JP2010027220A - 粒子線装置 - Google Patents

Abstract

【課題】試料室内において、鏡筒の先端部への絞り部材の着脱を効率良く行うことのできる粒子線装置を提供する。
【解決手段】粒子線を先端から放出する鏡筒１０と、鏡筒１０の先端と連通する真空室１とを有し、鏡筒１０から放出された粒子線を真空室１内に配置された試料に照射する粒子線装置において、鏡筒１０の先端部に着脱自在に設置される絞り部材と、絞り部材を一端側で保持する保持部材６と、保持部材６と連結して保持部材６を傾斜可能に支持する支持部材８と、試料に照射される粒子線の光軸に対して直交する方向に支持部材を移動可能とする移動機構１１とを具備し、移動機構１１による支持部材８の移動に伴って保持部材６の移動及び傾斜の動作が行われ、これにより鏡筒１０の先端部への絞り部材の着脱が行われる。
【選択図】図２

Description

本発明は、鏡筒と試料室（内部に試料が配置される真空室）との間に差動排気機能を設けることにより、高真空に真空引きされた鏡筒内部の圧力に対して、試料室内部を低真空雰囲気とすることのできる走査電子顕微鏡等の粒子線装置に関する。

走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等の粒子線装置において、試料が配置される試料室内部の真空雰囲気を、鏡筒内部の真空雰囲気に対して低真空（圧力の高い）状態とし、この低真空状態の試料室内部に、観察・検査対象として水分を含む細胞等のウエットサンプルを配置することがある。

このような場合に使用される低真空ＳＥＭの構成においては、差動排気用の絞り部材が鏡筒の先端部に配置される。この絞り部材には、小さな開口が形成されている。

ここで、鏡筒の先端部には対物レンズが設置されており、対物レンズにおいて電子線が通過する孔の内部に絞り部材の開口が位置するように絞り部材が配置される。

このような構成からなる低真空ＳＥＭの例を図１に示す。同図において、試料室１の上部には、鏡筒１０が設けられている。試料室１の内部に接する鏡筒１０の先端側には、対物レンズ２が取付けられている。

鏡筒１０の基端側（図１における上方側）には、図示しない電子源（電子銃）が配置されている。鏡筒１０内において、電子源から放出された電子線は、鏡筒１０内部の空間１０ａ（対物レンズ２の貫通孔２ａを含む）を、同図における下方に向けて通過する。これにより、当該電子線は、鏡筒１０の先端から試料室１内部に放出される。なお、電子線が通過する鏡筒１０内部の空間１０ａは、鏡筒１０の先端において、試料室１内部と繋がっている。

試料室１内には、図示しない試料が配置されており、鏡筒１０の先端から放出された電子線は当該試料に照射される。このようにして電子線が照射された試料からは、二次電子や反射電子等の被検出電子が発生する。当該被検出電子は、検出器（図示せず）により検出され、その検出結果に基づき試料像が形成される。

ここで、観察・検査対象としての試料が、水分を含むウエットサンプルである場合、試料室１内部の真空雰囲気は、鏡筒１０の内部空間１０ａの真空雰囲気に対して低真空状態に設定される。すなわち、試料室１内部の圧力を、高真空状態とされた鏡筒１０内部の圧力よりも高く設定する。

このように、試料室１内の真空雰囲気と鏡筒１０内の真空雰囲気との間で圧力差が生じる場合には、試料室１内において、鏡筒１０の先端部に差動排気用の絞り部材４を取付けておく。

絞り部材４は、所定形状の開口が形成された絞り３と、この絞り３を支持する支持フランジ部４ａとから構成されている。支持フランジ部４ａにおいて、絞り３を支持している支持部が対物レンズ２の貫通孔２ａに嵌合することにより、鏡筒１０の先端部に絞り部材４が固定される。このような絞り部材４は、本装置の操作者の手作業により、鏡筒１０の先端部に着脱自在に取付けられる。

低真空ＳＥＭによる試料（第１の試料）の観察・検査が終了し、通常のＳＥＭによる他の試料（第２の試料）の観察・検査を行う際には、上記により観察・検査が終了した第１の試料を試料室１内から図示しない試料交換室に移送し、試料室１と試料交換室との間のバルブを閉める。

その後、試料室１内部の雰囲気を一旦大気圧に戻してから、操作者は試料室１の外気へ通じる扉を開け、試料室１内部に手を入れて、鏡筒１０の先端部から絞り部材４を取り外す。取り外された絞り部材４は、試料室１外に配置される。このように絞り部材４の取り外し作業が終了した後、操作者は試料室１の扉を閉める。その後、試料室１内部の真空引きが行われる。

