JP2008028150A - プリント配線基板の製造方法及び得られるプリント配線基板 - Google Patents
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Abstract
【課題】下地金属層にNi−Cr−Mo合金を用いた2層フレキシブル基板において、安価でかつ簡単な工程で銅層のサイドエッチングなしに配線間のNi−Cr−Mo合金の溶け残りを除去でき、しかも高い絶縁信頼性を備えたプリント配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るプリント配線基板の製造方法は、絶縁体フィルムの少なくとも片面に、主にクロム、モリブデン、ニッケルからなる下地金属層を接着剤を介さずに直接形成し、次いで該下地金属層上に銅被膜層を形成した2層フレキシブル基板に対し、エッチング法によりパターン形成するプリント配線基板の製造方法であって、前記エッチング法が、前記2層フレキシブル基板に対し、(A)塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液によりエッチング処理する工程と、次いで(B)塩酸を含む酸性エッチング液により処理する工程と、更に(C)フェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩を含むアルカリ性エッチング液により処理する工程と、からなることを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】本発明に係るプリント配線基板の製造方法は、絶縁体フィルムの少なくとも片面に、主にクロム、モリブデン、ニッケルからなる下地金属層を接着剤を介さずに直接形成し、次いで該下地金属層上に銅被膜層を形成した2層フレキシブル基板に対し、エッチング法によりパターン形成するプリント配線基板の製造方法であって、前記エッチング法が、前記2層フレキシブル基板に対し、(A)塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液によりエッチング処理する工程と、次いで(B)塩酸を含む酸性エッチング液により処理する工程と、更に(C)フェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩を含むアルカリ性エッチング液により処理する工程と、からなることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、フレキシブルプリント基板、TABテープ、COFテープ等の電子部品の素材となるプリント配線基板の製造方法と得られるプリント配線基板に関するものである。
一般に、フレキシブル配線板を作製するために用いられる基板は、絶縁体フィルム上に接着剤を用いて導体層となる銅箔を貼り合わせた3層フレキシブル基板(例えば、特許文献1参照)と、該絶縁体フィルム上に接着剤を用いることなしに乾式めっき法または湿式めっき法により導体層となる銅被膜層を直接形成した2層フレキシブル基板とに大別される。
また、近年の電子機器の高密度化に伴い、配線幅も狭ピッチ化した配線板が求められるようになってきており、ここで、上記3層フレキシブル基板の製造にあっては、基板である絶縁体フィルム上に形成した銅被膜層に所望の配線パターンに従ってエッチングして配線部の形成を行って配線板を製造する場合に、配線部の側面がエッチングされるといういわゆるサイドエッチングが生ずるために配線部の断面形状が裾広がりの台形になり易いという欠点がある。
このため、かかる要求を満たすために、従来の貼り合わせ銅箔(3層フレキシブル基板)の代わりに、2層フレキシブル基板が現在主流になりつつある。
このため、かかる要求を満たすために、従来の貼り合わせ銅箔(3層フレキシブル基板)の代わりに、2層フレキシブル基板が現在主流になりつつある。
かかる2層フレキシブル基板を作製するには、絶縁体フィルム上に均一な厚さの銅導体層を形成する手段として、通常は、電気銅めっき法が採用される。電気銅めっきを行うために、電気銅めっき被膜を施す絶縁体フィルムの上に薄膜の金属層を形成して表面全面に導電性を付与し、その上に電気銅めっき処理を行うのが一般的である(例えば、特許文献2参照)。また、絶縁体フィルム上に薄膜の金属層を得るためには、真空蒸着法、イオンプレーティング法などの乾式めっき法を使用するのが一般的である。
こうした中で、絶縁体フィルムと銅導体層との密着性は、その界面にCuOやCu2O等の脆弱層が形成されるために非常に弱く、プリント配線板に要求される銅層との密着強度を維持するため、絶縁体フィルムと銅導体層との間に下地金属層として、Ni−Cr合金層を設けることが行われている(特許文献3参照)。
しかしながら、最近のフレキシブル基板においては、配線パターンの更なる高密度化、また、他方では高電圧での使用が要求されている。
この結果、プリント配線基板で絶縁信頼性が重要になってきており、この特性の指標として、恒温恒湿バイアス試験(HHBT)等が実施されている。
下地金属層としてNi−Cr合金層を設けた2層フレキシブル基板を用いて、例えば、85℃−85%R.H.の恒温恒湿槽内で、電圧40VでのHHBTを行った場合、配線ピッチ30μmでは所定の絶縁抵抗値に対し、1000時間以上の絶縁信頼性を確保できるのに対し、サブトラクティブ法で配線ピッチを30μmより狭ピッチに加工した場合には、絶縁信頼性を1000時間以上保持することができないというのが実状であった。
この結果、プリント配線基板で絶縁信頼性が重要になってきており、この特性の指標として、恒温恒湿バイアス試験(HHBT)等が実施されている。
下地金属層としてNi−Cr合金層を設けた2層フレキシブル基板を用いて、例えば、85℃−85%R.H.の恒温恒湿槽内で、電圧40VでのHHBTを行った場合、配線ピッチ30μmでは所定の絶縁抵抗値に対し、1000時間以上の絶縁信頼性を確保できるのに対し、サブトラクティブ法で配線ピッチを30μmより狭ピッチに加工した場合には、絶縁信頼性を1000時間以上保持することができないというのが実状であった。
このような状況下、2層フレキシブル基板の改良も行われており、例えば、特許文献4では、上記特性の改善のため、下地金属層にNi−Cr−Mo合金を設けた2層フレキシブル基板を提案している。該2層フレキシブル基板によれば、該下地金属層にクロムが含まれていることから、耐熱ピール強度の低下を防止することができ、また、同時にモリブデンが含まれていることから、耐食性、絶縁信頼性が向上することができる。該2層フレキシブル基板を用いることによって、密着性、耐食性が高く、欠陥のない配線部を有する信頼性の高い狭幅、狭ピッチの配線部を持ったフレキシブル配線板を効率よく得ることができるので、その効果は極めて大きい。
