JP2010055018A - 表示媒体、及び表示媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】一対の基板の対向面に撥水性を有する撥水層を単に設けた構成に比べて、粒子の壁面への付着が抑制されると共に、耐久性向上が実現された表示媒体及び表示媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】凹部２４の内周面に第１の撥水層２６を形成し、該凹部２４内に粒子含分散媒３０を充填し、さらに、未硬化状態の硬化性樹脂層２７の設けられた表示基板１３を、該硬化性樹脂層２７が凹部２４の開口側及び第１の撥水層２６に接するように重ね合わせた後に、硬化性樹脂層２７を硬化する硬化刺激を付与して硬化性樹脂層２７を硬化させて第２の撥水層２８とすることで、表示媒体１０を作製する。
【選択図】図１

Description

本発明は、表示媒体、及び表示媒体の製造方法に係る。

従来、繰り返し書き換えが可能な表示媒体として、泳動粒子を用いた表示媒体が知られている。
この表示媒体によれば、例えば一対の基板と、一対の基板間に形成された電界に応じて基板間を移動可能に該基板間に封入された粒子群と、を含んで構成されている。また、基板間には、粒子が基板内の特定の領域に偏るのを防ぐため等の理由により、基板間を複数の領域に区画するための区画部材が設けられる場合もある。

表示媒体では、一対の基板間に電圧を印加することにより封入されている粒子を移動させることで、何れか一方の基板側に移動した粒子の量及び移動した粒子の色に応じた色の画像が表示される。すなわち、表示対象となる画像の色及び濃度に応じた、強度及び電圧印加時間の電圧を基板間に印加することで、表示対象の画像の色及び濃度に応じた画像を表示している。

ここで、基板表面や区画部材表面等に粒子が付着すると、所望の色及び濃度に応じた画像を表示させるために必要な電圧を、粒子付着が生じない状態である場合に比べて高くする必要があり、また、色再現域の低下を招く場合がある。特許文献１によれば、基板内に分子量の低いフッ素系化合物からなる薄膜層を設けることで、粒子の基板への付着を抑制している。

特開２００６−５８５６３号公報

本発明は、一対の基板の対向面に撥水性を有する撥水層を単に設けた構成に比べて、粒子の壁面への付着が抑制されると共に、耐久性向上が実現された表示媒体及び表示媒体の製造方法を提供することを課題とする。

上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
少なくとも一方が透光性を有し、間隔を隔てて対向して配置された一対の基板と、
前記一対の基板の間隔を保持すると共に、該一対の基板の基板間を面方向に１または複数の領域に区画する区画部材と、
前記区画部材によって区画された各領域内に封入され、前記基板間に形成された電界に応じて該基板間を移動する粒子群と、
前記区画部材によって区画された各領域内に封入され、前記粒子群を分散させる分散媒と、
前記一対の基板の内の一方と前記区画部材とによって形成された１または複数の凹部の内周面に設けられ、撥水性を有する第1の撥水層と、
前記一対の基板の内の他方の、前記一方の基板側表面に設けられ、前記第1の撥水層に少なくとも一部が接触して配置された第２の撥水層と、
前記第1の撥水層及び前記第２の撥水層の少なくとも一方が、刺激を付与されることにより硬化すると共に少なくとも硬化後に撥水性を有する硬化性樹脂を主成分として含有することを特徴とする表示媒体である。

請求項２に係る発明は、前記第２の撥水層が、刺激を付与されることにより硬化すると共に少なくとも硬化後に撥水性を有する硬化性樹脂を主成分として含有することを特徴とする請求項１に記載の表示媒体である。

請求項３に係る発明は、前記第１の撥水層と、前記区画部材と、が一体的に形成されたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示媒体である。

請求項４に係る発明は、前記第１の撥水層が、刺激を付与されることにより硬化すると共に少なくとも硬化後に撥水性を有する硬化性樹脂を主成分として含有することを特徴とする請求項１に記載の表示媒体である。

請求項５に係る発明は、凹部の設けられた基材の該凹部の内周面に撥水性を有する第１の撥水層を形成する工程と、
表示基板上に、刺激を付与されることにより硬化すると共に少なくとも硬化後に撥水性を有する硬化性樹脂を主成分として含有した第２の撥水層を形成する工程と、
前記第１の撥水層の形成された前記凹部内に、電界に応じて該基板間を移動する粒子群と、該粒子群を分散させる分散媒と、を充填する工程と、
前記基材と、前記表示基板と、を前記第１の撥水層と前記硬化性樹脂が未硬化状態の前記第２の撥水層とが向かい合うように重ねる工程と、
前記基材と、前記表示基板と、が重ねられた積層体に、前記硬化性樹脂を硬化させる刺激を付与する工程と、
を有する表示媒体の製造方法である。

請求項１に係る発明によれば、一対の基板の各対向面に撥水性を有する撥水層を単に設けた構成に比べて、粒子の壁面への付着が抑制されると共に、耐久性向上が実現された表示媒体が提供される、という効果を奏する。

請求項２に係る発明によれば、本発明の構成を有さない場合に比べて、より粒子の壁面への付着が抑制される、という効果を奏する。

請求項３に係る発明によれば、区画部材と第１の撥水層とが別体として設けられた構成である場合に比べて、更に表示媒体の耐久性向上が実現される、という効果を奏する。

請求項４に係る発明によれば、本発明の構成を有さない場合に比べて、より粒子の壁面への付着が抑制される、という効果を奏する。

請求項５に係る発明によれば、硬化された撥水層による層間を接触させて表示基板を形成した場合に比べて、粒子の壁面への付着が抑制されると共に、耐久性向上が実現された表示媒体が提供される、という効果を奏する。

以下、本実施の形態に係る表示媒体、表示素子、及び表示装置の第１の実施の形態を図面に基づき説明する。

（第１の実施の形態）
図１に示すように、本実施の形態に係る表示媒体１０は、画像表示面とされる表示基板１３、表示基板１３に間隔をもって向かい合うように配置された背面基板１７、これらの表示基板１３と背面基板１７との基板間の間隔を保持すると共に、表示基板１３と背面基板１７との基板間を基板の面方向に１または複数の領域に区画する区画部材２０、及び粒子含分散媒３０を含んで構成されている。

表示基板１３は、支持基板１２上に電極１４が積層された構成とされている。背面基板１７は、支持基板１６上に電極１８が積層された構成とされている。

なお、本実施の形態では、表示基板１３は、支持基板１２上に電極１４が積層された構成である場合を説明するが、表示基板１３を支持基板１２から構成し、電極１４を別体として設けた構成であってもよいし、表示基板１３を、支持基板１２に電極１４が埋め込まれた構成としてもよい。
また、本実施の形態では、背面基板１７は、支持基板１６上に電極１８が積層された構成とされている場合を説明するが、背面基板１７を支持基板１６から構成し、電極１８を別体として設けた構成であってもよいし、背面基板１７を、支持基板１６に電極１８が埋め込まれた構成としてもよい。

支持基板１２及び支持基板１６としては、ガラスや、プラスチック、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂等が用いられる。

電極１４及び電極１８には、インジウム、スズ、カドミウム、アンチモン等の酸化物、ＩＴＯ等の複合酸化物、金、銀、銅、ニッケル等の金属、ポリピロールやポリチオフェン等の有機材料等が使用される。これらは単層膜、混合膜あるいは複合膜として使用され、蒸着法、スパッタリング法、塗布法等で形成される。また、その厚さは、蒸着法、スパッタリング法によれば、通常１００Å以上２０００Å以下である。電極１４及び電極１８の各々は、従来の液晶表示素子あるいはプリント基板のエッチング等従来公知の手段により、所望のパターン、例えば、マトリックス状、あるいはパッシブマトリックス駆動を可能とするストライプ状に形成される。

なお、上記表示基板１３（支持基板１２及び電極１４）、及び背面基板１７（支持基板１６及び電極１８）の内の、少なくともセル２２より表示面側に設けられている表示基板１３は、透光性を有している。ここで、本実施の形態における透光性とは、可視光の透過率が７０％以上、望ましくは９０％以上であることを示している。
また、本実施の形態では、表示基板１３と背面基板１７との基板間の、区画部材２０と、によって区画された各領域をセル（図１中、セル２２）と称して説明する。また、この区画部材２０は、表示基板１３と背面基板１７との基板間に設けられることで、背面基板１７及び表示基板１３の各々を面方向に複数領域に区画する機能も有しているが、この背面基板１７の、該背面基板１７の面方向に区画部材２０によって区画されることによって背面基板１７の板面と区画部材２０の壁面とによって形成された箱状に区画された凹んだ領域を、凹部２４と称して説明する。すなわち、セル２２は表示基板１３と区画部材２０と背面基板１７とによって封鎖された領域であるが、凹部２４は、セル２２の内の表示基板１３側壁面を有さない開口した領域を示している。

表示基板１３と背面基板１７との基板間の隙を保持するための区画部材２０は、表示基板１３の透光性を損なわないように形成され、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、光硬化性樹脂、ゴム、金属等で形成されている。

区画部材２０は有色でも無色でもよいが、表示媒体１０に表示される表示画像に悪影響を及ぼさないように無色で且つ透光性を有することが望ましく、その場合には、例えば、ポリスチレンやポリエステルやアクリルなどの透明樹脂等が使用される。
なお、区画部材２０は、詳細は後述するが、後述する第１の撥水層２６と一体的に形成（すなわち、区画部材２０を第１の撥水層２６と同じ材料で構成）された構成であってもよい。この場合には、第１の撥水層２６と同一材料によって区画部材２０を構成すればよい。

