JP2010013689A - エッチング液、選択的エッチング方法及びこれを用いた配線板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】過マンガン酸塩と酢酸を含む酸性溶液からなり、銅合金又は銅単体を溶解することなく、Ni合金、Cr合金、Ni−Cr合金或いはCr単体を選択的に溶解するエッチング液で、0.05〜10重量%の過マンガン酸塩、0.05〜20重量%の酢酸を含有する酸性溶液で、導電性の銅配線を備える配線板のエッチング工程で用いられるものである。
【選択図】 なし
Description
この2層フレキシブル基板を作製するには、絶縁体フィルム上に均一な厚さの銅被覆層を形成する手段として、通常、電気銅めっき法が採用される。そして、電気銅めっきを行うために、電気銅めっき被膜を施す絶縁体フィルムの上に薄膜の金属層を形成して表面全面に導電性を付与し、その上に電気銅めっき処理を行うのが一般的である(例えば、特許文献1参照)。また、絶縁体フィルム上に薄膜の金属層を得るためには、真空蒸着法、イオンプレーティング法などの乾式めっき法を使用するのが一般的である。
しかしながら、上記2層めっき基板を上記エッチング液を用いてエッチングを行った際にNi−Cr合金等の下地金属層のエッチング残りが生じている場合、上記恒温恒湿バイアス試験(HHBT)を行うと、隣接する銅配線がNi−Cr合金層のエッチング残りのマイグレーションにより短絡してしまうことがあり、高い絶縁抵抗が得られずに不良品になってしまう、という問題を生じていた。
先ず、本発明に係るエッチング液及び、このエッチング液を用いた選択的エッチング方法は、絶縁体フィルム上に接着剤を用いることなしに乾式めっき法または湿式めっき法による下地金属層としてのNi−Cr合金層及び導体層となる銅被膜層を直接形成した2層フレキシブル基板に代表される、Ni合金、Cr合金、Ni−Cr合金、Cr単体と、銅、銅合金とが混在する材料系において、Ni合金、Cr合金、Ni−Cr合金、Cr単体を選択的にエッチングするものである。
エッチング液の処理時間は、30秒から5分が好ましく、30秒よりも短いと、下地金属層の溶け残りを除去するのに不十分であり、5分より長くても効果が変わらないためである。
尚、エッチング処理方法は、スプレー法、浸漬法の何れでも可能である。
表1の実施例1〜5、比較例1〜5は、本発明に係るエッチング液の成分組成による溶解特性の効果を示すもので、ポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製、フィルム厚さ50μm)に20重量%Cr−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山製)を用い、直流スパッタリング法(スパッタリング装置:ヒラノ光音(株)製)により、厚み20〜30nmの範囲でNi−Cr合金膜を形成したものである。
更に、銅膜はポリイミドフィルムに直流スパッタリング法により、厚み100〜120nmの範囲で形成したものである。
得られた試料のNi−Cr合金膜の溶解程度を目視観察した。この結果を表1に示す。
又、「○溶解有り」としたフィルム表面の残金属成分を定量的に分析するために、各試料をマイクロウェーブ分解装置を用いて、硝酸5mlと過酸化水素1mlの混合溶液で溶解し、得られた各溶解液中の金属成分を、誘導結合プラズマイオン源質量分析装置により定量分析した。Cr及びNiの残留量を表1に示す。
銅膜は溶解されないことが望ましいことから、銅膜の変化がほとんどなかった場合は「○溶解無し」とし、銅膜の溶解があった場合は「×溶解有り」とした。その結果を表1に併せて示す。
尚、目視観察による評価は、実施例1、比較例1、3について、各エッチング液中に浸漬後の膜の状態を撮影した写真の図1から溶解の有無は目視で観察できることがわかる。
〔実施例6〕
ポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製、フィルム厚さ50μm)を12cm×12cmの大きさに切り出し、その片面に7重量%Cr−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山製)を用い、直流スパッタリング法により(スパッタリング装置:ヒラノ光音(株)製)厚さ20〜30nmの範囲で7重量%Cr−Ni合金膜を形成した。得られた合金膜を形成したポリイミドフィルムから50mm×50mmの試料を切り出し、過マンガン酸カリウムを1重量%、酢酸を5重量%の濃度で作製したエッチング液を40℃に加温し、試料を2分間浸漬して合金膜の溶解程度を目視観察したところ、合金膜の溶解が観察された。