しかしながら、上記下地金属層にNi−Cr−Mo合金を設けた2層フレキシブル基板にサブトラクティブ法で狭ピッチ配線を形成してみると、下地金属層としてNi−Cr合金層を用いた基板よりも下地金属層のエッチングスピードが遅く、下地金属層が銅配線とエッチングされた絶縁フィルムとの間に帯状に残る傾向がある。この様に狭ピッチでの配線加工で配線間に金属成分が残ることは、絶縁信頼性が悪くなるばかりでなく、配線加工上の不具合にも繋がってしまうという問題があった。
ここで、通常、2層めっき基板をサブトラクティブ法により配線パターンを形成するには、エッチング液として、例えば、塩化第二鉄(FeCl3)を水に溶解した塩化第二鉄溶液や、塩化第二銅(CuCl2・2H2O)を水に溶解し、適量の塩酸を加えた塩化第二銅溶液を使用してエッチングすることが提案されており、また、特許文献5では、上記エッチング液により配線を形成後、過マンガン酸カリウム溶液等の酸化剤を用いて洗浄することで、銅配線のサイドエッチングを抑えて配線間に残留する金属成分を除去する方法が提案されている。更に、特許文献6では、塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液でエッチング処理後、塩酸を含む酸性エッチング液、過マンガン酸カリウム溶液等のアルカリ性エッチング液の1種又は2種以上を併用して処理することにより、Ni−Cr合金のエッチング残りを溶解することが提案されている。この場合、銅配線のサイドエッチングの少ない方法でNi−Cr合金のエッチング残りを除去することは可能である。
特開平6−132628号公報
特開平8−139448号公報
特開平6−120630号公報
国際公開WO2006−25240号公報
特開2003−188495号公報
特開2005−23340号公報
ここで、通常、2層めっき基板をサブトラクティブ法により配線パターンを形成するには、エッチング液として、例えば、塩化第二鉄(FeCl3)を水に溶解した塩化第二鉄溶液や、塩化第二銅(CuCl2・2H2O)を水に溶解し、適量の塩酸を加えた塩化第二銅溶液を使用してエッチングすることが提案されており、また、特許文献5では、上記エッチング液により配線を形成後、過マンガン酸カリウム溶液等の酸化剤を用いて洗浄することで、銅配線のサイドエッチングを抑えて配線間に残留する金属成分を除去する方法が提案されている。更に、特許文献6では、塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液でエッチング処理後、塩酸を含む酸性エッチング液、過マンガン酸カリウム溶液等のアルカリ性エッチング液の1種又は2種以上を併用して処理することにより、Ni−Cr合金のエッチング残りを溶解することが提案されている。この場合、銅配線のサイドエッチングの少ない方法でNi−Cr合金のエッチング残りを除去することは可能である。
しかしながら、Ni−Cr−Mo合金は、Ni−Cr合金よりも塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第2銅溶液に対してエッチングスピードが遅いため、下地金属層にNi−Cr−Mo合金を設けた2層フレキシブル基板にサブトラクティブ法で狭ピッチ配線を形成してみると、銅リードの周囲に下地金属層が帯状に溶け残りやすいという問題があった。
また、上記の酸性エッチング液でさらにエッチング処理をした場合、Ni−Cr合金の場合とは異なり、銅リード周辺のNi−Cr−Mo合金の溶け残りを除去することができないという欠点があった。更に、上記アルカリ性エッチング液で処理すると若干の溶解は見られるが、除去するまでには至らず、効果は薄いという問題があった。
本発明の目的は、下地金属層にNi−Cr−Mo合金用いた2層フレキシブル配線板の製造における上記の問題点を解決し、微細配線加工品でも十分な絶縁信頼性を有する製造方法を提供することにある。
また、上記の酸性エッチング液でさらにエッチング処理をした場合、Ni−Cr合金の場合とは異なり、銅リード周辺のNi−Cr−Mo合金の溶け残りを除去することができないという欠点があった。更に、上記アルカリ性エッチング液で処理すると若干の溶解は見られるが、除去するまでには至らず、効果は薄いという問題があった。
本発明の目的は、下地金属層にNi−Cr−Mo合金用いた2層フレキシブル配線板の製造における上記の問題点を解決し、微細配線加工品でも十分な絶縁信頼性を有する製造方法を提供することにある。
発明者は、下地金属層にNi−Cr−Mo合金を設けた2層フレキシブル基板に対し、サブトラクティブ法で微細配線を形成するためのエッチング方法に関し、鋭意検討した結果、従来のように、塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液で銅リードを形成後、上記アルカリ性エッチング液で処理した後、さらに上記酸性エッチング液で処理した場合では、銅リード周辺の下地金属層の溶け残りを除去することは困難であり、効果が得られず、これに対し、塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液で銅リードを形成後、銅リード周辺の下地金属層の溶け残りを除去するために上記酸性エッチング液で処理した後、さらに上記アルカリ性エッチング液で処理することにより、銅リード周辺の下地金属層の溶け残りを除去できることを見出し、本発明に至った。
即ち、本発明に係る第1のプリント配線基板の製造方法は、絶縁体フィルムの少なくとも片面に、主にクロム、モリブデン、ニッケルからなる下地金属層を接着剤を介さずに直接形成し、次いで該下地金属層上に銅被膜層を形成した2層フレキシブル基板に対し、エッチング法によりパターン形成するプリント配線基板の製造方法であって、前記エッチング法が、前記2層フレキシブル基板に対し、(A)塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液によりエッチング処理する工程と、次いで(B)塩酸を含む酸性エッチング液により処理する工程と、更に(C)フェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩を含むアルカリ性エッチング液により処理する工程と、からなることを特徴とするものである。