粒子含分散媒３０は、支持基板１２と、支持基板１６と、区画部材２０と、によって区画された領域（以下、セル２２と称する）内に封入されており、粒子群３０Ａと、粒子群３０Ａを分散する分散媒３０Ｂと、を含んで構成されている。粒子群３０Ａは、分散媒３０Ｂ中に分散されており、支持基板１２と支持基板１６との基板間に形成された電界に応じて、支持基板１２と支持基板１６との基板間を移動する。この粒子群３０Ａの移動によって、表示媒体１０に画像が表示される。

粒子含分散媒３０に含まれる粒子群３０Ａは、粒子含分散媒３０中（支持基板１２と支持基板１６との基板間）に形成された電界に応じて、分散媒３０Ｂ中を移動する。表示媒体１０における表示色の変化は、この粒子群３０Ａの分散媒３０Ｂ中の移動によって生じる。

この粒子含分散媒３０に含まれる粒子群３０Ａとしては、ガラスビーズ、アルミナ、酸化チタン等の金属酸化物粒子等、熱可塑性若しくは熱硬化性樹脂粒子、これらの樹脂粒子の表面に着色剤を固定したもの、熱可塑性若しくは熱硬化性樹脂中に着色剤を含有する粒子、及びプラズモン発色機能を有する金属コロイド粒子等が挙げられ、例えば、特願２００６−３６８７７に記載されたものが用いられる。また、粒子群３０Ａを作製する方法についても、例えば、特願２００６−３７６８７７に記載されたものが用いられる。

なお、粒子群３０Ａは、電界に応じて分散媒３０Ｂ中を移動することから、予め帯電されているが、この帯電量や帯電極性等の調整は、前記した樹脂に配合する帯電制御剤の種類と量、粒子表面に結合するポリマー鎖の種類と量、粒子表面に添加したり埋め込んだりする外添剤の種類と量、粒子表面に付与する界面活性剤やポリマー鎖やカップリング剤の種類と量、粒子の比表面積（体積平均一次粒径や粒子の形状係数）等を調整することによって可能である。各粒子群３０Ａの作製時に、粉末状のマグネタイト等の磁性体を樹脂に混合して粒子を作成したり、磁性体とモノマーを分散し、重合して粒子を作成したりすることで調整すればよい。

粒子群３０Ａの分散媒３０Ｂに対する含有量（粒子質量/（粒子質量＋分散媒質量）×１００）（質量％）としては、所望の色相が得られる濃度であれば特に限定されるものではなく、表示媒体１０の厚み（すなわち、区画部材２０の厚み）に応じて調整される。即ち、所望の色相を得るために、表示媒体１０の厚みが厚くなるほど粒子群３０Ａの含有量は多くなり、表示媒体１０の厚みが薄くなるほど粒子群３０Ａの含有量を少なくする。一般的には、０．０１質量％以上５０質量％以下である。

粒子含分散媒３０に含まれ、粒子群３０Ａを分散する分散媒３０Ｂとしては、高抵抗液体であることが好ましい。ここで、「高抵抗」とは、体積抵抗率が１０^１０Ω・ｃｍ以上、望ましくは１０^１２Ω・ｃｍ以上であることを示している。

上記高抵抗液体として具体的には、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、デカン、ヘキサデカン、ケロセン、パラフィン、イソパラフィン、シリコーンオイル、ジククロロエチレン、トリクロロエチレン、パークロロエチレン、高純度石油、エチレングリコール、アルコール類、エーテル類、エステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、２−ピロリドン、Ｎ−メチルホルムアミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ベンジン、ジイソプロピルナフタレン、オリーブ油、イソプロパノール、トリクロロトリフルオロエタン、テトラクロロエタン、ジブロモテトラフルオロエタンなどや、それらの混合物が好適に使用される。

また、下記体積抵抗値となるよう不純物を除去することで、水（所謂、純水）も、分散媒３０Ｂとして使用される。該体積抵抗値としては、１０³Ωｃｍ以上で使用され、１０¹⁰Ωｃｍ以上であることが好適であり、さらに１０¹²Ωｃｍ以上であることがより好ましい。

なお、分散媒３０Ｂとしては、高分子ゲル、ネットワークポリマー等であってもよい。

この高分子ゲルとしては、アガロース、アガロペクチン、アミロース、アルギン酸ナトリウム、アルギン酸プロピレングリコールエステル、イソリケナン、インスリン、エチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カードラン、カゼイン、カラギーナン、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルデンプン、カロース、寒天、キチン、キトサン、絹フィブロイン、クアーガム、クインスシード、クラウンゴール多糖、グリコーゲン、グルコマンナン、ケラタン硫酸、ケラチン蛋白質、コラーゲン、酢酸セルロース、ジェランガム、シゾフィラン、ゼラチン、ゾウゲヤシマンナン、ツニシン、デキストラン、デルマタン硫酸、デンプン、トラガカントゴム、ニゲラン、ヒアルロン酸、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、プスツラン、フノラン、分解キシログルカン、ペクチン、ポルフィラン、メチルセルロース、メチルデンプン、ラミナラン、リケナン、レンチナン、ローカストビーンガム等の天然高分子由来の高分子ゲルが挙げられる他、合成高分子の場合にはほとんどすべての高分子ゲルが挙げられる。

更に、アルコール、ケトン、エーテル、エステル、及びアミドの官能基を繰り返し単位中に含む高分子等が挙げられ、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ（メタ）アクリルアミドやその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシドやこれら高分子を含む共重合体が挙げられる。

これら中でも、製造安定性、電気泳動特性等の観点から、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリ（メタ）アクリルアミド等が好ましく用いられる。

これら高分子ゲルは、前記高抵抗液体と共に分散媒３０Ｂとして用いることが好ましい。

図１に示すように、表示媒体１０の表示基板１３の、背面基板１７側の表面には、第２の撥水層２８が設けられている。また、背面基板１７上に設けられた区画部材２０によって構成された各凹部２４の内周面の各々には、第１の撥水層２６が設けられている。

この第２の撥水層２８及び第１の撥水層２６は、少なくとも一方が、刺激を付与されることにより硬化すると共に少なくとも硬化後に撥水性を有する硬化性樹脂を主成分として含有している。
この第１の撥水層２６及び第２の撥水層２８の一方のみが、上記硬化性樹脂を主成分とする構成である場合には、他方は、刺激を付与される事無く硬化した状態であり且つ撥水性を有する層により構成される。

なお、この第２の撥水層２８及び第１の撥水層２６の内、表示媒体１０の製造工程（詳細後述）における取り扱い性の観点から、凹部２４の内周面に設けられた第１の撥水層２６が、硬化性樹脂を主成分とする構成であることが好ましい。

この「主成分とする」とは、第２の撥水層２８及び第１の撥水層２６の各々を構成する全成分の内、上記硬化性樹脂が５０質量％以上含有されていることを示している。

この撥水性を有するとは、純水に対する接触角が９０度以上であることを示している。

この接触角の測定は、動的接触角試験機（ＦＩＢＲＯ Ｓｙｓｔｅｍ社製、ＦＩＢＲＯ１１００ ＤＡＴ ＭＫ ＩＩ）を用いて、以下のようにして測定される。以下、特に明確な記載の無い場合、温度２３±０．５℃、湿度５０±５％ＲＨ環境下で評価する。

樹脂の種類の応じた刺激によりシート状に硬化させた硬化性樹脂からなる評価サンプルを接触角計にセットする。そして、この評価サンプル上に純水３μＬを滴下し、滴下後０．１秒後の時点での評価サンプル表面に対する水の接触角を測定する。

硬化性樹脂として、熱硬化性樹脂としては、加熱すると硬化すると共に、少なくとも硬化後に撥水性を有する樹脂として通常知られているものが適用される。

例えば、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、アクリルポリオールをイソシアネートで硬化させた樹脂、ポリエステルポリオールをメラミンで硬化させた樹脂、及びアクリル酸をメラミンで硬化させた樹脂等である。また熱硬化性樹脂の構成成分であるモノマーを組み合わせて用いてもよい。

その他に、熱可塑性樹脂でも架橋によって硬化し、且つ硬化後に撥水性を有する樹脂であれば、熱硬化性樹脂として用いられる。このような熱硬化性樹脂としては、例えば、熱硬化性アクリル樹脂を使用することが好ましい。当該熱硬化性アクリル樹脂は、少なくとも１種のアクリル系単量体、あるいはアクリル系単量体及びスチレン系単量体を重合してなる共重合体を、メラミン系化合物、イソシアネート系化合物によって架橋させたものである。

上記アクリル系単量体としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ステアリル等のメタクリル酸アルキルエステル類；アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸オクチル等のアクリル酸アルキルエステル類；アクリロニトリル；アクリルアミド、メタクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、メタクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド等のアミノ基含有ビニルモノマー；等を使用することができ、またスチレン系単量体としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−エチルスチレン等を使用することができる。

