JP2010014427A - 測定機 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表面性状測定機1は、被測定物Wに当接する接触子41Aと、被測定物Wの表面に倣って接触子41Aを移動させるセンサ駆動機構43と、センサ駆動機構43を制御する制御装置3と、被測定物Wに当接することで接触子41Aにかかる測定力を検出する力センサ41とを備える。制御装置3は、測定力の目標値を出力する目標値出力部31と、目標値に対する測定力の偏差に基づいて、センサ駆動機構43をフィードバック制御するフィードバック制御部32と、フィードバック制御部32に設けられるフィードバック補償器322とを備える。フィードバック補償器322は、測定力に応じてフィードバック補償する。
【選択図】図2
Description
特許文献1に記載の三次元測定装置は、プローブ(接触子)と、相対移動機構(移動機構)と、制御装置と、被測定物に当接することでプローブにかかる測定力を検出する力センサ(測定力検出手段)とを備えている。そして、制御装置は、所定の目標測定力(目標値)に対する測定力の偏差に基づいて、相対移動機構をフィードバック制御することによって、プローブにかかる測定力を略一定とした状態で被測定物の表面に倣ってプローブを移動させて被測定物の表面性状を測定している。
これに対して、特許文献1に記載の三次元測定装置では、フィードバック制御部を直列補償する力制御補償器を備えているので、力制御補償器の補償要素を大きくすることによって、フィードバック制御部の高速応答性を向上させることができる。
しかしながら、フィードバック制御部の応答特性は、力制御補償器の補償要素の他、フィードバック制御部を構成する力センサや、相対移動機構等の応答特性によって定まるので、力制御補償器の補償要素を際限なく大きくするとフィードバック制御部の安定性を損なう場合があるという問題がある。
これによれば、フィードバック制御部に高速応答性が要求されるような場合であっても測定に際して被測定物から接触子を離間させにくくすることができる。したがって、測定機は、フィードバック制御部の安定性を損なうことなく、高速応答性を向上させることができる。
以下、本発明の第1実施形態を図面に基づいて説明する。
〔表面性状測定機の全体構成〕
図1は、本発明の第1実施形態に係る表面性状測定機1の正面図である。図2は、表面性状測定機1の概略構成を示すブロック図である。なお、図1、及び図2では、紙面の上方向を+Z軸方向とし、Z軸に直交する2軸をそれぞれX軸(紙面と平行な軸)、及びY軸(紙面と直交する軸)として説明する。以下の図面においても同様である。
測定機としての表面性状測定機1は、図1に示すように、測定機本体2と、測定機本体2を制御する制御装置3(図2参照)とを備える。なお、制御装置3については後に詳述する。
スライダ24は、スライダ24をX軸方向に沿って移動させるスライダ駆動機構(図示略)を備え、X軸方向に沿って移動可能に設けられている。
アーム部25は、スライダ24の内部をZ軸方向に沿って移動させるアーム駆動機構(図示略)を備え、Z軸方向に沿って移動可能に設けられている。
プローブ本体40は、図2に示すように、接触子41Aを保持する力センサ41と、力センサ41を取り付けるためのセンサ取付部42と、センサ取付部42のX軸方向両側に設けられ、センサ取付部42、すなわち接触子41Aを移動させるセンサ駆動機構43と、センサ取付部42の+Z軸方向側に設けられ、力センサ41(接触子41A)のZ軸方向の位置を検出するセンサ位置検出機構44と、ケース4A(図1参照)の内部に設けられ、センサ駆動機構43、及びセンサ位置検出機構44を支持する一対の支持部45とを備える。
移動機構としてのセンサ駆動機構43は、センサ取付部42をZ軸方向に沿って案内する案内機構431と、センサ取付部42を微細移動させるアクチュエータ432とを備える。
センサ位置検出機構44は、センサ取付部42の+Z軸方向側に立設されるZ軸スケール441と、Z軸スケール441の値を読み取ることで力センサ41のZ軸方向の位置を検出するZ軸スケール検出器442とを備える。Z軸スケール検出器442にて検出された力センサ41の位置は、制御装置3に出力される。
ステージ位置検出機構27は、前述したセンサ位置検出機構44と同様の構成を有し、XYステージ22のX軸方向の位置を検出するX軸スケール271、及びX軸スケール検出器272と、Y軸方向の位置を検出するY軸スケール(図示略)、及びY軸スケール検出器(図示略)とを備える。X軸スケール検出器272、及びY軸スケール検出器にて検出されたXYステージ22の位置は、制御装置3に出力される。
そして、表面性状測定機1は、X軸スケール検出器272、及びY軸スケール検出器にて検出されたXYステージ22の位置と、Z軸スケール検出器442にて検出された力センサ41の位置とに基づいて、すなわち接触子41Aの位置に基づいて、被測定物Wの表面性状を測定する。
制御装置3は、例えば、CPU(Central Processing Unit)や、メモリ等を備えて構成され、センサ駆動機構43を含む測定機本体2全体を制御するものである。なお、本実施形態では、接触子41Aを被測定物Wの表面に倣って移動させるための制御系について主に説明し、その他の説明を省略する。