また、本発明に係る第2のプリント配線基板の製造方法は、前記下地金属層が、4〜22重量%のクロムと、5〜40重量%のモリブデンと、残部がニッケルのNi−Cr−Mo合金からなり、且つ、該下地金属層の膜厚が3〜50nmからなることを特徴とし、また、前記塩酸を含む酸性エッチング液が、1〜12Nの塩酸を含み、更に酸化剤、界面活性剤、錯化剤、促進剤、銅の腐食抑制剤、及び還元剤のうち少なくとも1種以上を含有する溶液であることを特徴とするものである。
更に、本発明に係る第3のプリント配線基板の製造方法は、前記フェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩を含むアルカリ性エッチング液が、0.1〜5重量%のフェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩と、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを含み、更に酸化剤、錯化剤、pH緩衝剤及び促進剤のうち少なくとも1種以上を含有する溶液であることを特徴とし、本発明に係る第4のプリント配線基板の製造方法は、前記フェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩を含むアルカリ性エッチング液が、0.1〜5重量%のフェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩と、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを含み、更に酸化剤、錯化剤、pH緩衝剤及び促進剤のうち少なくとも1種以上を含有する溶液であることを特徴とするものである。
また、本発明に係る第5のプリント配線基板の製造方法は、前記絶縁体フィルムは、ポリイミド系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリテトラフルオロエチレン系フィルム、ポリフェニレンサルファイド系フィルム、ポリエチレンナフタレート系フィルム、液晶ポリマー系フィルムから選ばれた少なくとも1種以上の樹脂フィルムであることを特徴とするものである。
次に、本発明に係るプリント配線基板は、請求項1〜5のいずれか1項に記載のプリント配線基板の製造方法により得られた、85℃−85%R.H.の環境下で、電圧40Vでの恒温恒湿バイアス試験(HHBT試験)を行った場合、絶縁信頼性を1000時間以上保持することを特徴とするものである。
本発明に係るプリント配線基板の製造方法によれば、本発明によるエッチング方法を採用することで、下地金属層にNi−Cr−Mo合金を用いた2層フレキシブル基板において、安価でかつ簡単な工程で銅層のサイドエッチングなしに配線間のNi−Cr−Mo合金の溶け残りを除去でき、高い絶縁信頼性を持つ微細配線が得ることができ、その工業的効果は極めて大きい。
上述のように、従来の下地金属層にNi−Cr−Mo合金を用いた2層フレキシブル基板の製造方法にあっては、微細加工パターンを塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液によるエッチングで形成すると、下地金属層のNi−Cr−Mo合金は銅導体層よりもエッチング速度が遅いためリードの周囲にNi−Cr−Mo合金が溶け残ってしまう。微細加工の場合、リードとリードのスペースが、狭くなってしまうことは配線加工での不具合に繋がり、さらには絶縁信頼性が悪くなる可能性がある。
このため、本発明に係る下地金属層にNi−Cr−Mo合金を用いた2層フレキシブル基板の製造方法では、絶縁体フィルムの少なくとも片面に、クロム、モリブデン、ニッケルを含有する下地金属層を、接着剤を介さずに直接形成し、該下地金属層上に銅被膜層を形成した2層フレキシブル基板に、エッチング法によってパターン形成するプリント配線基板の製造方法において、(A)前記2層フレキシブル基板を、塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液によりエッチング処理を行い、その後、得られた2層フレキシブル基板を(B)塩酸を含む酸性エッチング液で処理して、リード周辺の溶け残ったNi−Cr−Mo合金部の不動態化した表面層を除去し、さらに(C)フェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩を含むアルカリ性エッチング液で処理して、リード周辺のNi−Cr−Mo合金を除去することにより、銅層をサイドエッチングによりリード細りさせることなく、微細配線加工を可能とする方法を提供することが可能となる。
そして、本発明に係るプリント配線基板の製造方法のように、絶縁体フィルムの少なくとも片面に、接着剤を介さずに直接下地金属層を形成し、該下地金属層上に所望の厚さの銅導体層を形成する2層フレキシブル基板であって、前記絶縁体フィルム上に、乾式めっき法により膜厚3〜50nm形成されたクロムの割合が4〜22重量%、モリブデンの割合が5〜40重量%で残部がニッケルの、Ni−Cr−Mo合金を主として含有する下地金属層を採用することによって、密着性が高く、耐食性を有し、かつ絶縁信頼性の高い銅導体層を形成したプリント配線基板を得ることが可能となる。
このため、本発明に係る下地金属層にNi−Cr−Mo合金を用いた2層フレキシブル基板の製造方法では、絶縁体フィルムの少なくとも片面に、クロム、モリブデン、ニッケルを含有する下地金属層を、接着剤を介さずに直接形成し、該下地金属層上に銅被膜層を形成した2層フレキシブル基板に、エッチング法によってパターン形成するプリント配線基板の製造方法において、(A)前記2層フレキシブル基板を、塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液によりエッチング処理を行い、その後、得られた2層フレキシブル基板を(B)塩酸を含む酸性エッチング液で処理して、リード周辺の溶け残ったNi−Cr−Mo合金部の不動態化した表面層を除去し、さらに(C)フェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩を含むアルカリ性エッチング液で処理して、リード周辺のNi−Cr−Mo合金を除去することにより、銅層をサイドエッチングによりリード細りさせることなく、微細配線加工を可能とする方法を提供することが可能となる。
そして、本発明に係るプリント配線基板の製造方法のように、絶縁体フィルムの少なくとも片面に、接着剤を介さずに直接下地金属層を形成し、該下地金属層上に所望の厚さの銅導体層を形成する2層フレキシブル基板であって、前記絶縁体フィルム上に、乾式めっき法により膜厚3〜50nm形成されたクロムの割合が4〜22重量%、モリブデンの割合が5〜40重量%で残部がニッケルの、Ni−Cr−Mo合金を主として含有する下地金属層を採用することによって、密着性が高く、耐食性を有し、かつ絶縁信頼性の高い銅導体層を形成したプリント配線基板を得ることが可能となる。