また、試料交換室内においては、観察・検査対象の試料として、第１の試料から第２の試料への試料交換が行われる。第２の試料は、通常のＳＥＭによる観察・検査の対象とする。

絞り部材４が取り外された状態の試料室１の内部が所定の真空度（通常のＳＥＭ観察が行われる真空度）に到達したら、試料室１と試料交換室との間のバルブを開ける。そして、通常のＳＥＭ観察の対象となっている第２の試料を試料室１内に導入する。

このようにして試料室１内部に配置された第２の試料に対して、鏡筒１０からの電子線の照射が行われ、その試料像の取得が行われることとなる。

なお、低真空ＳＥＭにおいて、試料室内に差動排気絞りを上下方向に昇降させるための昇降機構と、降下後の差動排気絞りを水平方向に移動させる水平移動機構と、これら昇降機構及び水平移動機構の操作部とが設けられた装置もある（特許文献１参照）。

特開２００８−１０１７７号公報

図１に示す装置において、試料室１内部に配置された絞り部材４は、装置稼動時には真空雰囲気内にあるので、絞り部材４の着脱作業を容易に行うことができない。

すなわち、上述のごとく、試料室１内部の雰囲気を一旦大気圧に戻してから、操作者が試料室１内部に手を入れて、絞り部材４の着脱作業が行われることとなり、作業性が悪く、また試料室１内部の当該大気圧復帰及びその後の真空引きに時間がかかり、着脱作業の効率が良くない。

また、上記特許文献１に開示された構成では、操作者の手動による上記操作部の引出操作及び回転操作からなる２方向の手動操作が必要となる。

よって、１方向の手動操作によって作業性良く当該絞りの着脱を行えるようにしたほうが望ましい。また、手動操作によらずに、駆動源による動作によって効率的に当該絞り部材の着脱を行えるようにしたいとの要望もある。

本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、試料室内において、鏡筒の先端部への絞り部材の着脱を効率良く行うことのできる粒子線装置を提供することを目的とする。

本発明に基づく粒子線装置は、粒子線源と粒子線源からの粒子線を集束するレンズとを備え、該粒子線を先端から放出する鏡筒と、鏡筒の先端と連通する真空室とを有し、鏡筒から放出された粒子線を真空室内に配置された試料に照射する粒子線装置において、鏡筒の先端部に着脱自在に設置される絞り部材と、絞り部材を一端側で保持する保持部材と、保持部材と連結して保持部材を傾斜可能に支持する支持部材と、試料に照射される粒子線の光軸に対して直交する方向に支持部材を移動可能とする移動機構とを具備し、移動機構による支持部材の移動に伴って保持部材の移動及び傾斜の動作が行われ、これにより鏡筒の先端部への絞り部材の着脱が行われることを特徴とする。

本発明においては、鏡筒の先端部に着脱自在に設置される絞り部材と、絞り部材を一端側で保持する保持部材と、保持部材の他端側と連結して保持部材を傾斜可能に支持する支持部材と、試料に照射される粒子線の光軸に対して直交する方向に支持部材を移動可能とする移動機構とが設置され、移動機構による支持部材の移動に伴って保持部材の移動及び傾斜の動作が行われ、これにより鏡筒の先端部への絞り部材の着脱が行われる。

これにより、当該粒子線の光軸に対して直交する方向に支持部材を移動させるという１方向の動作のみによって、鏡筒の先端部への絞り部材の着脱を行うことができる。

従って、操作者は、手動による１方向の動作を行えば手動操作による絞り部材の着脱を実行することができ、作業性が簡易となって効率良く絞り部材の着脱を行うことができる。

また、駆動源による動作によって絞り部材の着脱を行う場合には、１方向に支持部材を移動させることのできる駆動源を設置すればよいので、低コストにて効率良く絞り部材の着脱を行うことができる。

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。図２は、本発明における粒子線装置の主要部を示す概略構成図である。同図において、試料室１の上部には、鏡筒１０が設けられている。試料室１の内部に接する鏡筒１０の先端部には、対物レンズ２が取付けられている。

試料室１内は真空排気され、低真空ＳＥＭとして使用されるときには、試料室１内部が真空排気された状態で、試料室１内に微小リークガスが供給される。鏡筒１０内部の空間１０ａは、別系統の真空排気系により真空排気される。

