JP2010028136A - パターンレイヤーデータ生成方法、及びパターンレイヤーデータ生成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のパターン検査装置は、例えば走査型電子顕微鏡システムに搭載することができ、SEM画像に複数レイヤーのパターンが含まれている場合に、前記パターンに対応する複数レイヤーのCADデータを利用することで、前記パターンをレイヤー毎に分離する。これにより、検査対象レイヤーのパターンのみを利用した検査や、レイヤー毎に異なるパターン検査や、レイヤー間の位置ずれ量の検出を実現する。
【選択図】 図1
Description
Else:直線の方向=(tan-1((y1−y0)/(x1−x0))×360)/(2π) …式1
π:円周率
この方向情報を利用し、図14に示すようなCADレイヤーデータ1401からレイヤー毎,方向毎に直線座標をグループ分けしたCADテーブルデータ1402を作成する。この例では4方向のグループ分けを行っているが、方向数は2方向でも16方向でもよく、この方向数を限定するものではない。
cad_y′(n)=cad_y(n)−ly;
図20は実施例2の処理手順を示すフローチャートである。このフローチャートに基づくソフトウェアを図5に示した電子計算機500のデータ演算手段503のメモリに格納しておき、本発明のパターン検査を行う際に、CPUが読み出して実行することにより、本発明のパターン検査を行うことが可能である。
能としたものである。このレイヤー間のずれがある許容値を超えた場合に、プロセスの見直しを実施するといった使い方が可能である。
Claims (15)
- 半導体デバイスを撮影した画像データから半導体デバイスのパターンデータを抽出するパターンデータ抽出手段と、
前記半導体デバイスの設計データに基づいて得られる特定層の図形データと、前記抽出されたパターンデータとの対応を検出し、当該検出に基づいて、前記抽出されたパターンデータの中から前記特定層に属するパターンデータを抽出し、当該抽出されたパターンデータに、前記設計データのレイヤーデータを付加、或いは当該抽出されたパターンのレイヤーを識別するデータを生成するパターンレイヤーデータ生成手段を備えたことを特徴とするパターンレイヤーデータ生成装置。 - 請求項1において、
前記レイヤー情報が付加された前記特定層のパターンデータを用いて、当該特定層のパターンの測定を実行するパターン計測手段を備えたことを特徴とするパターンレイヤーデータ生成装置。 - 請求項2において、
前記パターン計測手段は、前記図形データ上に設定された測定位置データに基づいて、前記抽出されたパターンデータの測定を行うことを特徴とするパターンレイヤーデータ生成装置。 - 請求項1において、
前記パターンレイヤーデータ生成手段は、前記抽出されたパターンデータの各層に、前記設計データのレイヤーデータを付加することを特徴とするパターンレイヤーデータ生成装置。 - 請求項4において、
前記レイヤー情報が付加された前記各層のパターンデータの内、前記特定層のパターンデータを用いて、測定を実行するパターン計測手段を備えたことを特徴とするパターンレイヤーデータ生成装置。 - 電子ビームを半導体デバイスに照射し、該半導体デバイスからの二次電子を検出することで画像データを作成する走査電子顕微鏡と、
該画像データから半導体デバイスのパターンデータを抽出するパターンデータ抽出手段と、
前記半導体デバイスの設計データに基づいて得られる特定層の図形データと、前記抽出されたパターンデータとの対応を検出し、当該検出に基づいて、前記抽出されたパターンデータの中から前記特定層に属するパターンデータを抽出し、当該抽出されたパターンデータに、前記設計データのレイヤーデータを付加、或いは当該抽出されたパターンのレイヤーを識別するデータを生成するパターンレイヤーデータ生成手段を備えたことを特徴とするパターンレイヤーデータ生成システム。 - 請求項6において、
前記レイヤー情報が付加された前記特定層のパターンデータを用いて、当該特定層のパターンの測定を実行するパターン計測手段を備えたことを特徴とするパターンレイヤーデータ生成システム。 - 請求項7において、
前記パターン計測手段は、前記図形データ上に設定された測定位置データに基づいて、前記抽出されたパターンデータの測定を行うことを特徴とするパターンレイヤーデータ生成システム。 - 請求項6において、
前記パターンレイヤーデータ生成手段は、前記抽出されたパターンデータの各層に、前記設計データのレイヤーデータを付加することを特徴とするパターンレイヤーデータ生成システム。 - 請求項9において、
前記レイヤー情報が付加された前記各層のパターンデータの内、前記特定層のパターンデータを用いて、測定を実行するパターン計測手段を備えたことを特徴とするパターンレイヤーデータ生成システム。 - 電子ビームを試料上に走査することによって得られる電子に基づいて、画像を形成する走査電子顕微鏡に接続されるコンピュータに、前記画像からパターンデータを抽出させるコンピュータプログラムにおいて、
当該プログラムは、前記コンピュータに、前記半導体デバイスの設計データに基づいて得られる特定層の図形データと、前記抽出されたパターンデータとの対応を検出させ、当該検出に基づいて、前記抽出されたパターンデータの中から前記特定層に属するパターンデータを抽出させ、当該抽出されたパターンデータに、前記設計データのレイヤーデータを付加、或いは当該抽出されたパターンのレイヤーを識別するデータを生成させることを特徴とするコンピュータプログラム。 - 請求項11において、
前記プログラムは、前記コンピュータに、前記レイヤー情報が付加された前記特定層のパターンデータを用いて、当該特定層のパターンを測定させることを特徴とするコンピュータプログラム。 - 請求項12において、
前記プログラムは、前記コンピュータに、前記図形データ上に設定された測定位置データに基づいて、前記抽出されたパターンデータを測定させることを特徴とするコンピュータプログラム。 - 請求項11において、
前記プログラムは、前記コンピュータに、前記抽出されたパターンデータの各層に、前記設計データのレイヤーデータを付加させることを特徴とするコンピュータプログラム。 - 請求項14において、
前記プログラムは、前記コンピュータに、前記レイヤー情報が付加された前記各層のパターンデータの内、前記特定層のパターンデータを用いて、測定を実行させることを特徴とするコンピュータプログラム。
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