本発明において絶縁基板材料として用いられるフィルムは、ポリイミド系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリテトラフルオロエチレン系フィルム、ポリフェニレンサルファイド系フィルム、ポリエチレンナフタレート系フィルム、液晶ポリマー系フィルム等から選ばれる市販の熱硬化フィルム等である。
特に、ポリイミド系のフィルム及びポリアミド系のフィルムは、はんだリフロー等の高温の接続が必要な用途に適している点で好ましい。
また、上記フィルムは、フィルム厚さが8〜75μmのものが好適に使用することができる。尚、ガラス繊維、CNT等の無機質材料を適宜添加することもできる。
特に、ポリイミド系のフィルム及びポリアミド系のフィルムは、はんだリフロー等の高温の接続が必要な用途に適している点で好ましい。
また、上記フィルムは、フィルム厚さが8〜75μmのものが好適に使用することができる。尚、ガラス繊維、CNT等の無機質材料を適宜添加することもできる。
本発明に用いられる2層フレキシブル基板は、上記フィルムの少なくとも片面に、接着剤を介さずに乾式めっき法で直接下地金属層としてNi−Cr−Mo合金を形成し、該下地金属層上に所望の厚さの銅導体層を形成することにより得られる。
ここで、本発明に用いられる下地金属層は、クロムの割合が4〜22重量%、モリブデンの割合が5〜40重量%で残部がニッケルのNi−Cr−Mo合金を主として含有することが好ましい。
先ず、クロムの割合が4〜22重量%であることは、熱劣化によって耐熱ピール強度が著しく低下することを防止するために必要である。クロムの割合が4重量%よりも低下すると、耐熱ピール強度が熱劣化で著しく低下することを防止できなくなるため好ましくない。また、クロムの割合が22重量%よりも多くなると、エッチングが難しくなってくるので好ましくない。このため、クロムの場合、より好ましいのは、4〜15重量%であり、特に好ましいのは6〜12重量%である。
次に、モリブデンの割合は、5〜40重量%であることが、耐食性、絶縁信頼性の向上のために必要である。モリブデンの割合が5重量%よりも少ないと、添加効果が現れず、耐食性、絶縁信頼性の向上が見られないため好ましくない。また、モリブデンの割合が40重量%を超えると、耐熱ピール強度が極端に低下する傾向にあるため好ましくない。
更に、通常ニッケル基の合金ターゲットの場合、ニッケルの割合が93%より大きいとスパッタリングターゲット自体が強磁性体となってしまい、マグネトロンスパッタリングで成膜する場合には、成膜スピードが低下してしまうため好ましくない。本構成のターゲット組成では、ニッケル量は90%以下となるため、マグネトロンスパッタリング法を用いて成膜した場合でも良好な成膜レートを得ることができる。ところで、該ニッケル−クロム−モリブデン合金に耐熱性や耐食性を向上する目的で遷移金属元素を目的特性に合わせて適宜添加することが可能である。
また、該下地金属層には、該ニッケル−クロム−モリブデン合金以外に、ターゲット作製時に取り込まれるなどして含まれる1重量%以下の不可避不純物が存在していても良い。
ここで、本発明に用いられる下地金属層は、クロムの割合が4〜22重量%、モリブデンの割合が5〜40重量%で残部がニッケルのNi−Cr−Mo合金を主として含有することが好ましい。
先ず、クロムの割合が4〜22重量%であることは、熱劣化によって耐熱ピール強度が著しく低下することを防止するために必要である。クロムの割合が4重量%よりも低下すると、耐熱ピール強度が熱劣化で著しく低下することを防止できなくなるため好ましくない。また、クロムの割合が22重量%よりも多くなると、エッチングが難しくなってくるので好ましくない。このため、クロムの場合、より好ましいのは、4〜15重量%であり、特に好ましいのは6〜12重量%である。
次に、モリブデンの割合は、5〜40重量%であることが、耐食性、絶縁信頼性の向上のために必要である。モリブデンの割合が5重量%よりも少ないと、添加効果が現れず、耐食性、絶縁信頼性の向上が見られないため好ましくない。また、モリブデンの割合が40重量%を超えると、耐熱ピール強度が極端に低下する傾向にあるため好ましくない。
更に、通常ニッケル基の合金ターゲットの場合、ニッケルの割合が93%より大きいとスパッタリングターゲット自体が強磁性体となってしまい、マグネトロンスパッタリングで成膜する場合には、成膜スピードが低下してしまうため好ましくない。本構成のターゲット組成では、ニッケル量は90%以下となるため、マグネトロンスパッタリング法を用いて成膜した場合でも良好な成膜レートを得ることができる。ところで、該ニッケル−クロム−モリブデン合金に耐熱性や耐食性を向上する目的で遷移金属元素を目的特性に合わせて適宜添加することが可能である。
また、該下地金属層には、該ニッケル−クロム−モリブデン合金以外に、ターゲット作製時に取り込まれるなどして含まれる1重量%以下の不可避不純物が存在していても良い。
更に、本発明に用いられる下地金属層の膜厚は3〜50nmであることが好ましい。該膜厚が3nmよりも薄いと、配線加工を行う時のエッチング液が染み込み配線部が浮いてしまう等により配線ピール強度が著しく低下するなどの問題が発生するため、好ましくない。また、該膜厚が50nmよりも厚くなると、エッチングを行うことが難しくなるため、好ましくない。
本発明に係るプリント配線基板の製造方法に用いられる乾式めっき法としては、抵抗加熱蒸着、イオンプレーティング蒸着、スパッタリング蒸着などの手法が挙げられる。
また、本発明に係るプリント配線基板の製造方法に用いられる上記フィルム改質層の形成方法としては、薬品による化学処理あるいは、プラズマ処理やコロナ放電、紫外線照射処理等の物理処理などが挙げられるが、そのいずれかに限定するものではない。
また、本発明に係るプリント配線基板の製造方法に用いられる上記フィルム改質層の形成方法としては、薬品による化学処理あるいは、プラズマ処理やコロナ放電、紫外線照射処理等の物理処理などが挙げられるが、そのいずれかに限定するものではない。
本発明において用いられる塩酸を含む酸性エッチング液は、1〜12Nの塩酸を含み、更に酸化剤、界面活性剤、錯化剤、促進剤、銅の腐食抑制剤、及び還元剤のうち少なくとも1種以上を含有する溶液であることが好ましい。
