JP2010027601A5 - マイクロ波プラズマ処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、マイクロ波プラズマ処理装置に関する。特に、ラジアルラインスロットアンテナから放出されたマイクロ波の電界エネルギーによりガスを励起させ、被処理体をプラズマ処理するマイクロ波プラズマ処理装置に関する。

すなわち、上記課題を解決するために、本発明のある態様によれば、マイクロ波プラズマ処理装置であって、内部にてプラズマ処理が行われる処理容器と、マイクロ波を出力するマイクロ波源と、前記マイクロ波源から出力されたマイクロ波を伝送する矩形導波管と、前記矩形導波管を伝送したマイクロ波のモードを変換する同軸変換機と、前記同軸変換機にてモードを変換されたマイクロ波を伝送する同軸導波管と、前記スロット板に対して非接触の状態で前記同軸導波管の内部導体に取り付けられたテーパー状のコネクタ部と、前記処理容器内へマイクロ波が導入される多数のスロットを有し、中心に開口を有するスロット板と、前記スロット板の開口を貫通して前記テーパー状のコネクタ部の下面に連結する導電性の設置台と、前記スロット板と前記設置台との間に配置され、前記設置台を通じて前記テーパー状のコネクタ部と前記スロット板とを電気的に接続する導電性弾性体とを備えたマイクロ波プラズマ処理装置が提供される。

なお、前記導電性弾性体は、線材の金属シールド部材であってもよい。

前記設置台は、外周につば部を有し、前記導電性弾性体は、前記つば部と前記スロット板との間に設けられてもよい。

前記設置台のつば部は、段差を有し、前記導電性弾性体は、前記つば部に設けられた最も内側の段差より外側に設けられてもよい。

前記設置台のつば部と前記スロット板との間隔は、前記導電性弾性体が、昇温によるテーパー状のコネクタ部の変位を吸収しながら、前記テーパー状のコネクタ部を介して前記スロット板を前記内部導体に電気的に接続する程度に離れていてもよい。

Claims (9)

1. マイクロ波プラズマ処理装置であって、
   内部にてプラズマ処理が行われる処理容器と、
   マイクロ波を出力するマイクロ波源と、
   前記マイクロ波源から出力されたマイクロ波を伝送する矩形導波管と、
   前記矩形導波管を伝送したマイクロ波のモードを変換する同軸変換機と、
   前記同軸変換機にてモードを変換されたマイクロ波を伝送する同軸導波管と、
   前記スロット板に対して非接触の状態で前記同軸導波管の内部導体に取り付けられたテーパー状のコネクタ部と、
   前記処理容器内へマイクロ波が導入される多数のスロットを有し、中心に開口を有するスロット板と、
   前記スロット板の開口を貫通して前記テーパー状のコネクタ部の下面に連結する導電性の設置台と、
   前記スロット板と前記設置台との間に配置され、前記設置台を通じて前記テーパー状のコネクタ部と前記スロット板とを電気的に接続する導電性弾性体とを備えたマイクロ波プラズマ処理装置。
2. 前記スロット板に隣接して設けられた遅波板及び前記遅波板に隣接して設けられた冷却ジャケットを有し、
   少なくとも前記遅波板と前記冷却ジャケットとの間、及び前記テーパー状のコネクタ部と前記遅波板との間には隙間が形成されている請求項１に記載されたマイクロ波プラズマ処理装置。
3. 前記導電性弾性体は、線材の金属シールド部材である請求項２に記載されたマイクロ波プラズマ処理装置。
4. 昇温後において前記テーパー状のコネクタ部の被処理体に向かう面と、前記スロット板に隣接して設けられた遅波板の被処理体に向かう面とが同一面内に位置する請求項１に記載されたマイクロ波プラズマ処理装置。
5. 前記設置台は、外周につば部を有し、
   前記導電性弾性体は、前記つば部と前記スロット板との間に設けられる請求項１に記載されたマイクロ波プラズマ処理装置。
6. 前記設置台のつば部は、段差を有し、
   前記導電性弾性体は、前記つば部に設けられた最も内側の段差より外側に設けられる請求項５に記載されたマイクロ波プラズマ処理装置。
7. 前記設置台のつば部は、段差の角が丸く形成されている請求項６に記載されたマイクロ波プラズマ処理装置。
8. 前記設置台のつば部と前記スロット板との間隔は、前記導電性弾性体が、昇温によるテーパー状のコネクタ部の変位を吸収しながら、前記テーパー状のコネクタ部を介して前記スロット板を前記内部導体に電気的に接続する程度に離れている請求項５に記載されたマイクロ波プラズマ処理装置。
9. 前記スロット板に隣接して設けられた遅波板及び前記遅波板に隣接して設けられた冷却ジャケットの少なくともいずれかの表面に絶縁材をコーティングする請求項１に記載されたマイクロ波プラズマ処理装置。