JP2010033936A - 自発光型素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板1と、前記基板上に所定間隔を空けて形成された複数の第1の電極層21と、前記第1の電極層間の前記基板上に形成されたバンクコア部4aと、前記バンクコア部上に形成された共通配線3と、前記バンクコア部の側面を覆い、前記共通配線を挟むように形成され、上面が前記共通配線の上面と面一になっているバンク側壁部4bと、前記第1の電極層の上方に形成された発光層23と、前記発光層の上方、前記バンク側壁部、及び前記共通配線を覆うように形成された第2の電極層25と、を備える。
【選択図】図3
Description
2 サブピクセル
3 共通配線
21 陽極
22 正孔注入輸送層
23 発光層
24 電子注入輸送層
25 半透過陰極
Claims (9)
- 基板と、
前記基板上に所定間隔を空けて形成された複数の第1の電極層と、
前記第1の電極層間の前記基板上に形成されたバンクコア部と、
前記バンクコア部上に形成された共通配線と、
前記バンクコア部の側面を覆い、前記共通配線を挟むように形成され、上面が前記共通配線の上面と面一になっているバンク側壁部と、
前記第1の電極層の上方に形成された発光層と、
前記発光層の上方、前記バンク側壁部、及び前記共通配線を覆うように形成された第2の電極層と、
を備える自発光型素子。 - 前記バンク側壁部は、前記共通配線に含まれる金属の酸化物を含むことを特徴とする請求項1に記載の自発光型素子。
- 前記共通配線はタンタルを含み、前記バンク側壁部は五酸化タンタルを含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の自発光型素子。
- 前記第1の電極層と前記発光層との間に形成された正孔注入輸送層と、
前記発光層と前記第2の電極層との間に形成された電子注入輸送層と、
をさらに有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の自発光型素子 - 前記第2の電極層は仕事関数が3.4eV以下の金属を含むことを特徴とする請求項4に記載の自発光型素子。
- 基板上に所定間隔を空けて複数の第1の電極層を形成し、
前記第1の電極層間の前記基板上にバンクコア部を形成し、
前記バンクコア部の側面及び上面を覆うように金属膜を形成し、
前記金属膜のうち前記バンクコア部の側面を覆っている領域を酸化してバンク側壁部を形成し、
前記第1の電極層の上方に発光層を形成し、
前記発光層の上方、前記バンク側壁部、及び前記バンクコア部の上面を覆う前記金属膜を覆うように第2の電極層を形成する自発光型素子の製造方法。 - 前記金属膜はタンタル又はアルミニウムを含むことを特徴とする請求項6に記載の自発光型素子の製造方法。
- 前記発光層の形成前に前記第1の電極層上に正孔注入輸送層を形成し、
前記第2の電極層の形成前に前記発光層上に電子注入輸送層を形成することを特徴とする請求項6又は7に記載の自発光型素子の製造方法。 - 前記第2の電極層は仕事関数が3.4eV以下の金属を含むことを特徴とする請求項8に記載の自発光型素子の製造方法。
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