制御装置3は、図2に示すように、力センサ41から出力される測定力の目標値を出力する目標値出力部31と、目標値に対する測定力の偏差に基づいて、アクチュエータ432をフィードバック制御するフィードバック制御部32とを備える。
フィードバック補償器322は、力センサ41から出力される測定力に応じてフィードバック補償する。
そして、ステップS1において、測定力が目標値より大きいと判定されたときには、ステップS2を実行し、補償測定力を算出して出力する。
また、ステップS1において、測定力が目標値以下と判定されたときには、ステップS3を実行し、補償測定力を算出して出力する。
フィードバック補償器322にて測定力が目標値R以下と判定されたときには(図4,5中矢印B方向)、フィードバック補償器322は、前述したようにステップS3を実行し、補償測定力を算出するので、補償測定力は、図4に示すように、フィードバック補償器322を備えていない場合と比較して小さくなる。したがって、偏差は、図5に示すように、フィードバック補償器322を備えていない場合と比較して大きくなる。
(1)制御装置3は、フィードバック補償器322を備え、フィードバック補償器322は、測定力に応じてフィードバック補償するので、測定に際して被測定物Wから接触子41Aが離間しにくくなるように、補償測定力を調整することができる。そして、制御装置3は、目標値出力部31から出力される目標値Rに対する補償測定力の偏差に基づいて、アクチュエータ432をフィードバック制御するフィードバック制御部32を備えるので、フィードバック制御部32に高速応答性が要求されるような場合であっても測定に際して被測定物Wから接触子41Aを離間させにくくすることができる。したがって、表面性状測定機1は、フィードバック制御部32の安定性を損なうことなく、高速応答性を向上させることができ、測定精度を向上させることができる。
(3)フィードバック補償器322は、力センサ41にて検出される測定力が目標値Rより大きいときには、目標値Rに対する補償測定力の偏差が小さくなるようにフィードバック補償するので、アクチュエータ432は、力センサ41にて検出される測定力が小さくなるように制御される。したがって、被測定物Wの形状変化によって接触子41Aが急激に跳ね上げられるような状況においても、過大な測定力の変化が生じ難くなり、被測定物Wから離れる方向への過大な制御指令が生じないため、被測定物Wから接触子41Aを離間させにくくすることができる。
以下、本発明の第2実施形態を図面に基づいて説明する。
図6は、測定力と、補償測定力との関係を示す図である。図7は、測定力と、目標値に対する測定力の偏差との関係を示す図である。
前記第1実施形態では、補正係数C1,C2は、それぞれ2に設定されていた。これに対して、本実施形態では、補正係数C1は、1に設定され、補正係数C2は、2に設定されている点で異なる。
なお、以下の説明では、既に説明した部分については、同一符号を付してその説明を省略する。
フィードバック補償器322にて測定力が目標値R以下と判定されたときには(図6,7中矢印B方向)、フィードバック補償器322は、前述したようにステップS3を実行し、補償測定力を算出するので、補償測定力は、図6に示すように、フィードバック補償器322を備えていない場合と比較して小さくなる。したがって、偏差は、図7に示すように、フィードバック補償器322を備えていない場合と比較して大きくなる。
なお、本発明は前記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
前記各実施形態では、測定機として表面性状測定機1を例示したが、例えば、三次元測定機等であってもよい。要するに、被測定物に当接する接触子を備える測定機であれば本発明を好適に利用することができる。
3…制御装置
31…目標値出力部
32…フィードバック制御部
41…力センサ(測定力検出手段)
41A…接触子
43…センサ駆動機構(移動機構)
322…フィードバック補償器。
Claims (3)
- 被測定物に当接する接触子と、前記被測定物の表面に倣って前記接触子を移動させる移動機構と、前記移動機構を制御する制御装置とを備える測定機であって、
前記被測定物に当接することで前記接触子にかかる測定力を検出する測定力検出手段を備え、
前記制御装置は、
前記測定力の目標値を出力する目標値出力部と、
前記目標値に対する前記測定力の偏差に基づいて、前記移動機構をフィードバック制御するフィードバック制御部と、
前記フィードバック制御部に設けられるフィードバック補償器とを備え、
前記フィードバック補償器は、前記測定力に応じてフィードバック補償することを特徴とする測定機。 - 請求項1に記載の測定機において、
前記フィードバック補償器は、前記目標値、及び前記測定力を比較し、前記測定力が前記目標値以下のときには、前記偏差が大きくなるようにフィードバック補償することを特徴とする測定機。 - 請求項2に記載の測定機において、
前記フィードバック補償器は、前記測定力が前記目標値より大きいときには、前記偏差が小さくなるようにフィードバック補償することを特徴とする測定機。
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