また、硬化のための刺激が熱に限られないが、硬化性シリコーン樹脂も好ましく用いられる。一般に、シリコーン樹脂は、その分子構造により、シリコーンオイルやシリコーンゴム等の材料となる直鎖状構造をとるシリコーン樹脂と、３次元に架橋した構造のシリコーン樹脂とに分類される。また、離型性、接着性、耐熱性、絶縁性及び化学的安定性等の諸性質は、シリコン原子に結合している分子（有機分子）やその重合度等によって決定される。本実施形態で使用可能な硬化性シリコーン樹脂は、前記３次元に架橋した構造のシリコーン樹脂である。該３次元に架橋した構造のシリコーン樹脂は、通常、多官能性（３官能性、４官能性）単位から重合され、架橋構造を持つ。

なお、前記直鎖状構造をとるシリコーン樹脂として、分子量が低く、シリコーンオイルとして、絶縁油、液体カップリング、緩衝油、潤滑油、熱媒、撥水剤、表面処理剤、離型剤、消泡剤等に利用されるものや、加硫剤等を添加後、加熱硬化によって、分子量（シロキサン単位）５０００〜１００００程度に重合されたシリコーンゴム等についても、硬化後に撥水性を有すれば、本実施の形態の硬化性樹脂として用いられる。

前記硬化性シリコーン樹脂は、その分子量単位によって、有機溶媒に溶解可能で比較的低分子量であるシリコーンワニスと、高重合度のシリコーン樹脂等とに分類される。また、前記硬化性シリコーン樹脂は、生成段階における硬化反応によって、縮合型、付加型、輻射線型（紫外線硬化型、電子線硬化型）等に分類される。また、塗布形態によっては、溶剤型、無溶剤型等に分類される。

上記硬化反応を支配する因子としては、反応基種類、反応基数、硬化時間、温度、照射エネルギー等が挙げられる。また、当該硬化反応を制御する方法としては、例えば、単官能性や２官能性のポリジメチルシロキサンや、反応抑制剤（アセチレンアルコール類、環状メチルビニルシクロシロキサン、シロキサン変性アセチレンアルコール類等）等を添加する方法や、触媒量、反応温度、反応時間、ＵＶ照射強度等を調整する方法等が挙げられる。このように硬化反応を制御することにより、硬化性シリコーン樹脂の分子量、反応基としてのシラノール残存量等を調節され、硬さ、透明性、及び撥水性等が自由に調整される。

光硬化性樹脂としては、例えば、分子中にビニル基等の反応性二重結合を有する化合物（低分子量物に限らず、高分子をも含む）と、光硬化に必要な開始剤と、紫外線吸収剤などの下地（着色層、場合により基体層）保護材料と、さらに、必要によりシート保持性改良のための樹脂などの高分子量物と、を主成分とするものが挙げられる。

電子線硬化性樹脂としては、例えば、分子中にビニル基等の反応性二重結合を有する化合物と、下地保護材料（紫外線吸収剤）と、必要により樹脂と、を主成分とするものが挙げられる。
上記分子中に反応性二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基を有する、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレートなどの１官能タイプや、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチルプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能タイプがある。また、ポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、オリゴアクリレート、ポリアルキドアクリレート、ポリオールアクリレートなどのオリゴマー等もある。さらに、ビニル基やアリル基を有する、例えば、スチレンモノマー、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、酢酸ビニル、ペンテン、ヘキセン、不飽和化合物等がある。

光硬化用重合開始剤は、特に、紫外線で硬化させる場合に添加される。この光硬化用重合開始剤は通常光開始剤といわれるもので、例えば、ベンゾインアルキルエーテル系、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系などの光開始剤が好適に用いられる。上記ベンゾインエーテル系としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル等がある。アセトフェノン系としては、２，２’−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒ−ブチルトリクロロアセトフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等がある。ベンゾフェノン系としては、ベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ジベンゾスベレノン等がある。チオキサントン系としては、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−エチルアントラキノン等がある。

上記光開始剤は、前記反応性二重結合を有する化合物１００質量部に対して、０．０５〜１０質量部、好ましくは０．１〜５質量部の範囲で添加される。また、光開始剤は１種に限らず、２種以上を併用してもよい。

一方、第１の撥水層２６及び第２の撥水層２８の一方のみが、上記硬化性樹脂を主成分とする構成であり、他方が、刺激を付与される事無く硬化した状態であり且つ撥水性を有する層により構成される場合には、撥水層（例えば、第１の撥水層２６）は、下記撥水性材料を主成分として構成すればよい。

具体的には、撥水性材料としては、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂、シリコンゴム、パーフルオロアルキルアクリレート、ハイドロカーボンアクリレート、メチルシロキサン等、一般に撥水性材料と考えられるもので上記撥水性の条件（接触角）を満たすであれば特に限定されるものではない。

例えば、撥水性材料として用いられるフッ素樹脂系の化合物としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、具体的にはポリフロンＴＦＥ（ダイキン工業社製）やＴｅｆｌｏｎ ＴＦＥ（Ｄｕ Ｐｏｎｔ社製）；テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、具体的にはネオフロンＰＦＡ（ダイキン工業社製）やＴｅｆｌｏｎ ＰＦＡ（ＤｕＰｏｎｔ社製）；テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、具体的にはネオフロンＦＥＰ（ダイキン工業社製）やＴｅｆｌｏｎ ＦＥＰ（Ｄｕ Ｐｏｎｔ社製）；テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＥＰＥ）、具体的にはネオフロンＥＰＡ（ダイキン工業社製）やテフロン(登録商標)ＥＰＥ（三井デュポンフロロケミカル社製）；テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、具体的にはアフロンＣＯＰ（旭硝子社製）やＴｅｆｚｅｌ（Ｄｕ Ｐｏｎｔ社製）；ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、具体的にはネオフロンＣＴＦＥ（ダイキン工業社製）やＫｅｌ−Ｆ（３Ｍ社製）；クロロトリフルオロエチレン−エチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）、具体的にはＨａｌａｒ（Ａｕｓｉｍｏｎｔ Ｎ．Ｖ．製）；ポリビニリデンフルオライド（ＰＶｄＦ）、具体的にはＫＦポリマー（呉羽化学工業社製）；ポリビニルフルオライド（ＰＶＦ）、具体的にはＴｅｄｌａｒ（Ｄｕ Ｐｏｎｔ社製）などが挙げられる。また、最近では主鎖に環状構造を有する透明フッ素樹脂；具体的にはサイトップ（旭硝子社製）やＴｅｆｌｏｎ ＡＦ（Ｄｕ Ｐｏｎｔ社製）なども挙げられる。さらには、その他フッ素原子を含有する樹脂、例えば、フッ素化ポリイミド樹脂、フッ素化ポリアミド樹脂、フッ素化アクリル樹脂、フッ素化ポリウレタン樹脂、フッ素化シロキサン樹脂およびそれらの変性樹脂なども挙げられる。一方、シリコン原子を含む撥水処理剤やシリコン系樹脂を用いてもよい。

さらに、撥水性材料としては、フッ素原子を含有する樹脂を用いてもよく、例えば、フッ素化ポリイミド樹脂、フッ素化ポリアミド樹脂、フッ素化アクリル樹脂、フッ素化ポリウレタン樹脂、フッ素化シロキサン樹脂及びそれらの変性樹脂、シリコン原子を含む撥水処理剤やシリコン系樹脂等を用いてもよい。

このように構成される表示媒体１０は、後述する第２の実施の形態で説明する表示媒体１１と共に、画像の保存及び書換えが可能な掲示板、回覧版、電子黒板、広告、看板、点滅標識、電子ペーパー、電子新聞、電子書籍、及び複写機・プリンタと共用できるドキュメントシートなどに使用される。

次に、表示媒体１０の作製方法について詳細に説明する。

まず、図２（Ａ）に示すように、基体２１を作製する。
基体２１の作製としては、まず、支持基板１６上に電極１８を形成することによって背面基板１７を形成する。この電極１８の形成は、各従来の液晶表示素子あるいはプリント基板のエッチング等従来公知の手段が用いられ、これにより所望のパターン、例えば、マトリックス状、あるいはパッシブマトリックス駆動を可能とするストライプ状に電極１８が形成される。

この背面基板１７上に、背面基板１７を面方向に１または複数領域に区画するように、間隔を空けて区画部材２０を複数形成する。この区画部材２０の配設方法としては、従来公知の方法が用いられ、具体的には、フォトリソグラフィ法、３次元光造形法、ナノインプリンティングを用いる方法や、射出圧縮成形、エンボス加工、熱プレス加工等によって所望の形状に形成する方法等が用いられる。

上記工程によって背面基板１７上に区画部材２０が形成されて、背面基板１７上には区画部材２０によって複数の凹部２４が形成された状態となる。

この各凹部２４の内周面には、第１の撥水層２６が形成される。

この各凹部２４の内周面に第１の撥水層２６を設ける方法としては、上記説明した硬化性樹脂または撥水性材料を用いて、従来公知の方法により設けられる。なお、撥水性材料を用いる場合には、上記撥水性材料を、そのまま、溶媒に溶解、または分散して用いればよい。
この第１の撥水層２６を設ける方法としては、具体的には、下記方法が挙げられる。

例えば、図３（Ａ）に示すように、上記調整した基体２１（背面基板１７上に区画部材２０が設けられたもの）上に、上記硬化性樹脂として、例えば、紫外線硬化性樹脂による硬化性樹脂層２５（例えば、感光性撥水剤：旭硝子製）を形成する。これによって、背面基板１７及び区画部材２０の、凹部２４側表面に硬化性樹脂層２５が形成された状態となる。この硬化性樹脂層２５の形成方法としては、スプレーコート法等を用いればよい。