鏡筒１０の基端側（図２における上方側）には、図示しない電子源（電子銃）が配置されている。鏡筒１０内において、電子源（粒子線源）から放出された電子線（粒子線）は、鏡筒１０内部の空間１０ａ（対物レンズ２の貫通孔２ａを含む）を、同図の下方に向けて通過する。これにより、当該電子線は、鏡筒１０の先端から試料室１内部に放出される。なお、電子線が通過する鏡筒１０内部の空間１０ａは、鏡筒１０の先端において、試料室１内部と繋がっている。

試料室１内には、図示しない試料（低真空ＳＥＭ観察の対象とされた第１の試料）が配置されており、鏡筒１０の先端から放出された電子線は当該試料に照射される。このとき、当該電子線は、当該試料上を走査する、このようにして電子線が照射された試料からは、二次電子や反射電子等の被検出電子が発生する。当該被検出電子は、検出器（図示せず）により検出され、その検出結果に基づき試料像（走査像）が形成される。

図２に示す状態は、試料室１内に配置される試料がウエットサンプル等の場合に、試料室１内部を低真空状態として試料の観察・検査を行う際の装置の状態を示している。

同図において、保持部材６の先端側（一端側）には、中空構造の凸部からなる絞り載置部６ｂが保持されている。この絞り載置部６ｂ上には、環状の絞り５が載置されて固定されている。絞り載置部６ｂと絞り５により、本実施例の絞り部材が構成される。

このときの鏡筒１０の先端付近の拡大図を図３に示す。絞り５は、絞り載置部６ｂに載置された状態で、対物レンズ２の貫通孔２ａ内に配置されている。絞り５には、開口５ａが形成されており、開口５ａの中心は、絞り載置部６ｂに形成されている貫通孔の中心軸上に位置する。開口５ａの大きさは非常に小さく設定されており、絞り５は、高真空雰囲気となっている鏡筒１０の内部空間１０ａと、それよりも圧力が高い低真空雰囲気となっている試料室１の内部空間との圧力差を仕切っている。

保持部材６の先端側における絞り載置部６ｂの周囲部には円状に溝が形成されており、該溝内にＯリング６ａが配置されている。Ｏリング６ａは、図２の状態において、対物レンズ２の先端と接触する。これにより、保持部材６の当該周囲部と対物レンズ２の先端との間は、気密にシーリングされる。

保持部材６の基端側（他端側）の一部は、ピン７を介して支持部材８の先端部と連結している。支持部材８の先端部の両側には、それぞれ凸部８ａが設けられている。図では、一方（片側）に設けられた凸部８ａが示されている。双方（両側）の凸部８ａにはピン７が貫通する孔が形成されており、各凸部８ａ毎に個別に設けられたピン７がそれぞれ該孔を貫通するように設けられている。

また、保持部材６の当該一部の両側面には、ピン７と接触する凹部がそれぞれ形成されている。支持部材８の先端部の両側にそれぞれ配置されたピン７が当該凹部と接触することにより、保持部材６の基端部はピン７に挟まれることとなる。これにより、保持部材６の他端側は支持部材８の先端側に連結される。この結果、保持部材６は、支持部材８に対して傾斜可能に支持部材８に支持されることとなる。なお、保持部材６の当該一部に貫通孔を形成し、当該貫通孔及び支持部材８先端部の各孔を貫通する１本のピン７を配置するようにしてもよい。

さらに、保持部材６の基端部（他端部）と支持部材８との間には、板バネ９が介在されている。この板バネ９は、保持部材６の基端と支持部材８との間隙を広げるように作用する。図２及び図３に示す状態では、板バネ９は縮んだ状態となっている。

また、保持部材６における支持部材８との連結部（保持部材６の上記一部）の上面には、傾斜制御ブロック１８の先端部が接触している。傾斜制御ブロック１８の先端部には、保持部材６との接触面としての第１の面１８ａ及び第２の面１８ｂが形成されている。第１の面１８ａは、ほぼ水平面に沿う面とされており、第２の面は、水平面に対して所定の傾斜角度を有する傾斜面となっている。なお、傾斜制御ブロック１８の基端側は、対物レンズ２の側面に取付けられている。

図２及び図３に示す状態において、当該先端部における第１の面１８ａが、保持部材８の当該連結部と接触している。これにより、保持部材６の基端には板バネ９による外力が加わって、当該基端を上方に持ち上げる力が印加されているが、保持部材８の当該連結部の上面が上記第１の面１８ａと接触することにより押え付けられている。この結果、保持部材６の基端は下がって、保持部材６の先端は持ち上げられる。この結果、保持部材６の先端側にあるＯリング６ａは対物レンズ２の先端部に押し付けられて確実に密着する。