ここで、本発明で用いられる酸性エッチング液を塩酸としたのは、リード周辺の溶け残ったNi−Cr−Mo合金部の不動態化した表面層を除去するのに効果があるからである。
また、酸を含む酸性エッチング液の塩酸濃度は、好ましくは1〜12Nであるが、塩酸濃度が低いとNi−Cr−Mo合金部の不動態化した表面層を除去する効果が低下し、処理時間が長くなる。また、6N以上になると、塩酸ミストが発生するなどの弊害が発生するため、より好ましくは塩酸濃度2〜6Nとする。但し、塩酸濃度が6N以上であっても、12N程度までであれば、本願発明を実施することが可能であることはいうまでもない。
更に、塩酸を含む酸性エッチング液は、酸化剤、界面活性剤、有機酸などの錯化剤、銅の溶解抑制剤、還元剤等の添加剤を適宜含有することができる。これら添加剤の配合量は一般に0.01〜20%とするのが好ましい。また、市販されているNi−Cr下地金属層の除去用のものを用いることが可能で、処理方法は、スプレー法、浸漬法の何れでも可能である。
酸性エッチング液の処理温度は、好ましくは20℃〜90℃であるが、温度が低いと不動態層の除去が不十分になりやすくエッチング時間が長くなる。また、温度が高いと塩酸ミストの発生が多くなり、銅の溶解量も増加するため、より好ましくは40℃〜70℃とする。前記塩酸を含む酸性エッチング液の処理時間は30秒から5分が好ましい。
ここで、本発明で用いられる酸性エッチング液を塩酸としたのは、リード周辺の溶け残ったNi−Cr−Mo合金部の不動態化した表面層を除去するのに効果があるからである。
また、酸を含む酸性エッチング液の塩酸濃度は、好ましくは1〜12Nであるが、塩酸濃度が低いとNi−Cr−Mo合金部の不動態化した表面層を除去する効果が低下し、処理時間が長くなる。また、6N以上になると、塩酸ミストが発生するなどの弊害が発生するため、より好ましくは塩酸濃度2〜6Nとする。但し、塩酸濃度が6N以上であっても、12N程度までであれば、本願発明を実施することが可能であることはいうまでもない。
更に、塩酸を含む酸性エッチング液は、酸化剤、界面活性剤、有機酸などの錯化剤、銅の溶解抑制剤、還元剤等の添加剤を適宜含有することができる。これら添加剤の配合量は一般に0.01〜20%とするのが好ましい。また、市販されているNi−Cr下地金属層の除去用のものを用いることが可能で、処理方法は、スプレー法、浸漬法の何れでも可能である。
酸性エッチング液の処理温度は、好ましくは20℃〜90℃であるが、温度が低いと不動態層の除去が不十分になりやすくエッチング時間が長くなる。また、温度が高いと塩酸ミストの発生が多くなり、銅の溶解量も増加するため、より好ましくは40℃〜70℃とする。前記塩酸を含む酸性エッチング液の処理時間は30秒から5分が好ましい。
本発明において用いられるフェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩を含むアルカリ性エッチング液は、0.1〜5重量%のフェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩と、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを含み、更に酸化剤、錯化剤、pH緩衝剤及び促進剤のうち少なくとも1種以上を含有する溶液であることが好ましい。
ここで、本発明で用いられるアルカリ性エッチング液をフェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩と、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムとしたのは、Ni−Cr−Mo合金部を溶解するのに有効であり、また、銅層に対してサイドエッチングやダメージを与えないからである。
また、アルカリ性エッチング液は市販のデスミア処理液を用いることが可能で、いずれにしても酸化剤の濃度は、好ましくは0.01〜5重量%であるが、高濃度になると基材のポリイミドフィルムにダメージが発生し、低濃度ではエッチング速度が低くエッチング時間が増加するため0.5〜3%がより好ましい。また、アルカリ類添加によるpH範囲は、好ましくは10〜14であるが、pHが高いとエッチング速度が速いがポリイミドのダメージがでてくる。pHが低いと素材のダメージはないが、エッチング速度が遅くなるため、より好ましいpH範囲は11〜13である。
更に、アルカリ性エッチング液はフェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩から選ばれる酸化剤を少なくとも1種以上を含み、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ類を添加してアルカリ性にしたものである。アルカリ性エッチング液は錯化剤、pH緩衝剤、反応促進剤などを含むことができる。
アルカリ性エッチング液の処理方法は、スプレー法、浸漬法の何れでも可能である。処理温度は、好ましくは10〜90℃であるが、高温では基材のポリイミドフィルムのダメージが発生し、低温ではエッチング速度が低くエッチング時間が増加するため20〜50℃がより好ましい。アルカリ性エッチング液の処理時間は、好ましくは15秒〜5分である。銅の溶解がないため処理時間は長くても差し支えないが、工程上30秒〜2分がより好ましい。
ここで、本発明で用いられるアルカリ性エッチング液をフェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩と、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムとしたのは、Ni−Cr−Mo合金部を溶解するのに有効であり、また、銅層に対してサイドエッチングやダメージを与えないからである。
また、アルカリ性エッチング液は市販のデスミア処理液を用いることが可能で、いずれにしても酸化剤の濃度は、好ましくは0.01〜5重量%であるが、高濃度になると基材のポリイミドフィルムにダメージが発生し、低濃度ではエッチング速度が低くエッチング時間が増加するため0.5〜3%がより好ましい。また、アルカリ類添加によるpH範囲は、好ましくは10〜14であるが、pHが高いとエッチング速度が速いがポリイミドのダメージがでてくる。pHが低いと素材のダメージはないが、エッチング速度が遅くなるため、より好ましいpH範囲は11〜13である。
更に、アルカリ性エッチング液はフェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩から選ばれる酸化剤を少なくとも1種以上を含み、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ類を添加してアルカリ性にしたものである。アルカリ性エッチング液は錯化剤、pH緩衝剤、反応促進剤などを含むことができる。