次に、各区画部材２０の先端（凹部２４の開口側先端）に相当する領域に、マスク３２を設けて、このマスク３２を介して硬化性樹脂層２５へ、この硬化性樹脂層２５の硬化性樹脂を硬化させる硬化刺激３６である紫外線を照射する。これによって、図３（Ａ）の工程によって形成された硬化性樹脂層２５の内の、区画部材２０の先端部に相当する領域のみがマスク３２によって未硬化のままとなり、該先端部以外の領域が紫外線によって硬化された状態の第１の撥水層２６となる（図３（Ｂ）参照）。

次に、イソプロピルアルコールを用いて現像することによって、区画部材２０の先端部の硬化性樹脂層２５のみを基体２１から除去する。これによって、図３（Ｃ）に示すように、基体２１の各凹部２４の内周面に第１の撥水層２６が形成された状態となる。

また、基体２１の各凹部２４の内周面に第１の撥水層２６を設ける他の方法としては、以下の方法を用いても良い。例えば、図４（Ａ）に示すように、上記調整した基体２１（背面基板１７上に区画部材２０が設けられたもの）上に、上記撥水性材料による第１の撥水層２６を形成する。これによって、背面基板１７及び区画部材２０の、凹部２４側表面には、硬化した状態であり、且つ撥水性を有する第１の撥水層２６が形成された状態となる。この撥水性材料からなる第１の撥水層２６の形成方法としては、例えば、撥水性材料をそのまま、溶媒に溶解、又は溶媒に分散したものを、塗布すればよい。この塗布の方法としては、基体２１に影響を及ぼさない方法であれば、スピンコート法や浸漬塗布法、蒸着法等各材料に最適の方法が選択される。

なお、この基体２１上に第１の撥水層２６を形成する方法としては、図３（Ａ）に示すように硬化性樹脂層２５を基体２１上に塗布した後に、この硬化性樹脂層２５の全領域に硬化刺激３６を加えることで硬化する方法を用いても良い。

次に、図４（Ｂ）に示すように、この基体２１上に形成された第１の撥水層２６について、凹部２４に対応する領域にマスク３４を設ける。そして、このマスク３４を介して基体２１側に向かってエキシマレーザー３８等の紫外線波長レーザを照射することで、区画部材２０の先端部に設けられていた第1の撥水層２６を除去する。これによって、図２（Ａ）に示すように、基体２１の各凹部２４の内周面に第１の撥水層２６が形成された状態となる。

また、基体２１の各凹部２４の内周面に第１の撥水層２６を設ける他の方法としては、以下の方法を用いても良い。例えば、図５（Ａ）に示すように、上記調整した基体２１（背面基板１７上に区画部材２０が設けられたもの）上に、上記撥水性材料による第１の撥水層２６を形成する。これによって、背面基板１７及び区画部材２０の、凹部２４側表面には、硬化した状態であり、且つ撥水性を有する第１の撥水層２６が形成された状態となる。この撥水性材料からなる第１の撥水層２６の形成方法としては、図４（Ａ）で説明した方法を用いればよい。

次に、図５（Ｂ）に示すように、この基体２１上に形成された第１の撥水層２６上に、ドライフィルムレジスト４０を減圧中にてラミネートする。

次に、図５（Ｃ）に示すように、このドライフィルムレジスト４０の全面について、ドライエッチングするエッチバック処理を行う。なお、エッチバック処理に変えて、形成されたドライフィルムレジスト４０の全面を研磨する研磨処理も好ましい。研磨処理としては、例えば、化学的機械的に研磨する化学的機械的研磨（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ；以下、「ＣＭＰ」ともいう）処理が挙げられる。
このエッチバック処理によって、第１の撥水層２６の全領域の内の、区画部材２０の先端部に設けられていた第１の撥水層２６が除去される。

なお、また、エッチング方法としては、プリント配線基材の製造時等に使用されている方法が何れも使用可能であり、湿式エッチング、ドライエッチング等が使用可能であり、任意に選択すればよい。作業の操作上、湿式エッチングが装置などが簡便で好ましい。

次に、図５（Ｃ）及び図５（Ｄ）に示すように、凹部２４内に残っているドライフィルムレジスト４０を除去することで、図５（Ｄ）及び図２（Ａ）に示すように、基体２１の各凹部２４の内周面に第１の撥水層２６が形成された状態となる。

また、基体２１の各凹部２４の内周面に第１の撥水層２６を設ける他の方法としては、例えば、図６（Ａ）に示すように、背面基板１７上に区画部材層１９及び犠牲層４２を順に設ける。区画部材層１９は、上記説明した区画部材２０を構成する材料により形成される。この区画部材層１９の形成方法としては、スリットコート、スピンコート、ディップコート、ロールコート等各材料に最適の方法を選択することが可能である。

犠牲層４２は、区画部材２０上の撥水層２６を除去するのための層であって、材料としては、
区画部材除去時にマスクとなり、撥水層２６に対して選択的除去が可能という特性を有する材料から構成されていればよく、例えば、フォトレジスト（OFPR-800：東京応化製）等が挙げられる。この犠牲層４２の形成方法は、区画部材層１９と同じ方法を用いればよい。

次に、図６（Ｂ）に示すように、フォトリソ法を用いて、犠牲層４２をパターン露光、現像、ベーキングすることによって、区画部材層１９の全領域の内の区画部材２０の形成対象となる領域のみを覆うように犠牲層４２を残すパターニングを行う。

次に図６（Ｃ）に示すように、図６（Ｂ）で残存した犠牲層４２をマスクとして、区画部材層１９をエッチングすることで、凹部２４及び区画部材２０を形成する。

そして、更に、この基体２１の凹部２４側表面全面を犠牲層４２も含めて覆うように、第１の撥水層２６を形成する（図６（Ｄ）参照）。第１の撥水層２６の形成方法としては、図４（Ａ）と同じ方法を用いればよい。

そして最後に、図６（Ｅ）に示すように、犠牲層４２をアセトン等の有機溶剤にてエッチングすることで、図６（Ｅ）及び図２（Ａ）に示すように、基体２１の各凹部２４の内周面に第１の撥水層２６が形成された状態となる。

上記図３〜図６等に示される方法によって、図２（Ａ）に示す、基体２１の各凹部２４の内周面に第１の撥水層２６が形成された状態となる。

次に、図２（Ｂ）に示すように、表示基板１３上に硬化性樹脂層２７を形成した積層体１５を用意する。この積層体１５は、まず、支持基板１２上に、上記電極１８の形成方法と同じ方法を用いて、電極１４を形成する。この電極１４上に、硬化性樹脂層２７を形成することで積層体１５が作製される。
この硬化性樹脂層２７は、上記硬化性樹脂を用いて、スリットコート、スピンコート、ディップコート、ロールコート等各材料に最適の方法を用いて形成される。

すなわち、図２（Ａ）及び図２（Ｂ）に示すように基体２１上の各凹部２４の内周面に第１の撥水層２６が設けられた部材２３（図２（Ａ）参照）と、積層体１５（図２（Ｂ）参照）と、の各々に設けられている撥水層の内、部材２３の各凹部２４の内周面に設けられている第1の撥水層２６は、硬化性樹脂が硬化されて撥水性を有する状態、または撥水性材料により形成されることにより撥水性を有する状態とされている。一方、積層体１５の表示基板１３上に設けられた硬化性樹脂層２７は、未硬化の状態とされている。

次に、図示は省略するが、図２（Ａ）に示す基体２１（積層体２３）の各凹部２４内に、粒子含分散媒３０を充填する。この粒子含分散媒３０の充填方法としては、従来公知のディスペンサー等の各種充填装置を用いればよい。

次に、図２（Ｃ）に示すように、凹部２４内に粒子含分散媒３０の充填された基体２１（積層体２３）の凹部２４の開口側と、積層体の硬化性樹脂層２７と、が接するように重ね合わせる。このとき、上述のように、第1の撥水層２６は硬化されているが、硬化性樹脂層２７は未硬化のままの状態となっている。

この状態で、硬化性樹脂層２７に向かって、硬化性樹脂層２７の硬化性樹脂を硬化するための刺激として紫外線、熱、電子線等の硬化刺激３６を付与する。これによって、硬化性樹脂層２７が硬化されて第２の撥水層２８が形成されることとなり、結果的に、図２（Ｄ）に示すように、表示媒体１０が作製される。

以上説明したように、本実施の形態では、凹部２４の内周面に第１の撥水層２６を形成し、該凹部２４内に粒子含分散媒３０を充填し、さらに、未硬化状態の硬化性樹脂層２７の設けられた表示基板１３を、該硬化性樹脂層２７が凹部２４の開口側及び第１の撥水層２６に接するように重ね合わせた後に、硬化性樹脂層２７を硬化する硬化刺激を付与して硬化性樹脂層２７を硬化させて第２の撥水層２８とすることで、表示媒体１０を作製する。

このように、凹部２４の内周面側に第１の撥水層２６を設け、この第１の撥水層２６に未硬化状態の硬化性樹脂層２７が接するように表示基板１３を重ね併せた後に硬化性樹脂層２７を硬化させることから、硬化性樹脂層２７が硬化する段階で、表示基板１３と硬化性樹脂層２７との間、及び硬化性樹脂層２７と区画部材２０及び第１の撥水層２６との間に、強固な結合が形成される。従って、表示媒体１０を構成する各層間の接着強度が強固となり、耐久性に優れた表示媒体１０が提供されることとなる。