支持部材８の基端部は、エアシリンダ１３のシャフト１１の先端に取付けられている。シャフト１１及び支持部材８における両者の接合部分は、位置規制ブロック１２の上面に載置されている。位置規制ブロック１２は、試料室１の側壁内面に固定されている。

エアシリンダ１３は、Ｘ方向移動機構１６、Ｙ方向移動機構１５、及びＺ方向移動機構１４を介して、試料室１の側壁外面に取付けられている。エアシリンダ１３のシャフト１１は、試料室１の側壁に設けられた開口を気密に貫通している。

ここで、Ｘ方向移動機構１６は、図中の左右方向にエアシリンダ１３を移動させるものである。この左右方向は、エアシリンダ１３のシャフト１１が移動する方向に一致する。Ｙ方向移動機構１５は、図中の紙面に直交する方向にエアシリンダ１３を移動させるものである。Ｚ方向移動機構１４は、図中の上下方向にエアシリンダ１３を移動させるものである。当該上下方向は、垂直方向に一致する。

図２及び図３に示す状態では、鏡筒１０の内部空間１０ａと試料室１の内部空間は、開口５ａが形成された絞り５により仕切られている。絞り５は、差動排気の機能を備える。これにより、試料室１内部の雰囲気を、鏡筒１０内部の高真空とされた雰囲気よりも低真空状態とすることができる。この状態で、鏡筒１０の内部空間１０ａと通り、絞り５の開口５ａ及び絞り載置部６ｂの貫通孔を通過した電子線は、試料室１内部の図示しない試料に照射され、上述した試料像の取得が行われる。

このような低真空ＳＥＭとしての装置の使用から、通常のＳＥＭとしての使用に移行する場合について、以下に説明する。

低真空ＳＥＭでの観察対象とされた第１の試料を図示しない試料交換室に移送した後、試料室１と試料交換室との間のバルブを閉める。そして、試料室１の内部雰囲気を低真空状態とするために、試料室１内に供給していた微小リークガスの供給を停止する。このとき、試料室１内部の真空排気は停止しない。これにより、試料室１の内部雰囲気は、通常のＳＥＭ観察を行うことのできる所定の真空雰囲気となる。

また、試料交換室内においては、観察・検査対象の試料として、第１の試料から第２の試料への試料交換が行われる。第２の試料は、通常のＳＥＭによる観察・検査の対象とする。

その後、試料室１内部の真空排気を継続した状態で、図２及び図３に示す状態から、エアシリンダ１３の駆動により、エアシリンダ１３のシャフト１１を試料室１内部から引き抜く動作を実行する。当該動作により、シャフト１１が、試料室１内部からエアシリンダ１３が位置する方向に動いて図中の左方向に移動すると、図２の状態から、まず図４に示す状態となる。

図４に示す状態では、図２の状態からシャフト１１が図中の左方向に少し移動しており、これに伴って支持部材８及びこれに連結する保持部材６も当該左方向に移動している。これにより、保持部材６の当該連結部と傾斜制御ブロック１８の先端部との接触状態が変化する。

この状態を拡大した図を、図５に示す。図５に示すように、保持部材６と支持部材８とを連結するピン７の位置は、保持部材６及び支持部材８が図中左方向に移動することにより、傾斜制御ブロック１８に対して相対的に左側に移動している。この結果、傾斜制御ブロック１８先端の第１の面１８ａと保持部材６の当該連結部との接触が解除される。

また、保持部材６の基端には、板バネ９により上方に持ち上げられるような力が加えられている。これにより、保持部材６は、ピン７の位置を支点（中心）として、図中の時計回りの方向に向かって傾斜する。そして、保持部材６の先端側に位置する絞り載置部６ｂ及びこれに載置された絞り５は当該傾斜に伴って下降する。この結果、保持部材６先端側のＯリング６ａと対物レンズ２の先端部との接触が外れることとなる。

図４及び図５に示す状態から、シャフト１１の当該移動に伴い、支持部材８及び保持部材６がさらに左方向に移動した状態を図６及び図７に示す。図６及び図７に示す状態では、板バネ９の作用によって保持部材６がさらに傾斜しており、絞り載置部６ｂ及び絞り５は、対物レンズ２の貫通孔２ａ内から外れている。