アルカリ性エッチング液の処理方法は、スプレー法、浸漬法の何れでも可能である。処理温度は、好ましくは10〜90℃であるが、高温では基材のポリイミドフィルムのダメージが発生し、低温ではエッチング速度が低くエッチング時間が増加するため20〜50℃がより好ましい。アルカリ性エッチング液の処理時間は、好ましくは15秒〜5分である。銅の溶解がないため処理時間は長くても差し支えないが、工程上30秒〜2分がより好ましい。
上記したように、絶縁体フィルムの少なくとも片面に、クロム、モリブデン、ニッケル
を含有する下地金属層を、接着剤を介さずに直接形成し、該下地金属層上に銅被膜層を形成した2層フレキシブル基板に、エッチング法によってパターン形成するプリント配線基板の製造方法において、(A)前記2層フレキシブル基板を、塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液によりエッチング処理を行い、その後、得られた2層フレキシブル基板を(B)塩酸を含む酸性エッチング液で処理し、さらに(C)フェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩を含むアルカリ性エッチング液で処理することによって、エッチング法を用いてパターン形成された85℃−85%R.H.の環境下で、電圧40Vでの恒温恒湿バイアス試験(HHBT試験)を行った場合、絶縁信頼性を1000時間以上保持することを特徴とする、高い絶縁信頼性を有するプリント配線基板を得ることができる。
を含有する下地金属層を、接着剤を介さずに直接形成し、該下地金属層上に銅被膜層を形成した2層フレキシブル基板に、エッチング法によってパターン形成するプリント配線基板の製造方法において、(A)前記2層フレキシブル基板を、塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液によりエッチング処理を行い、その後、得られた2層フレキシブル基板を(B)塩酸を含む酸性エッチング液で処理し、さらに(C)フェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩を含むアルカリ性エッチング液で処理することによって、エッチング法を用いてパターン形成された85℃−85%R.H.の環境下で、電圧40Vでの恒温恒湿バイアス試験(HHBT試験)を行った場合、絶縁信頼性を1000時間以上保持することを特徴とする、高い絶縁信頼性を有するプリント配線基板を得ることができる。
[実施例]
つぎに本発明の実施例を比較例とともに説明する。
エッチング性の確認は、光学顕微鏡で観察し、図1に示すように銅リード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。また、HHBT試験片の絶縁抵抗値の測定も行い、10−6Ω以下の抵抗値の場合は、リード間にエッチング残渣があるとみなし、エッチング性は良くないと判定した。
耐環境試験であるHHBT試験の測定は、上記試験片を用い、JPCA−ET04に準拠し、85℃85%R.H.環境下で、DC40Vを端子間に印加し、1000hr抵抗を観察する。抵抗が106Ω以下になった時点でショート不良と判断し、1000hr経過後も106Ω以上であれば合格と判断した。
つぎに本発明の実施例を比較例とともに説明する。
エッチング性の確認は、光学顕微鏡で観察し、図1に示すように銅リード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。また、HHBT試験片の絶縁抵抗値の測定も行い、10−6Ω以下の抵抗値の場合は、リード間にエッチング残渣があるとみなし、エッチング性は良くないと判定した。
耐環境試験であるHHBT試験の測定は、上記試験片を用い、JPCA−ET04に準拠し、85℃85%R.H.環境下で、DC40Vを端子間に印加し、1000hr抵抗を観察する。抵抗が106Ω以下になった時点でショート不良と判断し、1000hr経過後も106Ω以上であれば合格と判断した。
(比較例1)
厚さ38μmのポリイミドフィルム(東レ・ディユポン社製、製品名「カプトン150EN」)を巻取式スパッタリング装置に装着し、その片面に下地金属層の第1層として5重量%Cr−20重量%Mo−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山(株)製)を用い、直流スパッタリング法により、5重量%Cr−20重量%Mo−Ni合金下地金属層を成膜した。別途同条件で成膜した一部を透過電子顕微鏡(TEM:日立製作所(株)製)を用いて膜厚を測定したところ20nmであった。上記NiCrMo膜を成膜したフィルム上に、さらにその上に第二層として、Cuターゲット(住友金属鉱山(株)製)を用いて、スパッタリング法により銅被膜層を200nmの厚さに形成した。取り出した後、電気めっきで8μmまで銅層を成膜した。
こうして形成された導電性金属層である銅層の表面に、ドライフィルムをラミネートして感光性レジスト膜を形成後、露光・現像して、配線ピッチが28μm(ライン幅;14μm、スペース幅;14μm)となるように櫛歯試験片を形成し、このパターンをマスキング材として、銅層を塩化第二鉄溶液40°Be(ボーメ)を用いてエッチングした後、レジストを除去して試験片を作製した(サブトラクティブ法)。
上記試験片を光学顕微鏡で観察し、リード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、回路エッチングを行った後に、錫めっき処理工程を設け、回路上に錫めっきを行った。錫めっきには、錫めっき液としてシプレー・ファーイースト(株)製のLT−34を用い、溶液温度75℃で約0.6μm相当をめっきし、該サンプルを150℃、1時間熱処理した。その後、絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、いずれも抵抗が106Ω以下になりショート不良となった。