一方、図９に示すように、従来構成の表示媒体１００によれば、表示基板１３上に硬化した状態の撥水層４８を形成した積層体６０と、背面基板１７上に区画部材２０を設けてこの背面基板１７と区画部材２０とによって形成された各凹部２４内に硬化した状態の撥水層５０を形成した後に各凹部２４内に粒子含分散媒３０を充填した積層体６２と、を、撥水層５０と撥水層４８とが接するように重ねあわせることで、表示媒体１００を形成している。このため、撥水層４８と撥水層５０との界面の接着力が低く、本実施の形態の表示媒体１０に比べて耐久性に劣ると考えられる。

一方、本実施の形態の表示媒体１０によれば、上述のように、表示媒体１０を構成する各層間の接着強度が強固となり、耐久性に優れた表示媒体１０が提供される。

また、本実施の形態の表示媒体１０によれば、第１の撥水層２６は撥水性を有し、硬化性樹脂層２７が硬化することで形成される第２の撥水層２８もまた撥水性を有することから、各セル２２の内周面の全領域が撥水性を有することとなり、各セル２２内に充填されている粒子含分散媒３０中の粒子群３０Ａが壁面に付着することが好適に抑制される。このため、画質劣化が抑制される。

なお、本実施の形態では、背面基板１７上に、区画部材２０を設ける場合を説明するが、表示基板１３側に区画部材２０を設けても良い。この場合には、表示基板１３側に区画部材２０によって複数の凹部２４が形成された状態となり、上記と同様にして凹部２４の内周面に第１の撥水層２６を形成すればよい。また、背面基板１７側に第２の撥水層２８を設けて同様にして表示媒体を作成すればよい。

なお、本実施の形態では、図２を用いて、第２の撥水層２８と第１の撥水層２６の内の第２の撥水層２８を、未硬化の硬化性樹脂層２７のままで、硬化した状態の第１の撥水層２６側へと重ね合わせた後に、硬化させることで形成する場合を説明したが、第１の撥水層２６及び第２の撥水層２８の双方を未硬化状態のままで重ね合わせた後に、硬化させてもよい。
但し、この場合には、上記図２に示す製造工程では、図２（Ａ）で凹部２４の内周面に第１の撥水層２６を形成した後に各凹部２４内に粒子含分散媒３０を充填し、そして積層体１５を積層させる工程により製造することは好ましくない。この場合には、例えば図２（Ａ）に示す基体２１（粒子含分散媒３０が充填されていない状態）と、図２（Ｂ）に示す積層体１５とを用意し、粒子含分散媒３０を充填することなく未硬化状態の第1の撥水層２６（実際には硬化性樹脂層）と、未硬化状態の硬化性樹脂層２７とが接するようにこれらを重ね合わせる。そして、これらの未硬化状態の第1の撥水層２６及び硬化性樹脂層２７を硬化させる硬化刺激を付与した後に、各セル２２内に、真空吸引法等を用いて粒子含分散媒３０を充填すればよい。

（第２の実施の形態）
第１の実施の形態では、図１〜図６に示すように、区画部材２０と第１の撥水層２６とを別体として構成する場合を説明したが、本実施の形態では、区画部材２０と第１の撥水層２６とを一体的に構成した形態を説明する。

本実施の形態の表示媒体１１は、図７に示すように、画像表示面とされる表示基板１３、表示基板１３に間隔をもって向かい合うように配置された背面基板１７、これらの表示基板１３と背面基板１７との基板間の間隔を保持すると共に、表示基板１３と背面基板１７との基板間を基板の面方向に１または複数の領域に区画する一体セル４４、及び粒子含分散媒３０を含んで構成されている。

なお、本実施の形態で説明する表示媒体１１は、第１の実施の形態で説明した表示媒体１０における区画部材２０と第１の撥水層２６とが一体的に形成されて一体セル４４として機能している以外は、同一構成であるため、同一部分には同一符号を付与して詳細な説明を省略する。

一体セル４４は、第１の実施の形態で説明した区画部材２０と第１の撥水層２６とが一体的に形成されたものであり、複数の凹部２４を有している。すなわち、区画部材２０もまた第１の撥水層２６と同じ材料で構成することで、一体的に形成された一体セル４４として機能している。そして、この凹部２４と第２の撥水層２８とによって囲まれた各領域が、第１の実施の形態で説明したセル２２として機能している。粒子含分散媒３０は、この各セル２２内に充填されている。

この一体セル４４は、上記第１の実施の形態で説明した第１の撥水層２６と同じ材料で構成されている。
このため、一体セル４４は、表示基板１３と背面基板１７との間隔を保持すると共に凹部２４を有し、且つ凹部２４の内周面が撥水性を有している。

次に、表示媒体１１の作製方法について詳細に説明する。

まず、図８（Ａ）に示すように、基体４６を作製する。
基体４６の作製としては、まず、支持基板１６上に電極１８を形成することによって背面基板１７を形成する。この電極１８の形成は、各従来の液晶表示素子あるいはプリント基板のエッチング等従来公知の手段が用いられ、これにより所望のパターン、例えば、マトリックス状、あるいはパッシブマトリックス駆動を可能とするストライプ状に電極１８が形成される。

この背面基板１７上に、一体セル４４を形成する。一体セル４４の形成方法としては、従来公知の方法を用いればよい。

例えば、第１の実施の形態で説明した硬化性樹脂または撥水性材料を用いて、背面基板１７上に目的とする厚みとなるように調整しながら、スリットコート、スピンコート、ディップコート、ロールコート等各材料に最適の方法を選択してこれらの方法を用いて硬化性樹脂層または撥水性材料層を形成する。そして、硬化性樹脂層を形成した場合には、該硬化性樹脂層の硬化性樹脂を硬化させる刺激を付与して硬化させた後に、硬化した硬化性樹脂層及び撥水性材料層上に、エッチング等により凹部２４を形成すればよい。
また、上記硬化性樹脂または撥水性材料を用いて、フォトリソグラフィ法、３次元光造形法、ナノインプリンティングを用いる方法や、射出圧縮成形、エンボス加工、熱プレス加工等によって所望の形状に形成する方法を用いて、凹部２４を有する一体セル４４を形成してもよい。なお硬化性樹脂を用いた場合には、凹部２４を有する形状成型中、または成形後に刺激を付与して硬化させる。

次に、図８（Ｂ）に示すように、図２（Ｂ）と同じ方法を用いて、表示基板１３上に硬化性樹脂層２７を形成した積層体１５を用意する。

次に、図示は省略するが、図２（Ａ）に示す基体２１の各凹部２４内に、粒子含分散媒３０を充填する。この粒子含分散媒３０の充填方法としては、従来公知のディスペンサー等の各種充填装置を用いればよい。

次に、基体４６の各凹部２４内に、粒子含分散媒３０を充填する（図示省略）。そして、図８（Ｃ）に示すように、一体セル４４の凹部２４内に粒子含分散媒３０の充填された基体４６の、凹部２４の開口側と、積層体１５の硬化性樹脂層２７と、が接するように重ね合わせる。このとき、一体セル４４は硬化されているが、硬化性樹脂層２７は未硬化のままの状態となっている。

この状態で、硬化性樹脂層２７に向かって、硬化性樹脂層２７の硬化性樹脂を硬化するための刺激として紫外線、熱、電子線等の硬化刺激３６を付与する。これによって、硬化性樹脂層２７が硬化されて第２の撥水層２８が形成されることとなり、結果的に、図８（Ｄ）に示すように、表示媒体１１が作製される。

以上説明したように、本実施の形態では、粒子含分散媒３０を充填するための複数の凹部２４を有する一体セル４４を、撥水性を有する撥水性材料または刺激により硬化すると共に少なくとも硬化後に撥水性を有する材料を主成分として構成し、該凹部２４内に粒子含分散媒３０を充填した後に、さらに、硬化性樹脂層２７の設けられた表示基板１３を該硬化性樹脂層２７が凹部２４の開口側に接するように一体セル４４へ重ね合わせた後に、硬化性樹脂層２７を硬化する硬化刺激を付与して硬化性樹脂層２７を硬化させて第２の撥水層２８とすることで、表示媒体１１を作製する。

このため、硬化性樹脂層２７が硬化する段階で、表示基板１３と硬化性樹脂層２７との間、及び硬化性樹脂層２７と一体セル４４との間に、強固な結合が形成される。従って、表示媒体１１を構成する各層間の接着強度が強固となり、耐久性に優れた表示媒体１１が提供されることとなる。
さらに、第１の実施の形態における区画部材２０と第１の撥水層２６とが、一体セル４４として一体的に形成されているため、さらに表示媒体１１の耐久性向上が実現される。

なお、第２の実施の形態で説明した表示媒体１１についても、表示媒体１０と同様に、凹部２４内に粒子含分散媒３０を充填する前に、一体セル４４と硬化性樹脂層２７の双方を構成する硬化性樹脂を未硬化状態としたままで重ね合わせた後に、これらの樹脂を硬化する刺激を付与して硬化し、最後に、各セル２２内に粒子含分散媒３０を充填することで表示媒体１１を作製してもよい。

以下、本発明を、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、部は質量部を示す。

（実施例１）

―粒子群３０Ａの調整―
粒子群３０Ａとして、電界に応じて移動する粒子（泳動粒子と称する）と、絶縁性粒子と、を調整した。なお、絶縁性とは、体積抵抗で１０^１２Ωｃｍ以上であることを示している。