図６及び図７に示す状態からさらにシャフト１１が移動すると、図８及び図９に示す状態となる。すなわち、シャフト１１の当該移動に伴って、支持部材８及び保持部材６が左方向に移動すると、これに伴って絞り載置部６ｂ及び絞り５は、対物レンズ２の下方において左側に移動することとなる。

そして、保持部材６の基端側の底面６ｃが位置規制ブロック１２と接触することにより、傾斜されていた保持部材６の先端側が跳ね上げられて、図８及び図９に示す状態となる。このとき、板バネ９は縮んだ状態となっており、保持部材６は、ほぼ水平方向に沿った状態となっている。この状態では、傾斜制御ブロック１８における保持部材６への接触部（傾斜制御ブロック１８の先端部）と鏡筒２の先端部との間に絞り載置部６ｂ及び絞り５が退避された状態となっている。この状態では、絞り５による差動排気は行われず、通常のＳＥＭによる試料観察が行われることとなる。

このような図８及び図９に示す状態では、絞り部材を構成する絞り載置部６ｂ及び絞り５は、対物レンズ２の貫通孔２ａから外れて退避されているので、試料室１内での試料の移動及び傾斜動作に支障が発生することを防止することができる。

上述のようにして、試料室１の内部の真空状態を維持したまま鏡筒１０の先端から絞り載置部６ｂ及び絞り５の取り外しが行われた後には、試料室１と試料交換室との間のバルブが開けられる。そして、通常のＳＥＭ観察の対象とされた第２の試料が試料室１内に導入される。

このようにして試料室１内部に配置された第２の試料に対して、鏡筒１０からの電子線の照射（走査）が行われ、その試料像（走査像）の取得が行われることとなる。

上記においては、低真空ＳＥＭ観察の状態から通常のＳＥＭ観察の状態へ移行する場合について説明した。これとは逆に、通常のＳＥＭ観察の状態から低真空ＳＥＭ観察の状態に移行する場合では、上述したエアシリンダ１３によるシャフト１１の移動動作を逆方向に行えばよい。この場合でも、試料室１の内部雰囲気は、真空状態のままで行うことができる。

また、上記においては、シャフト１１の移動動作は、駆動源としてのエアシリンダ１３により行われるものであった。しかしながら、このような駆動源を用いずに、手動操作により行うことも可能である。

例えば、シャフト１１の基端側（試料室１の外側に位置する端部）にレバーを設置し、操作者がこのレバーを手で操作して動かすようにしてもよい。この場合でも、操作者は、レバーを１方向（図中の左方向又は右方向）に移動すれば、絞り部材の着脱を簡単に行うことができ、作業性が良い。

なお、保持部材６の絞り載置部６ｂの下面側に検出器を配置する構成とすれば、上述した低真空ＳＥＭ観察の状態において、試料からの二次電子又は反射電子を該検出器により効率良く検出することもできる。

このように、本発明における粒子線装置は、粒子線源（電子銃）と粒子線源からの粒子線（電子線）を集束するレンズ（対物レンズ）２とを備え、該粒子線を先端から放出する鏡筒１０と、鏡筒１０の先端と連通する真空室（試料室）１とを有し、鏡筒１０から放出された粒子線を真空室１内に配置された試料に照射する粒子線装置において、鏡筒１０の先端部に着脱自在に設置される絞り部材（絞り５及び絞り載置部６ｂ）と、絞り部材を一端側で保持する保持部材６と、保持部材６と連結して保持部材６を傾斜可能に支持する支持部材８と、試料に照射される粒子線の光軸に対して直交する方向に支持部材８を移動可能とする移動機構（シャフト）１１とを具備し、移動機構１１による支持部材８の移動に伴って保持部材６の移動及び傾斜の動作が行われ、これにより鏡筒１０の先端部への絞り部材の着脱が行われる。

さらに、支持部材８の移動に伴う保持部材６の移動の際に、保持部材６と支持部材８との連結部において保持部材６と接触することにより、保持部材６の傾斜動作を制御する傾斜制御ブロック１８が設けられている。ここで、傾斜制御ブロック１８は、鏡筒１０に取付けられている。

そして、支持部材８の移動に伴って、絞り部材が鏡筒１０の先端部から外された後の保持部材６と接することにより、傾斜制御ブロック１８の保持部材６への接触部と鏡筒１０の先端部との間に絞り部材を退避させることのできる位置規制ブロック１２が備えられている。

