JP2010038729A - 光偏波状態分布測定方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光周波数を掃引された光源1からの出力光を被測定光回路3に入射し、この被測定光回路3における反射率の伝播方向に対する分布をOFDRにより測定するOFDR測定装置において、光源1の出力光と被測定光回路3からの後方散乱光とを偏波ダイバーシティ構成で干渉させて(2A,2B,11,12)、s偏波後方散乱光とp偏波後方散乱光を受信して(4A,4B)それぞれの反射分布測定を行い(5′)、この測定結果からs偏波後方散乱光の振幅情報とp偏波後方散乱光の振幅情報とs偏波後方散乱光及びp偏波後方散乱光の位相差情報とを求め、これらの情報を用いて後方散乱光の偏波状態を計算する(6′)。
【選択図】 図3
Description
(1)光周波数を掃引されたレーザ光源からの出力光を測定対象に入射してこの測定対象における反射率の伝播方向に対する分布を光周波数領域リフレクトメトリ測定方法(OFDR)により測定する光偏波状態分布測定方法において、前記出力光と前記測定対象からの後方散乱光とを偏波ダイバーシティ構成で干渉させてs偏波後方散乱光とp偏波後方散乱光の反射分布測定を行い、前記s偏波後方散乱光の振幅情報と、前記p偏波後方散乱光の振幅情報と、前記s偏波後方散乱光と前記p偏波後方散乱光との位相差情報とを用いて、前記後方散乱光の偏波状態を計算するものとする。
図1は、OFDR測定装置の基本構成の一例を示す図である。図1において、周波数掃引光源1からの出力光S1は光方向性結合器2Aにより分岐され、一方は参照光S2として用いられ、他方は測定光S3として被測定光回路3に入射される。この被測定光回路3の内部で後方散乱された信号光S4は光方向性結合器2Aにより取り出される。ここで得られた信号光S5は、光方向性結合器2Bにより参照光S2と合波されたのち、光受信器4により検波される。このとき、2光波の干渉により生じる干渉ビート信号をサンプリング装置5によりサンプリングし、サンプリングデータを解析装置6にて周波数解析することにより、被測定光回路3内の各位置からの後方散乱光強度分布が測定される。
式(14)と式(15)から分かるように、光受信器4A及び光受信器4Bで検波された干渉ビート信号をフーリエ変換処理した情報Ps(z)及びPp(z)には、それぞれτsとτpが位相項の中で現れるので、位相項の情報を使用すれば、偏波の性質を検出することができる。
2A,2B,2C…光方向性結合器
3…被測定光回路
4,4A,4B…光受信器
5,5′…サンプリング装置
6,6′…解析装置
7…コヒーレンスモニタ装置
8…解析装置
11…偏波ビームスプリッタ
12…偏波コントローラ
Claims (6)
- 光周波数を掃引されたレーザ光源からの出力光を測定対象に入射してこの測定対象における反射率の伝播方向に対する分布を光周波数領域リフレクトメトリ測定方法(OFDR)により測定する光偏波状態分布測定方法において、
前記出力光と前記測定対象からの後方散乱光とを偏波ダイバーシティ構成で干渉させてs偏波後方散乱光とp偏波後方散乱光の反射分布測定を行い、
前記s偏波後方散乱光の振幅情報と、前記p偏波後方散乱光の振幅情報と、前記s偏波後方散乱光と前記p偏波後方散乱光との位相差情報とを用いて、前記後方散乱光の偏波状態を計算することを特徴とする光偏波状態分布測定方法。 - 光周波数を掃引されたレーザ光源からの出力光を測定対象に入射してこの測定対象における反射率の伝播方向に対する分布を光周波数領域リフレクトメトリ測定方法(OFDR)により測定する光偏波状態分布測定装置において、
前記出力光と前記測定対象からの後方散乱光とを偏波ダイバーシティ構成で干渉させてs偏波後方散乱光とp偏波後方散乱光の反射分布測定を行う偏波ダイバーシティ装置と、
前記s偏波後方散乱光の振幅情報と、前記p偏波後方散乱光の振幅情報と、前記s偏波後方散乱光と前記p偏波後方散乱光との位相差情報とを用いて、前記後方散乱光の偏波状態を計算する解析部と
を具備することを特徴とする光偏波状態分布測定装置。
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|---|---|---|---|---|
| JP2011158330A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光線路測定装置及び光線路測定方法 |
| JP2012088268A (ja) * | 2010-10-22 | 2012-05-10 | Yokogawa Electric Corp | 光パルス試験装置 |
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| JPH06323953A (ja) * | 1993-05-17 | 1994-11-25 | Yokogawa Electric Corp | 反射点測定装置 |
| JPH07159280A (ja) * | 1993-12-09 | 1995-06-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光周波数領域反射測定装置 |
| JP2008089515A (ja) * | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光周波数領域反射測定方法および装置 |
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2008
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