厚さ38μmのポリイミドフィルム(東レ・ディユポン社製、製品名「カプトン150EN」)を巻取式スパッタリング装置に装着し、その片面に下地金属層の第1層として5重量%Cr−20重量%Mo−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山(株)製)を用い、直流スパッタリング法により、5重量%Cr−20重量%Mo−Ni合金下地金属層を成膜した。別途同条件で成膜した一部を透過電子顕微鏡(TEM:日立製作所(株)製)を用いて膜厚を測定したところ20nmであった。上記NiCrMo膜を成膜したフィルム上に、さらにその上に第二層として、Cuターゲット(住友金属鉱山(株)製)を用いて、スパッタリング法により銅被膜層を200nmの厚さに形成した。取り出した後、電気めっきで8μmまで銅層を成膜した。
こうして形成された導電性金属層である銅層の表面に、ドライフィルムをラミネートして感光性レジスト膜を形成後、露光・現像して、配線ピッチが28μm(ライン幅;14μm、スペース幅;14μm)となるように櫛歯試験片を形成し、このパターンをマスキング材として、銅層を塩化第二鉄溶液40°Be(ボーメ)を用いてエッチングした後、レジストを除去して試験片を作製した(サブトラクティブ法)。
上記試験片を光学顕微鏡で観察し、リード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、回路エッチングを行った後に、錫めっき処理工程を設け、回路上に錫めっきを行った。錫めっきには、錫めっき液としてシプレー・ファーイースト(株)製のLT−34を用い、溶液温度75℃で約0.6μm相当をめっきし、該サンプルを150℃、1時間熱処理した。その後、絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、いずれも抵抗が106Ω以下になりショート不良となった。
(比較例2)
比較例1と同様にして得られた2層フレキシブル基板について、比較例1と同様に塩化第二鉄溶液でエッチングして櫛歯試験片を形成した後、さらに酸性エッチング液CH−1920(メック(株)製)に50℃、1分間浸漬しリード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、いずれも抵抗が106Ω以下になりショート不良となった。
比較例1と同様にして得られた2層フレキシブル基板について、比較例1と同様に塩化第二鉄溶液でエッチングして櫛歯試験片を形成した後、さらに酸性エッチング液CH−1920(メック(株)製)に50℃、1分間浸漬しリード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、いずれも抵抗が106Ω以下になりショート不良となった。
(比較例3)
比較例1と同様にして得られた2層フレキシブル基板について、比較例1と同様に塩化第二鉄溶液でエッチングして櫛歯試験片を形成した後、アルカリ性エッチング液MLB−213(ローム・アンド・ハース電子材料(株)製)を用い、過マンガン酸カリウム濃度を約3%、pHを12に調整し、50℃、1分間浸漬しリード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、そのうちの2サンプルの抵抗が106Ω以下になりショート不良となった。
比較例1と同様にして得られた2層フレキシブル基板について、比較例1と同様に塩化第二鉄溶液でエッチングして櫛歯試験片を形成した後、アルカリ性エッチング液MLB−213(ローム・アンド・ハース電子材料(株)製)を用い、過マンガン酸カリウム濃度を約3%、pHを12に調整し、50℃、1分間浸漬しリード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、そのうちの2サンプルの抵抗が106Ω以下になりショート不良となった。
比較例1と同様にして得られた2層フレキシブル基板について、比較例1と同様に塩化第二鉄溶液でエッチングして櫛歯試験片を形成した後、酸性エッチング液CH−1920に50℃、1分間浸漬し、さらにアルカリ性エッチング液MLB−213を用い、過マンガン酸カリウム濃度を約3%、pHを12に調整し、50℃、1分間浸漬し、リード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、いずれも劣化は認められなかった。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、いずれも劣化は認められなかった。
(比較例4)
比較例1と同様にして得られた2層フレキシブル基板について、比較例1と同様に塩化第二鉄溶液でエッチングして櫛歯試験片を形成した後、アルカリ性エッチング液MLB−213を用い、過マンガン酸カリウム濃度を約3%、pHを12に調整し、50℃、1分間浸漬し、さらに酸性エッチング液CH−1920に50℃、1分間浸漬し、リード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、そのうちの1サンプルの抵抗が106Ω以下になりショート不良となった。
比較例1と同様にして得られた2層フレキシブル基板について、比較例1と同様に塩化第二鉄溶液でエッチングして櫛歯試験片を形成した後、アルカリ性エッチング液MLB−213を用い、過マンガン酸カリウム濃度を約3%、pHを12に調整し、50℃、1分間浸漬し、さらに酸性エッチング液CH−1920に50℃、1分間浸漬し、リード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、そのうちの1サンプルの抵抗が106Ω以下になりショート不良となった。
(比較例5)
下地金属層の第1層として6重量%Cr−10重量%Mo−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山(株)製)を用い、直流スパッタリング法により、6重量%Cr−10重量%Mo−Ni合金下地金属層を成膜した以外は比較例1と同様にして2層フレキシブル基板を作製した。また、比較例1と同様に、塩化第二鉄溶液でエッチングして櫛歯試験片を形成した。
上記試験片を光学顕微鏡で観察し、リード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、そのうちの2サンプルの抵抗が106Ω以下になりショート不良となった。
下地金属層の第1層として6重量%Cr−10重量%Mo−Ni合金ターゲット(住友金属鉱山(株)製)を用い、直流スパッタリング法により、6重量%Cr−10重量%Mo−Ni合金下地金属層を成膜した以外は比較例1と同様にして2層フレキシブル基板を作製した。また、比較例1と同様に、塩化第二鉄溶液でエッチングして櫛歯試験片を形成した。
上記試験片を光学顕微鏡で観察し、リード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、そのうちの2サンプルの抵抗が106Ω以下になりショート不良となった。