また、保持部材６の他端部と支持部材８との間には、該他端部と支持部材８との間隙を広げるように作用する板バネ９が介在されている。移動機構１１は、エアシリンダからなるようにすることができる。

さらに、粒子線の光軸に沿う軸をＺ軸としたときに、該Ｚ軸とこのＺ軸に対して直交するとともに互いに直交するＸ軸及びＹ軸の各軸方向に沿って移動機構の位置調整を行うことのできる位置調整機構１４，１５，１６が具備されている。

ここで、絞り部材は、差動排気の機能を備え、鏡筒１０内雰囲気と真空室１内雰囲気との圧力差を仕切るためのものである。

本発明においては、このような構成により、移動機構１１の水平方向（図中の左右方向）での移動により、鏡筒１０先端からの絞り部材の着脱が可能となり、絞り部材の着脱作業が容易となる。

また、絞り部材の着脱作業の際に、真空室１内部を大気圧に復帰する必要がないので、真空室１内を大気圧復帰のためにリークすることなく当該着脱作業を行うことができる。これにより、短時間で当該作業を行うことができ、作業効率が向上する。

従来技術の低真空ＳＥＭの要部を示す図である。 本発明における粒子線装置の要部を示す図である。 図２の要部の拡大図である。 本発明における粒子線装置の要部を示す図である。 図４の要部の拡大図である。 本発明における粒子線装置の要部を示す図である。 図６の要部の拡大図である。 本発明における粒子線装置の要部を示す図である。 図８の要部の拡大図である。

符号の説明

１…試料室（真空室）、２…対物レンズ、３，５…絞り、６…保持部材、６ａ…Ｏリング、６ｂ…絞り載置部、７…ピン、８…支持部材、９…板バネ、１０…鏡筒、１１…シャフト、１２…位置規制ブロック、１３…エアシリンダ、１４…Ｚ方向移動機構、１５…Ｙ方向移動機構、１６…Ｘ方向移動機構、１８…傾斜制御ブロック

Claims (10)

1. 粒子線源と粒子線源からの粒子線を集束するレンズとを備え、該粒子線を先端から放出する鏡筒と、鏡筒の先端と連通する真空室とを有し、鏡筒から放出された粒子線を真空室内に配置された試料に照射する粒子線装置において、鏡筒の先端部に着脱自在に設置される絞り部材と、絞り部材を一端側で保持する保持部材と、保持部材と連結して保持部材を傾斜可能に支持する支持部材と、試料に照射される粒子線の光軸に対して直交する方向に支持部材を移動可能とする移動機構とを具備し、移動機構による支持部材の移動に伴って保持部材の移動及び傾斜の動作が行われ、これにより鏡筒の先端部への絞り部材の着脱が行われることを特徴とする粒子線装置。
2. 支持部材の移動に伴う保持部材の移動の際に、保持部材と支持部材との連結部において保持部材と接触することにより、保持部材の傾斜動作を制御する傾斜制御ブロックを備えることを特徴とする請求項１記載の粒子線装置。
3. 傾斜制御ブロックは、鏡筒に取付けられていることを特徴とする請求項２記載の粒子線装置。
4. 支持部材の移動に伴って、絞り部材が鏡筒の先端部から外された後の保持部材と接することにより、傾斜制御ブロックの保持部材への接触部と鏡筒の先端部との間に絞り部材を退避させることのできる位置規制ブロックを備えることを特徴とする請求項２又は３記載の粒子線装置。
5. 保持部材の他端部と支持部材との間には、該他端部と支持部材との間隙を広げるように作用する板バネが介在されていることを特徴とする請求項１乃至４何れか記載の粒子線装置。
6. 移動機構は、エアシリンダからなることを特徴とする請求項１乃至５何れか記載の粒子線装置。
7. 粒子線の光軸に沿う軸をＺ軸としたときに、該Ｚ軸とこのＺ軸に対して直交するとともに互いに直交するＸ軸及びＹ軸の各軸方向に沿って移動機構の位置調整を行うことのできる位置調整機構を備えることを特徴とする請求項１乃至６何れか記載の粒子線装置。
8. 絞り部材は、鏡筒内雰囲気と真空室内雰囲気との圧力差を仕切るためのものであることを特徴とする請求項１乃至７何れか記載の粒子線装置。
9. 鏡筒から放出されて試料に照射される粒子線は、電子線であることを特徴とする請求項１乃至８何れか記載の粒子線装置。
10. 電子線により試料上を走査し、該走査に基づく走査像を取得することを特徴とする請求項９記載の粒子線装置。

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