実施例6と同様の方法で、30重量%Cr−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山製)を用い、直流スパッタリング法により30重量%Cr−Ni合金膜を形成した。得られた合金膜を形成したポリイミドフィルムから50mm×50mmの試料を切り出し、過マンガン酸カリウムを1重量%、酢酸を5重量%の濃度で作製したエッチング液を40℃に加温し、試料を2分間浸漬して合金膜の溶解程度を目視観察したところ、合金膜の溶解が観察された。
実施例6と同様の方法で、40重量%Cr−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山製)を用い、直流スパッタリング法により40重量%Cr−Ni合金膜を形成した。得られた合金膜を形成したポリイミドフィルムから50mm×50mmの試料を切り出し、過マンガン酸カリウムを1重量%、酢酸を5重量%の濃度で作製したエッチング液を40℃に加温し、評価試料を2分間浸漬して合金膜の溶解程度を目視観察したところ、合金膜の溶解が観察された。
実施例6と同様の方法で、100重量%Crターゲット(住友金属鉱山製)を用い、直流スパッタリング法により100重量%Cr金属膜を形成した。得られた金属膜を形成したポリイミドフィルムから50mm×50mmの評価試料を切り出し、過マンガン酸カリウムを1重量%、酢酸を5重量%の濃度で作製したエッチング液を40℃に加温し、試料を2分間浸漬して合金膜の溶解程度を目視観察したところ、合金膜の溶解が観察された。
実施例6と同様の方法で、4重量%Cr−20重量%Mo−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山製)を用い、直流スパッタリング法により4重量%Cr−20重量%Mo−Ni合金膜を形成した。得られた合金膜を形成したポリイミドフィルムから50mm×50mmの試料を切り出し、過マンガン酸カリウムを1重量%、酢酸を5重量%の濃度で作製したエッチング液を40℃に加温し、試料を2分間浸漬して合金膜の溶解程度を目視観察したところ、合金膜の溶解が観察された。
実施例6と同様の方法で、4重量%V−20重量%Mo−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山製)を用い、直流スパッタリング法により4重量%V−20重量%Mo−Ni合金金属膜を形成した。得られた合金膜が形成されたポリイミドフィルムから50mm×50mmの評価試料を切り出した。過マンガン酸カリウムを1重量%、酢酸を5重量%で作製した水溶液を40℃に加温し、評価試料を2分間浸漬して目視で合金膜の溶解の程度を確認したところ、合金膜の溶解が認められた。
実施例6と同様の方法で、16.5重量%Cr−17重量%Mo−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山製)を用い、直流スパッタリング法により16.5重量%Cr−17重量%Mo−Ni合金金属膜を形成した。得られた合金膜が形成されたポリイミドフィルムから50mm×50mmの評価試料を切り出した。過マンガン酸カリウムを1重量%、酢酸を5重量%で作製した水溶液を40℃に加温し、評価試料を2分間浸漬して目視で合金膜の溶解の程度を確認したところ、合金膜の溶解が認められた。
実施例6と同様の方法で、16.5重量%Cr−17重量%Mo−5重量%Fe−4.5重量%W−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山製)を用い、直流スパッタリング法により16.5重量%Cr−17重量%Mo−Ni合金金属膜を形成した。得られた合金膜が形成されたポリイミドフィルムから50mm×50mmの評価試料を切り出した。過マンガン酸カリウムを1重量%、酢酸を5重量%で作製した水溶液を40℃に加温し、評価試料を2分間浸漬して目視で合金膜の溶解の程度を確認したところ、合金膜の溶解が認められた。
実施例6と同様の方法で、22重量%Cr−6.5重量%Mo−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山製)を用い、直流スパッタリング法により22重量%Cr−6.5重量%Mo−Ni合金金属膜を形成した。得られた合金膜が形成されたポリイミドフィルムから50mm×50mmの評価試料を切り出した。過マンガン酸カリウムを1重量%、酢酸を5重量%で作製した水溶液を40℃に加温し、評価試料を2分間浸漬して目視で合金膜の溶解の程度を確認したところ、合金膜の溶解が認められた。
実施例6と同様の方法で、22重量%Cr−6.5重量%Mo−16重量%Fe−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山製)を用い、直流スパッタリング法により22重量%Cr−6.5重量%Mo−16重量%Fe−Ni合金金属膜を形成した。得られた合金膜が形成されたポリイミドフィルムから50mm×50mmの評価試料を切り出した。過マンガン酸カリウムを1重量%、酢酸を5重量%で作製した水溶液を40℃に加温し、評価試料を2分間浸漬して目視で合金膜の溶解の程度を確認したところ、合金膜の溶解が認められた。
