JP2009295858A - フレキシブル基材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フィルム状の基材1の少なくとも片面に、バリア層2と金属層3、4とを順に積層し、かつこのバリア層としてモリブデン含有量が0.3wt%以上、1wt%未満、さらに好ましくは、上記クロム含有量が15wt%以上30wt%未満のニッケル−クロム−モリブデン合金を用いた。
【選択図】図1
Description
そして、このようなバリア層および銅層の積層構造を有するフレキシブル基材は、これらの積層体をエッチング液を用いてパターニングすることにより銅配線が形成される。このため、この銅配線の上にカバーレイを被覆あるいはソルダーレジストを塗布してプリント配線板が製作されている。
このようにして製作されたプリント配線板は、一般的に、ICチップ等の外付け部品が搭載されることにより、電子機器に内蔵されて永年使用されるものである。
その結果、この水分などに溶出してしまったバリア層のニッケルなどの金属成分や上記溶解してしまったバリア層中の金属成分が負電位側などに移動して、イオンマイグレーションが生じてしまう可能性がある。
このバリア層2は、ニッケル−クロム−モリブデン合金であって、モリブデンの含有量が0.3wt%以上1wt%未満、クロムの含有量が15wt%以上30wt%未満で、残部がニッケルからなるスパッタ膜である。
そして、このプリント配線板は、電子部品などが搭載されて、電子機器に内蔵されるなどして用いられている。
これは、図3に示すように、Mo含有量1.5wt%のニッケル−クロム−モリブデン合金の4mol/L塩酸に対するアノード分極曲線において最大電流密度は1.E−03(A/dm2)と著しく低い。これに対して、Mo含有量1.0wt%未満のニッケル−クロム−モリブデン合金の同アノード分極曲線において最大電流密度は1.E−01(A/dm2)まで上昇する。このことから判るように、Mo含有量1.0wt%未満のニッケル−クロム−モリブデン合金は、4mol/L塩酸を含有するエッチング液によって効率的に溶解されて、エッチング残渣の発生も抑えられる。
これは、図4に示すように、2mol/L塩酸に対するMo非含有のニッケル−クロム合金のアノード分極曲線において最大電流密度は0.030(A/dm2)程度、Mo含有量0.2wt%のニッケル−クロム−モリブデン合金の同最大電流密度は0.025(A/dm2)程度と高い。これに対して、Mo含有量0.3wt%以上のニッケル−クロム−モリブデン合金の同最大電流密度は0.005(A/dm2)以下と著しく低下する。このことから判るように、バリア層2は、モリブデン含有量を0.3wt%以上とすることによって、カバーレイ、エッチング液残渣や水分中に含まれる2mol/L程度の塩素成分に対して耐食性を有して、これらカバーレイなどに溶解あるいはエッチング残渣などに溶出することによるイオンマイグレーションが防止される。
その一方で、バリア層2のモリブデン含有量を1wt%未満とすることよって、4mol/L程度の塩酸を主成分とするエッチング液によって確実に溶解させることができる。
2 バリア層
3 銅スパッタ層
4 電解銅めっき層
Claims (2)
- フィルム状の基材の少なくとも片面にバリア層と金属層とが順に積層されており、
このバリア層は、ニッケル−クロム−モリブデン合金であって、上記モリブデン含有量が0.3wt%以上かつ1wt%未満であることを特徴とするフレキシブル基材。 - 上記バリア層は、上記クロム含有量が15wt%以上かつ30wt%未満であることを特徴とする請求項1に記載のフレキシブル基材。
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