の不純物濃度が均一であることにある。フォトダイオードの感度は基板深部に伸張した空乏層の深さで決定されるため、画素領域100内で不純物濃度にばらつきがある場合、画素領域100の複数のフォトダイオード間に感度差が生じ、信号出力にばらつきが生じる。例えば、p型半導体層103をエピタキシャル成長方法によって形成すれば、イオン注入によって形成する場合とは異なり、画素領域100内のp型半導体層103の不純物濃度を均一にすることが出来るため、信号出力のばらつきを抑制できる。
(第7の実施形態)
本発明の第7の実施形態に係る固体撮像素子の全体的な構成は第1の実施形態に係る固体撮像素子と同様なため、特徴以外の構成の説明は簡略化あるいは省略する。以下の説明は図7を参照しながら行う。
本発明の第7の実施形態に係る固体撮像素子の全体的な構成は第1の実施形態に係る固体撮像素子と同様なため、特徴以外の構成の説明は簡略化あるいは省略する。以下の説明は図7を参照しながら行う。
本実施形態の固体撮像素子の特徴は、画素領域100内のp型ウェル領域105内にフローティングディフュージョン108、または、受光部の電荷をリセットするトランジスタ(不図示)が設けられていることにある。図7に示す固体撮像素子には一例として、フローティングディフュージョン108が設けられている。フローティングディフュージョン108、トランジスタが直下から半導体基板102に向かって延伸したp型深部分離領域を有するp型ウェル領域105内に形成されれば、フローティングディフュージョン108ではフォトダイオードからの不必要な電荷を抑制し、トランジスタではフォトダイオードからドレインへの不必要な電荷を抑制し、十分な特性を得ることが出来る。
以上説明したように、本発明の固体撮像素子は、微細化時でもクロストークを抑制したまま感度を高めることが出来るので、夜間の運転支援用車載カメラや暗視用セキュリティカメラなど、種々の撮像装置に有用である。
100 画素領域
101 周辺回路領域
101a 水平シフトレジスタ
101b 垂直シフトレジスタ
102 半導体基板
103 p型半導体層
104 n型不純物領域
105 p型ウェル領域
106 p型深部分離領域
107 分離酸化膜
108 フローティングディフュージョン
101 周辺回路領域
101a 水平シフトレジスタ
101b 垂直シフトレジスタ
102 半導体基板
103 p型半導体層
104 n型不純物領域
105 p型ウェル領域
106 p型深部分離領域
107 分離酸化膜
108 フローティングディフュージョン
Claims (7)
- 受光部が複数個配置された画素領域と、前記画素領域に隣接する周辺回路領域とが設けられた固体撮像素子であって、
第1導電型または第2導電型の半導体基板と、
前記半導体基板上に設けられ、前記半導体基板よりも不純物濃度が低い第1導電型の第1の半導体層と、
前記画素領域内の前記第1の半導体層の上部に設けられた第2導電型の第1の不純物領域と、
前記画素領域内の隣接する複数の前記第1の不純物領域の間、および前記周辺回路領域内に設けられた第1導電型の第2の不純物領域と、
前記画素領域において、前記第2の不純物領域直下から前記半導体基板に向かって延伸した第1導電型の第3の不純物領域とを備えていることを特徴とする固体撮像素子。 - 前記画素領域内の前記第3の不純物領域が、平面視における前記画素領域内の前記第2の不純物領域の内側に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の固体撮像素子。
- 前記画素領域内の前記第3の不純物領域が、前記半導体基板と接していることを特徴とする請求項1または2に記載の固体撮像素子。
- 前記第1の半導体層の不純物濃度は、1×1014atoms/cm3以上1×1015atoms/cm3以下であることを特徴とする請求項1〜3のうちいずれか1つに記載の固体撮像素子。
- 前記第1の半導体層はエピタキシャル成長層であることを特徴とする請求項1〜4のうちいずれか1つに記載の固体撮像素子。
- 前記第1の半導体層内の不純物濃度は均一であることを特徴とする請求項1〜5に記載の固体撮像素子。
- 前記画素領域内の前記第2の不純物領域にフローティングディフュージョン、または、受光部の電荷をリセットするトランジスタが設けられていることを特徴とする請求項1〜6のうちいずれか1つに記載の固体撮像素子。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008221691A JP2010056402A (ja) | 2008-08-29 | 2008-08-29 | 固体撮像素子 |
PCT/JP2009/002986 WO2010023800A1 (ja) | 2008-08-29 | 2009-06-29 | 固体撮像素子 |
US12/667,997 US20100327332A1 (en) | 2008-08-29 | 2009-06-29 | Solid state imaging device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008221691A JP2010056402A (ja) | 2008-08-29 | 2008-08-29 | 固体撮像素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010056402A true JP2010056402A (ja) | 2010-03-11 |
Family
ID=41720985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008221691A Withdrawn JP2010056402A (ja) | 2008-08-29 | 2008-08-29 | 固体撮像素子 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100327332A1 (ja) |
JP (1) | JP2010056402A (ja) |
WO (1) | WO2010023800A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN110291636A (zh) * | 2017-02-21 | 2019-09-27 | 索尼半导体解决方案公司 | 成像器件和电子装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013110548A (ja) * | 2011-11-21 | 2013-06-06 | Canon Inc | 固体撮像素子、該固体撮像素子を備えた距離検出装置、該距離検出装置を備えたカメラ |
WO2014128953A1 (ja) * | 2013-02-25 | 2014-08-28 | 株式会社 日立製作所 | 半導体装置および半導体回路の駆動装置並びに電力変換装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5859462A (en) * | 1997-04-11 | 1999-01-12 | Eastman Kodak Company | Photogenerated carrier collection of a solid state image sensor array |
JPH1126741A (ja) * | 1997-07-04 | 1999-01-29 | Toshiba Corp | 固体撮像装置 |
JP3403062B2 (ja) * | 1998-03-31 | 2003-05-06 | 株式会社東芝 | 固体撮像装置 |
JP3886297B2 (ja) * | 1999-06-24 | 2007-02-28 | Necエレクトロニクス株式会社 | 光電変換装置およびその製造方法 |
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US6423958B1 (en) * | 2000-02-18 | 2002-07-23 | Innotech Corporation | Solid state imaging device and method of driving the same |
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2008
- 2008-08-29 JP JP2008221691A patent/JP2010056402A/ja not_active Withdrawn
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2009
- 2009-06-29 US US12/667,997 patent/US20100327332A1/en not_active Abandoned
- 2009-06-29 WO PCT/JP2009/002986 patent/WO2010023800A1/ja active Application Filing
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US10217780B2 (en) | 2013-10-07 | 2019-02-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Solid-state imaging apparatus, method for manufacturing the same, and imaging system |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2010023800A1 (ja) | 2010-03-04 |
US20100327332A1 (en) | 2010-12-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110228 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20120116 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20120116 |