実施例6と同様の方法で、7重量%Ti−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山製)を用い、直流スパッタリング法により7重量%Ti−Ni合金金属膜を形成した。得られた合金膜が形成されたポリイミドフィルムから50mm×50mmの評価試料を切り出した。過マンガン酸カリウムを1重量%、酢酸を5重量%で作製した水溶液を40℃に加温し、評価試料を2分間浸漬して目視で合金膜の溶解の程度を確認したところ、合金膜の溶解が認められた。
更に、本発明のエッチング液を用いた実施例6〜16では、Cr含有量の異なるNi−Cr合金、或いは、Cr金属でも溶解することができ、さらに耐塩素性の優れるハステロイ合金についての溶解も認められた。また、Ti−Ni合金についても溶解が認められた。
実施例6〜16で用いたエッチング液は、実施例1と同じエッチング液であり、表1からわかるように銅膜の溶解は認められなかった。
フレキシブル配線板の作製は、先ず、脱水処理を施した耐熱性に優れるポリイミド系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリテトラフルオロエチレン系フィルム、ポリフェニレンサルファイド系フィルム、ポリエチレンナフタレート系フィルム、液晶ポリマー系フィルムなどの絶縁体フィルムの少なくとも片面に、接着剤を介さずに乾式めっき法などで直接、Cr合金、Ni合金、Ni−Cr合金、Cr単体のいずれか1種以上の金属Aで構成される下地金属層を形成し、その下地金属層上に所望の厚みの銅被膜層を形成し、その基礎を成す2層フレキシブル基板を作製する。
尚、この絶縁体フィルムは、2層フレキシブル基板におけるもので、電磁波シールド、抵抗膜、ブラックストライプ膜では、無機材料であれば公知のソーダライムガラス、低アルカリガラス、公知のアルミナやPLZT等のセラミック、琺瑯のほか、シリコン等半導体材料、絶縁樹脂材料であれば上述の熱硬化性樹脂やエポキシ樹脂、フェノール樹脂等その用途に応じて適宜選択されるものである。
Claims (11)
- 過マンガン酸塩と酢酸を含む酸性溶液からなり、銅合金又は銅単体を溶解することなく、Ni合金、Cr合金、Ni−Cr合金或いはCr単体を選択的に溶解することを特徴とするエッチング液。
- 過マンガン酸塩と酢酸を含む酸性溶液からなり、95wt%以上の銅からなる銅合金、銅単体のいずれか1種以上からなる金属Bを溶解することなく、Ni合金、Cr合金、Ni−Cr合金、Cr単体のいずれか1種以上からなる金属Aを選択的に溶解する、前記金属Aと前記金属Bとを含む構成体のエッチング処理に用いられることを特徴とするエッチング液。
- 前記エッチング液が、0.05〜10重量%の過マンガン酸塩、0.05〜20重量%の酢酸を含有する酸性溶液であることを特徴とする請求項1又は2に記載のエッチング液。
- 前記エッチング液が、導電性の銅配線を備える配線板のエッチング工程で用いられることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のエッチング液。
- 前記構成物が、前記金属Aを下地金属層として、その上層に前記金属Bを導電層として備える配線板であることを特徴とする請求項2乃至4のいずれかに記載のエッチング液。
- 0.05〜10重量%の過マンガン酸塩と、0.05〜20重量%の酢酸とを含む酸性溶液による、銅又は95wt%以上の銅を含む銅合金を溶解することなく、Ni合金、Cr合金、Ni−Cr合金、或いはCr単体を選択的に溶解することを特徴とする選択的エッチング方法。
- 前記過マンガン酸塩と酢酸を含む酸性溶液によるエッチング処理後に、マンガン残渣除去液によるマンガン化合物の除去を行なうことを特徴とする請求項6に記載の選択的エッチング方法。
- 前記Ni−Cr合金或いはCr合金が、14wt%以上のCrを含んでいることを特徴とする請求項6又は7記載の選択的エッチング方法。
- 前記Ni合金、Ni−Cr合金或いはCr合金が、更にCu、Mo、Ta、Ti、V、Fe、Co、Wから選ばれる1種の以上の元素を0.1〜40wt%含む合金であることを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項に記載の選択的エッチング方法。
- 導電性を有する銅配線を備える配線板の製造方法において、
請求項6乃至9に記載のいずれか1項の選択的エッチング方法が用いられることを特徴とする配線板の製造方法。 - 導電性を有する銅配線の形成後に、請求項6乃至9に記載のいずれか1項の選択的エッチング方法によるエッチング処理が行なわれることを特徴とする請求項10記載の配線板の製造方法。
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