――絶縁性粒子（白粒子）の調製――
絶縁性粒子を下記手順で調製した。
まず、下記成分を混合し、１０ｍｍΦのジルコニアボールにてボールミル粉砕を２０時間実施して分散液ＡＡを調製した。
＜組成＞
・メタクリル酸シクロヘキシル ５３質量部
・酸化チタン１（白色顔料）（一次粒子径０．３μｍ、タイペークＣＲ６３：石原産業社製） ４５質量部
・シクロヘキサン ５質量部

次に、下記成分を混合し、上記と同様にボールミルにて微粉砕して炭カル分散液ＡＢを調製した。
＜組成＞
・炭酸カルシウム ４０質量部
・水 ６０質量部

下記成分を混合し、超音波機で脱気を１０分間おこない、ついで乳化機で攪拌して混合液ＡＣを調製した。
＜組成＞
・２%セロゲン水溶液（第一工業製薬社製） ４．３ｇ
・炭カル分散液ＡＢ ８．５ｇ
・２０％食塩水 ５０ｇ

上記調製した分散液ＡＡ３５ｇとジビニルベンゼン１ｇ、重合開始剤ＡＩＢＮ：０．３５ｇをはかりとり、充分混合し、超音波機で脱気を１０分おこなった。これを上記調製した混合液ＡＣに加え、乳化機で乳化を実施した。次にこの乳化液をビンにいれ、シリコーン詮をし、注射針を使用し、減圧脱気を充分行い、窒素ガスで封入した。次に６５℃で１５時間反応させ粒子を調製した。冷却後、この分散液を凍結乾燥機により−３５℃、０．１Ｐａの下で、２日間でシクロヘキサンを除去した。得られた粒子粉をイオン交換水中に分散させて、塩酸水で炭酸カルシウムを分解させ、ろ過を行った。その後充分な蒸留水で洗浄し、目開き：２５μｍ、２０μｍのナイロン篩にかけ、粒度を揃えた。これを乾燥させ、平均粒子径２０μｍの白粒子を得た。これを絶縁性粒子とした。

−泳動粒子の調製−
泳動粒子として、マゼンタ色のマゼンタ粒子を調製した。

下記成分を混合し、１０ｍｍΦのジルコニアボールにてボールミル粉砕を２０時間実施して分散液ＢＡを調製した。
＜組成＞
・メタクリル酸シクロヘキシル ５３質量部
・マゼンタ顔料 （カーミン６Ｂ：大日精化社製） ３質量部
・帯電制御剤（ＣＯＰＹ ＣＨＡＲＧＥ ＰＳＹ ＶＰ２０３８：クラリアントジャパン製） ２質量部
・シクロヘキサン ５質量部

下記成分を混合し、上記と同様にボールミルにて微粉砕して炭カル分散液ＢＢを調製した。
＜組成＞
・炭酸カルシウム ４０質量部
・水 ６０質量部

下記成分を混合し、超音波機で脱気を１０分間おこない、ついで乳化機で攪拌して混合液ＢＣを調製した。
＜組成＞
・２％セロゲン水溶液（第一工業製薬社製） ４．３ｇ
・炭カル分散液ＢＢ ８．５ｇ
・２０％食塩水 ５０ｇ

上記調整した分散液ＢＡ３５ｇとジビニルベンゼン１ｇ、重合開始剤ＡＩＢＮ：０．３５ｇをはかりとり、充分混合し、超音波機で脱気を１０分おこなった。これを前記混合液ＢＣに加え、乳化機で乳化を実施した。次にこの乳化液をビンにいれ、シリコーン詮をし、注射針を使用し、減圧脱気を充分行い、窒素ガスで封入した。次に６０℃で１０時間反応させ粒子を調製した。冷却後、この分散液を凍結乾燥機により−３５℃、０．１Ｐａの下で、２日間でシクロヘキサンを除去した。得られた粒子粉をイオン交換水中に分散させ、塩酸水で炭酸カルシウムを分解させ、ろ過を行った。その後充分な蒸留水で洗浄し、これを乾燥させた。得られた粒子２質量部を界面活性剤ポリオキシエチレンアルキルエーテル２質量部と共に、分散媒としてのシリコーンオイル９８質量部に投入し、攪拌分散してマゼンタ粒子及びマゼンタ粒子の分散液を調製した。マゼンタ粒子の体積平均粒子径は１μｍであった。このようにして作製したマゼンタ粒子は、負帯電であった。

上記調整したマゼンタ粒子、絶縁性粒子、及び分散媒としてのシリコーンオイル（信越化学社製：ＫＦ３９３）を用いて、下記製法にて表示媒体を作製した。なお、実施例１では、図１に示す構成の表示媒体１０を作製した。

まず、背面基板１７として、厚さ１２５μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム表面に、ＩＴＯ膜（抵抗２００Ω）を着膜したものを用意した。

次に、この背面基板１７のＩＴＯ膜上に、日立化成工業社、感光フィルムＨＷ−４５０を、ロール圧０．４ＭＰａ、ロール温度１１０℃、ラミネート速度０．９ｍｍ／ｓでラミネートした後に、パターン作製用クロームマスクを介しマスクアライナＭ−２Ｌ（ミカサ製）により１２５０ｍＪ／ｃｍ^２で９０秒間ＵＶ露光した。その後、１．０％炭酸ナトリウム水溶液で現像した後に、水洗いして未露光部分を除去し、更にオーブンにいれて２２０℃で３０分間加熱処理を行い、区画部材２０を背面基板１７上に形成した。

形成された区画部材２０の高さは５０μｍ、幅は５０μｍであり、隣接する区画部材２０間の距離は１．０ｍｍであった。このため、複数の区画部材２０によって、背面基板１７上には、１．０ｍｍ×１．０ｍｍの区画に区切られた複数の領域、すなわち、底面が１．０ｍｍ×１．０ｍｍで高さが５０μｍの凹部２２が形成されたこととなった。

この背面基板１７の区画部材２０の設けられた側に、背面基板１７の区画部材２０側表面及び区画部材２０の壁面を覆うように、旭硝子社製のサイトップＣＴＬ−１０７Ｍ（硬化後の純水に対する接触角１１０°）をスプレーコート法により被覆し、平均膜厚２μｍの第１の撥水層２６としての撥水層を形成した。そして、エキシマレーザーを用いて、各区画部材２０の端部の撥水層を除去することで、各凹部２４の内周面のみが撥水層としての第１の撥水層２６によって被覆された状態とした。

次に、表示基板１３として、厚さ１２５μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム表面に、ＩＴＯ膜（抵抗２００Ω）を着膜したものを用意した。そして、この表示基板１３のＩＴＯ膜上に、紫外線硬化性樹脂として、感光性樹脂（旭硝子社製、ＮＩＦ−Ａ−１、硬化後の純水に対する接触角１１０°））を、ＧＡＰコーターを用いて膜厚５μｍに成膜した。これにより、硬化性樹脂層２７を成膜した。

次に、凹部２４の内周面に第１の撥水層２６の設けられた背面基板１７の、各凹部２４内に、上記調整した絶縁性粒子である白色粒子（５質量部）と、上記調整した泳動粒子であるマゼンタ粒子（７０質量部）を、分散媒であるシリコーンオイル（１００質量部）に分散させた粒子含分散媒３０を、ディスペンサを用いて吐出充填した。なお、この充填量は、各凹部２４内に充填された粒子含分散媒３０の厚みが５０μｍ以上５５μｍとなるように調整した。

次に、この凹部２４に粒子含分散媒３０の充填された背面基板１７に対して、上記硬化性樹脂層２７の形成された表示基板１３を接触させない状態で貼り合わせの位置を調整しながら、凹部２４の開口側が硬化性樹脂層２７によって塞がれるように、背面基板１７と表示基板１３とを向かい合わせた。そして、この積層体を、ロール式の貼り合わせ機を用いて、一方の端部から押圧しながら順次接触させていき、各凹部２４から溢れた粒子含分散媒３０を押し出すことで、貼り合わせた。

最後に、紫外線露光装置によって、７００ｍＪ／ｃｍ^２で９０秒間ＵＶ露光することで、硬化性樹脂層２７を硬化させて第２の撥水層２８とし、実施例１の表示媒体１０を作製した。

作製した表示媒体１０について、耐久性評価及び画質評価を行った。

―耐久性評価―
本実施例１で作製した表示媒体１０を、曲率半径１００ｍｍの円筒の表面に、表示基板１３側を外側に向けて巻き付けて１０秒間保持した後、平らな状態に戻し、これを１００回繰り返した。その後、第２の撥水層２８と第１の撥水層２６との接合部、及び各層間の接合部を拡大観察し、接着状態に剥がれがないかを目視確認した。
その結果、各層間の浮きや剥がれは観察されなかった。このため、高い耐久性を有する表示媒体が作製されたといえる。

―画質評価―
また、本実施例１で作製した表示媒体１０の、表示基板１３側の電極１４と、背面基板１７側の電極１８に電源を接続し、電圧を印加すると共に印加電圧を０Ｖから除々に高くしていったところ、１０Ｖの電圧を印加したときに、白色表示からマゼンタ色表示への色変化が見られた。また、印加電圧の極性を反転させて電圧を高くしたときに、
−１０Ｖの電圧を印加したときにマゼンタ色表示から白色表示への色変化が見られた。