比較例5と同様にして得られた2層フレキシブル基板について、比較例1と同様に塩化第二鉄溶液でエッチングして櫛歯試験片を形成した後、酸性エッチング液CH−1920に50℃、1分間浸漬し、さらにアルカリ性エッチング液MLB−213を用い、過マンガン酸カリウム濃度を約3%、pHを12に調整し、50℃、1分間浸漬し、リード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、いずれも劣化は認められなかった。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、いずれも劣化は認められなかった。
(比較例6)
絶縁フィルムとして厚さ35μmのポリイミドフィルム(宇部興産製、製品名「ユーピレックス−SGA」)を使用した以外は比較例1と同様にして2層フレキシブル基板を作製した。また、比較例1と同様に、塩化第二鉄溶液でエッチングして櫛歯試験片を形成した。
上記試験片を光学顕微鏡で観察し、リード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、いずれも抵抗が106Ω以下になりショート不良となった。
絶縁フィルムとして厚さ35μmのポリイミドフィルム(宇部興産製、製品名「ユーピレックス−SGA」)を使用した以外は比較例1と同様にして2層フレキシブル基板を作製した。また、比較例1と同様に、塩化第二鉄溶液でエッチングして櫛歯試験片を形成した。
上記試験片を光学顕微鏡で観察し、リード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、いずれも抵抗が106Ω以下になりショート不良となった。
比較例6と同様にして得られた2層フレキシブル基板について、比較例1と同様に塩化第二鉄溶液でエッチングして櫛歯試験片を形成した後、酸性エッチング液CH−1920に50℃、1分間浸漬し、さらにアルカリ性エッチング液MLB−213を用い、過マンガン酸カリウム濃度を約3%、pHを12に調整し、50℃、1分間浸漬し、リード周囲に見られるNi−Cr−Mo合金の帯状の溶け残り部の幅を測定した。結果を表1に示す。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、いずれも劣化は認められなかった。
また、比較例1と同様にして絶縁信頼性試験を3サンプルについて行ったが、いずれも劣化は認められなかった。
以上述べたとおり、下地金属層に密着性、耐食性の高いNi−Cr−Mo合金を設けた2層フレキシブル基板にサブトラクティブ法でプリント配線基板を形成するためのエッチング方法として、塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液で銅リードを形成後、塩酸を含む酸性エッチング液で処理し、さらにフェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩を含むアルカリ性エッチング液で処理することで、微細配線加工が可能となり、また絶縁信頼性の高いプリント配線基板を得ることができ、その効果は極めて大きい。
1 銅リード
2 絶縁体フィルム
3 Ni−Cr−Mo合金層
2 絶縁体フィルム
3 Ni−Cr−Mo合金層
Claims (6)
- 絶縁体フィルムの少なくとも片面に、主にクロム、モリブデン、ニッケルからなる下地金属層を接着剤を介さずに直接形成し、次いで該下地金属層上に銅被膜層を形成した2層フレキシブル基板に対し、エッチング法によりパターン形成するプリント配線基板の製造方法であって、
前記エッチング法が、前記2層フレキシブル基板に対し、(A)塩化第二鉄溶液又は塩酸を含む塩化第二銅溶液によりエッチング処理する工程と、次いで(B)塩酸を含む酸性エッチング液により処理する工程と、更に(C)フェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩を含むアルカリ性エッチング液により処理する工程と、からなることを特徴とするプリント配線基板の製造方法。 - 前記下地金属層が、4〜22重量%のクロムと、5〜40重量%のモリブデンと、残部がニッケルのNi−Cr−Mo合金からなり、且つ、該下地金属層の膜厚が3〜50nmからなることを特徴とする請求項1記載のプリント配線基板の製造方法。
- 前記塩酸を含む酸性エッチング液が、1〜12Nの塩酸を含み、更に酸化剤、界面活性剤、錯化剤、促進剤、銅の腐食抑制剤、及び還元剤のうち少なくとも1種以上を含有する溶液であることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線基板の製造方法。
- 前記フェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩を含むアルカリ性エッチング液が、0.1〜5重量%のフェリシアン化カリウム又は過マンガン酸塩と、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを含み、更に酸化剤、錯化剤、pH緩衝剤及び促進剤のうち少なくとも1種以上を含有する溶液であることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線基板の製造方法。
- 前記絶縁体フィルムは、ポリイミド系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリテトラフルオロエチレン系フィルム、ポリフェニレンサルファイド系フィルム、ポリエチレンナフタレート系フィルム、液晶ポリマー系フィルムから選ばれた少なくとも1種以上の樹脂フィルムであることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線基板の製造方法。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載のプリント配線基板の製造方法により得られた、85℃−85%R.H.の環境下で、電圧40Vでの恒温恒湿バイアス試験(HHBT試験)を行った場合、絶縁信頼性を1000時間以上保持することを特徴とするプリント配線基板。
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-
2006
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090519 |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090930 |