なお、この色変化としては、表示基板１３側から濃度を濃度計（Ｘ−Ｒｉｔｅ社製、Ｘ−Ｒｉｔｅ４０４Ａ）によって測定し、電圧印加前の濃度に対する濃度変化が、０．１以上の変化量となったときを、色変化が見られたとした。

なお、測定濃度は、表示基板１３側からランダムに１０点について濃度を測定した平均値を、測定濃度として用いた。

また、この表示媒体１０に、上記マゼンタ色を表示するための１５Ｖの電圧印加と、上記白色を表示するための−１５Ｖの電圧印加と、を交互に繰り返し実行し、マゼンタ色が表示された状態、及び白色が表示された状態を、繰り返し１００回行った後に最後に白色を表示させた状態で終了した。そして、１００回繰り返し表示を行う前の状態において白色を表示するための１５Ｖの電圧を印加したときの濃度測定結果と、１００回繰り返し表示後に該１５Ｖの電圧を印加して白色表示させたときの濃度測定結果と、を比較したところ、双方とも測定濃度は０．３、反射率は５０％であり、濃度及び反射率に変化は見られなかった。また、１００回繰り返し表示を行う前にマゼンタ色を表示したときと、１００回繰り返し表示後にマゼンタ色を表示した後と、の双方において、画像欠陥は見られなかった。これは、各セル２２の壁面への粒子の付着が抑制されているためと考えられる。

また、１００回繰り返し表示を行う前に白色を表示したときと、１００回繰り返し表示後に白色を表示した後と、の双方において、表示基板１３側からランダムに１０点について濃度を測定し、最大濃度と最小濃度との差を測定したが、同じ濃度であり、濃度のバラツキもみられなかった。

このように、実施例１で作製した表示媒体１０によれば、セル２２の壁面への粒子の付着が抑制され、画質劣化の抑制が観察された。

（実施例２）
実施例２では、図７に示す構成の表示媒体１１を作製した。

実施例２では、まず、背面基板１７として、厚さ１２５μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム表面に、ＩＴＯ膜（抵抗２００Ω）を着膜したものを用意した。

次に、この背面基板１７のＩＴＯ膜上に、紫外線硬化性樹脂として、感光性樹脂（旭硝子社製、ＮＩＦ−Ａ−１、硬化後の純水に対する接触角１１０°）を、ＧＡＰコーターを用いて膜厚３０μｍに成膜した。これにより、硬化性樹脂層を成膜した。

幅５０μｍ深さ５０μｍの凹部が格子状（各凹部間の距離は１．０ｍｍ）に形成された金型（シリコンウェハ）を用意し、この金型の凹部形成面側に離型膜としてフッ素系樹脂（ティーアンドケー社製、商品名ナノス）による膜を真空蒸着により設けた。そして、この金型を、凹部形成面側が上記背面基板１７上に形成された硬化性樹脂層に接するように重ね合わせた後に、背面基板１７側から紫外線露光装置によって、７００ｍＪ／ｃｍ^２で９０秒間ＵＶ露光することで、硬化性樹脂層を硬化させた後に、金型を剥離した。

これによって、背面基板１７上に、表面が撥水性を有し、凹部２４の設けられた一体セル４４を形成した。

次に、表示基板１３として、厚さ１２５μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム表面に、ＩＴＯ膜（抵抗２００Ω）を着膜したものを用意した。そして、この表示基板１３のＩＴＯ膜上に、紫外線硬化性樹脂として、感光性樹脂（旭硝子社製、ＮＩＦ−Ａ−１、硬化後の純水に対する接触角１１０°）を、ＧＡＰコーターを用いて膜厚５μｍに成膜した。これにより、硬化性樹脂層２７を成膜した。

次に、上記形成した一体セル４４の各凹部２４内に、実施例１で調整した絶縁性粒子である白色粒子（７０質量部）と、実施例１で調整した泳動粒子であるマゼンタ粒子
（５質量部）を、分散媒であるシリコーンオイル（１００質量部）に分散させた粒子含分散媒３０を、ディスペンサを用いて吐出充填した。なお、この充填量は、各凹部２４内に充填された粒子含分散媒３０の厚みが５０μｍ以上５５μｍとなるように調整した。

次に、この凹部２４に粒子含分散媒３０の充填された背面基板１７に対して、上記硬化性樹脂層２７の形成された表示基板１３を接触させない状態で貼り合わせの位置を調整しながら、凹部２４の開口側が硬化性樹脂層２７によって塞がれるように、背面基板１７と表示基板１３とを向かい合わせた。そして、この積層体を、ロール式の貼り合わせ機を用いて、一方の端部から押圧しながら順次接触させていき、各凹部２４から溢れた粒子含分散媒３０を押し出すことで、貼り合わせた。

最後に、紫外線露光装置によって、７００ｍＪ／ｃｍ^２で９０秒間ＵＶ露光することで、硬化性樹脂層２７を硬化させて第２の撥水層２８とし、実施例２の表示媒体１１を作製した。

作製した表示媒体１１について、実施例１と同じ方法を用いて耐久性評価及び画質評価を行った。

―耐久性評価―
本実施例２で作製した表示媒体１１について、実施例１と同じ耐久性評価を行ない、第２の撥水層２８と一体セル４４との接合部、及び各層間の接合部を拡大観察し、接着状態に剥がれがないかを目視確認した。
その結果、各層間の浮きや剥がれは観察されなかった。このため、高い耐久性を有する表示媒体が作製されたといえる。

―画質評価―
また、本実施例２で作製した表示媒体１１の、表示基板１３側の電極１４と、背面基板１７側の電極１８に電源を接続し、電圧を印加すると共に印加電圧を０Ｖから除々に高くしていったところ、１０Ｖの電圧を印加したときに、白色表示からマゼンタ色表示への色変化が見られた。また、印加電圧の極性を反転させて電圧を高くしたときに、
−１０Ｖの電圧を印加したときにマゼンタ色表示から白色表示への色変化が見られた。

また、この表示媒体１１に、上記マゼンタ色を表示するための１５Ｖの電圧印加と、上記白色を表示するための−１５Ｖの電圧印加と、を交互に繰り返し実行し、ゼンタ色が表示された状態、及び白色が表示された状態を、繰り返し１００回行った後に最後に白色を表示させた状態で終了した。そして、１００回繰り返し表示を行う前の状態において白色を表示するための１５Ｖの電圧を印加したときの濃度測定結果と、１００回繰り返し表示後に該−１５Ｖの電圧を印加して白色表示させたときの濃度測定結果と、を比較したところ、双方とも測定濃度は０．３、反射率は５０％であり濃度及び反射率に変化は見られなかった。また、１００回繰り返し表示を行う前にマゼンタ色を表示したときと、１００回繰り返し表示後にマゼンタ色を表示した後と、の双方において、画像欠陥は見られなかった。これは、各セル２２の壁面への粒子の付着が抑制されているためと考えられる。

また、１００回繰り返し表示を行う前にマゼンタ色を表示したときと、１００回繰り返し表示後にマゼンタ色を表示した後と、の双方において、表示基板１３側からランダムに１０点について濃度を測定し、最大濃度と最小濃度との差を測定したが、同じ濃度であり、濃度のバラツキもみられなかった。

このように、実施例２で作製した表示媒体１１によれば、実施例１の表示媒体１０と同様に、セル２２の壁面への粒子の付着が抑制され、画質劣化の抑制が観察された。

（比較例１）
比較例１では、実施例１の表示媒体１０の作製において、以下の製造工程に変更した以外は、実施例１と同じ工程及び製法により、図９に示す構成の表示媒体１００を作製した。

詳細には、実施例１と同じ製法により、実施例１で用いた背面基板１７上に、実施例１と同じ製法により区画部材２０を形成した後に、この区画部材２０の設けられた側に、背面基板１７の区画部材２０側表面、及び区画部材２０の表面（区画部材２０の先端の領域を含む）を覆うように、旭硝子社製のサイトップＣＴＬ−１０７Ｍをスプレーコート法により被覆し、平均膜厚２μｍの撥水層５０を形成した。なお、比較例１では、各区画部材２０の端部の撥水層の除去は行わなかった。

また、実施例１と同じ製法により、実施例１で用いた表示基板１３のＩＴＯ膜上に、紫外線硬化性樹脂として、感光性樹脂（旭硝子社製、ＮＩＦ−Ａ−１、硬化後の純水に対する接触角１１０°）を、ＧＡＰコーターを用いて膜厚５μｍに成膜し、硬化性樹脂層２７を成膜した。そして、この硬化性樹脂層２７に、紫外線露光装置によって、７００ｍＪ／ｃｍ^２で９０秒間ＵＶ露光することで、硬化性樹脂層２７を硬化させて撥水層４８とした。

そして、実施例１と同様にして、各凹部２４に粒子含分散媒３０を充填した後に、背面基板１７側に設けられた撥水層５０が、表示基板１３側に設けられた撥水層４８に接触するように、背面基板１７と表示基板１３を向かい合わせた。そして、この積層体を、ロール式の貼り合わせ機を用いて、一方の端部から押圧しながら順次接触させていき、各凹部２４から溢れた粒子含分散媒３０を押し出すことで、貼り合わせた。これによって、表示媒体１００を作製した。

作製した表示媒体１００について、実施例１と同じ方法を用いて耐久性評価及び画質評価を行った。

―耐久性評価―
本比較例１で作製した表示媒体１００について、実施例１と同じ耐久性評価を行ない、撥水層４８と撥水層５０との接合部、及び各層間の接合部を拡大観察し、接着状態に剥がれがないかを目視確認した。
その結果、表示媒体１００の３０ｃｍ×２０ｃｍの領域内に、最大１０箇所の剥がれが観察された。このため、実施例１及び実施例２に比べて、耐久性が得られなかったといえる。

―画質評価―
また、本比較例１で作製した表示媒体１００の、表示基板１３側の電極１４と、背面基板１７側の電極１８に電源を接続し、電圧を印加すると共に印加電圧を０Ｖから除々に高くしていったところ、１０Ｖの電圧を印加したときに、白色表示からマゼンタ色表示への色変化が見られた。また、印加電圧の極性を反転させて電圧を高くしたときに、
−１０Ｖの電圧を印加したときにマゼンタ色表示から白色表示への色変化が見られた。

また、この表示媒体１００に、上記マゼンタ色を表示するための１５Ｖの電圧印加と、上記白色を表示するための−１５Ｖの電圧印加と、を交互に繰り返し実行し、マゼンタ色が表示された状態、及び白色が表示された状態を、繰り返し１００回行った後に最後に白色を表示させた状態で終了した。そして、１００回繰り返し表示を行う前の状態において白色を表示するための１５Ｖの電圧を印加したときの濃度測定結果は濃度０．３反射率は５０％であったが、１００回繰り返し表示後に該−１５Ｖの電圧を印加して白色表示させたときの濃度測定結果では濃度０．３５反射率４５％であり、濃度及び反射率の変化が測定された。
また、１００回繰り返し表示を行う前にマゼンタ色を表示したときと、１００回繰り返し表示後にマゼンタ色を表示した後には、画像欠陥が見られた。
これは、各セル２２の壁面への粒子の付着が、実施例１及び実施例２に比べて抑制されず、内壁に粒子が付着することで白色反射率が低下し、画質劣化が生じたためといえる。

また、１００回繰り返し表示を行う前にマゼンタ色を表示したときと、１００回繰り返し表示後にマゼンタ色を表示した後と、の双方において、表示基板１３側からランダムに１０点について濃度を測定し、最大濃度と最小濃度との差を測定したところ、双方において濃度のバラツキ（濃度差０．１）が観察された。そして、この濃度差が観察された領域は、上記画像欠陥が見られた場所、及び上記剥がれの観察された場所と一致していた。このため、比較例１で作製した表示媒体１００では、実施例１及び実施例２に比べて、画質劣化が生じていたといえる。

（比較例２）
実施例１で作製した表示媒体１０において、実施例１で用いた旭硝子社製のサイトップＣＴＬ−１０７Ｍ、及び感光性樹脂（旭硝子社製、ＮＩＦ−Ａ−１）に変えて、撥水性を有さないエポキシ系ＵＶ硬化性接着剤（化薬マイクロケム社製、商品名ＫＡＹＡＴＯＲＯＮ ＣＫ、純水に対する接触角７０°）を用いることで、第２の撥水層２８及び第１の撥水層２６の各々を、撥水性を有さない層とした以外は、実施例１の表示媒体１０と同じ製法により、本比較例２の表示媒体を作製した。

比較例２で作製した表示媒体について、実施例１と同じ方法を用いて、耐久性評価及び画質評価を行った。

―耐久性評価―
本比較例２で作製した表示媒体について、実施例１と同じ耐久性評価を行ない、各層間の接合部を拡大観察し、接着状態に剥がれがないかを目視確認した。
その結果、表示媒体の３０ｃｍ×２０ｃｍの領域内に、最大１０箇所の剥がれが観察された。このため、実施例１及び実施例２に比べて、耐久性が得られなかったといえる。

―画質評価―
また、本比較例２で作製した表示媒体の、表示基板１３側の電極１４と、背面基板１７側の電極１８に電源を接続し、電圧を印加すると共に印加電圧を０Ｖから除々に高くしていったところ、１０Ｖの電圧を印加したときに、白色表示からマゼンタ色表示への色変化が見られた。また、印加電圧の極性を反転させて電圧を高くしたときに、
−１０Ｖの電圧を印加したときにマゼンタ色表示から白色表示への色変化が見られた。

また、この表示媒体に、上記マゼンタ色を表示するための１５Ｖの電圧印加と、上記白色を表示するための−１５Ｖの電圧印加と、を交互に繰り返し実行し、マゼンタ色が表示された状態、及び白色が表示された状態を、繰り返し１００回行った後に最後に白色を表示させた状態で終了した。そして、１００回繰り返し表示を行う前の状態において白色を表示するための１５Ｖの電圧を印加したときの濃度測定結果は濃度０．３反射率は５０％であったが、１００回繰り返し表示後に該−１５Ｖの電圧を印加して白色表示させたときの濃度測定結果では濃度０．３５反射率４５％であり、濃度及び反射率の変化が測定された。
また、１００回繰り返し表示を行う前にマゼンタ色を表示したときと、１００回繰り返し表示後にマゼンタ色を表示した後には、画像欠陥が見られた。
これは、各セル２２の壁面への粒子の付着が、実施例１及び実施例２に比べて抑制されず、内壁に粒子が付着することで白色反射率が低下し、画質劣化が生じたためといえる。

また、１００回繰り返し表示を行う前にマゼンタ色を表示したときと、１００回繰り返し表示後にマゼンタ色を表示した後と、の双方において、表示基板１３側からランダムに１０点について濃度を測定し、最大濃度と最小濃度との差を測定したところ、双方において濃度のバラツキ（濃度差０．１）が観察された。そして、この濃度差が観察された領域は、上記画像欠陥が見られた場所、及び上記剥がれの観察された場所と一致していた。このため、比較例２で作製した表示媒体１００では、実施例１及び実施例２に比べて、画質劣化が生じていたといえる。

第１の実施の形態の表示媒体の一例を示す概略構成図である。 （Ａ）〜（Ｄ） 第１の実施の形態の表示媒体の製造工程の一例を示す模式図である。 （Ａ）〜（Ｃ） 第１の実施の形態の表示媒体の製造工程の一例を示す模式図である。 （Ａ）〜（Ｂ） 第１の実施の形態の表示媒体の製造工程の一例を示す模式図である。 （Ａ）〜（Ｄ） 第１の実施の形態の表示媒体の製造工程の一例を示す模式図である。 （Ａ）〜（Ｅ） 第１の実施の形態の表示媒体の製造工程の一例を示す模式図である。 第２の実施の形態の表示媒体の一例を示す概略構成図である。 （Ａ）〜（Ｄ） 第２の実施の形態の表示媒体の製造工程の一例を示す模式図である。 従来の表示媒体の一例を示す模式図である。

符号の説明

１０、１１ 表示媒体
１３ 表示基板
１７ 背面基板
２０ 区画部材
２４ 凹部
２６ 第１の撥水層
２８ 第２の撥水層
３０ 粒子含分散媒
３０Ａ 粒子群
３０Ｂ 分散媒

Claims (5)

1. 少なくとも一方が透光性を有し、間隔を隔てて対向して配置された一対の基板と、
   前記一対の基板の間隔を保持すると共に、該一対の基板の基板間を面方向に１または複数の領域に区画する区画部材と、
   前記区画部材によって区画された各領域内に封入され、前記基板間に形成された電界に応じて該基板間を移動する粒子群と、
   前記区画部材によって区画された各領域内に封入され、前記粒子群を分散させる分散媒と、
   前記一対の基板の内の一方と前記区画部材とによって形成された１または複数の凹部の内周面に設けられ、撥水性を有する第1の撥水層と、
   前記一対の基板の内の他方の、前記一方の基板側表面に設けられ、前記第1の撥水層に少なくとも一部が接触して配置された第２の撥水層と、
   前記第1の撥水層及び前記第２の撥水層の少なくとも一方が、刺激を付与されることにより硬化すると共に少なくとも硬化後に撥水性を有する硬化性樹脂を主成分として含有することを特徴とする表示媒体。
2. 前記第２の撥水層が、刺激を付与されることにより硬化すると共に少なくとも硬化後に撥水性を有する硬化性樹脂を主成分として含有することを特徴とする請求項１に記載の表示媒体。
3. 前記第１の撥水層と、前記区画部材と、が一体的に形成されたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示媒体。
4. 前記第１の撥水層が、刺激を付与されることにより硬化すると共に少なくとも硬化後に撥水性を有する硬化性樹脂を主成分として含有することを特徴とする請求項１に記載の表示媒体。
5. 凹部の設けられた基材の該凹部の内周面に撥水性を有する第１の撥水層を形成する工程と、
   表示基板上に、刺激を付与されることにより硬化すると共に少なくとも硬化後に撥水性を有する硬化性樹脂を主成分として含有した第２の撥水層を形成する工程と、
   前記第１の撥水層の形成された前記凹部内に、電界に応じて該基板間を移動する粒子群と、該粒子群を分散させる分散媒と、を充填する工程と、
   前記基材と、前記表示基板と、を前記第１の撥水層と前記硬化性樹脂が未硬化状態の前記第２の撥水層とが向かい合うように重ねる工程と、
   前記基材と、前記表示基板と、が重ねられた積層体に、前記硬化性樹脂を硬化させる刺激を付与する工程と、
   を有する表示媒体の製造方法。

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