JP2010010125A - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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Abstract
非蒸発ゲッターポンプを用いて電子ビーム放出した状態でも電子源近傍の真空度を10−8から10−9Paという超高真空に保ち,かつ脱落異物の影響を受けない荷電粒子線装置を提供することにある。
【解決手段】
荷電粒子源2(電子源、イオン源等)を配する真空容器と、直接電子ビームと向かいあわない位置に非蒸発ゲッターポンプ6を備え,非蒸発ゲッターポンプ6から脱落した異物が電子光学系に向かわないように非蒸発ゲッターポンプ6を水平方向上向きとして電極4の溝4’内の底に落とし込む構造を有する。あるいは遮蔽手段で覆う構造を備える、もしくは,非蒸発ゲッターポンプ面の直上に電子線を見ない位置に設置し,非蒸発ゲッターポンプ下部に脱落異物を捕獲可能な凹部構造を有する手段を備える。
【選択図】図1
Description
Claims (17)
- 荷電粒子源を有する荷電粒子ビーム発生手段と、前記荷電粒子源から放出される荷電粒子ビームを試料上に入射する荷電粒子光学系と、前記荷電粒子ビーム発生手段と前記荷電粒子光学系を排気するための真空排気手段と、前記荷電粒子ビーム発生手段を排気する補助真空ポンプとを備えた荷電粒子線装置であって、
前記荷電粒子源は電界放出型荷電粒子源で構成され、前記補助真空ポンプは前記電界放出型荷電粒子源に対向する位置に設置された第一の非蒸発ゲッターポンプで構成されたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1記載の荷電粒子線装置であって、
前記電界放出型荷電粒子源は前記荷電粒子ビームを重力方向に放出するように配置されており,
前記電界放出型荷電粒子源の直下に、前記荷電粒子ビームが通過する開口を有する電極を備え、
前記第一の非蒸発ゲッターポンプを前記電極面上の前記開口の周囲に設置したことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2記載の荷電粒子線装置であって、
前記電極の背面に加熱手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2に記載の荷電粒子線装置であって、
前記電極は、前記電極面上に形成された溝を有し、
前記第一の非蒸発ゲッターポンプをシート形状とし,前記溝に設置したことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4に記載の荷電粒子線装置であって、
前記第一の非蒸発ゲッターポンプの前記荷電粒子ビームが照射される部分に遮蔽板を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2に記載の荷電粒子線装置であって、
前記荷電粒子ビーム発生手段は、磁気シールド手段と、大気側外壁周りに加熱手段と,内壁に沿い,前記磁気シールドに囲まれた領域に設置された第二の非蒸発ゲッターポンプとを備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2に記載の荷電粒子線装置であって、
前記電極はカップ型の形状を有し,前記カップ型電極は、その側面に円筒形状の加熱手段と,前記円筒形の加熱手段の側面に沿った第三の非蒸発ゲッターポンプを備え,前記第三の非蒸発ゲッターポンプの周囲を磁気シールドが囲んでいることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項7に記載の荷電粒子線装置であって、
前記磁気シールド側面には開口が設けられていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2に記載の荷電粒子線装置であって、
前記荷電粒子ビーム発生手段は、前記電界放出型荷電粒子源が設置された領域と、前記電極の前記開口を介してつながる真空室を備え,前記真空室にメイン真空排気手段とサブ真空排気手段とを備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項9に記載の荷電粒子線装置であって、
前記メイン真空排気手段としてイオンポンプを用い,サブ真空排気手段として第四の非蒸発ゲッターポンプを用いることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置であって、
真空立上げの際に装置を加熱して脱ガスを促進するベーキングの温度よりも、前記第一の非蒸発ゲッターポンプを活性化する際の加熱温度を高く設定したことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 荷電粒子源を有する荷電粒子ビーム発生手段と、前記荷電粒子源から放出される荷電粒子ビームを試料上に入射する荷電粒子光学系と、前記荷電粒子ビーム発生手段と前記荷電粒子光学系を排気するための真空排気手段と,前記真空排気手段により排気される前記荷電粒子ビーム発生手段内を排気する補助真空ポンプとを備えた荷電粒子線装置であって、
前記荷電粒子源は電界放出型荷電粒子源からなり、
前記荷電粒子ビーム発生手段は、磁気シールド手段と、前記荷電粒子ビーム発生手段の内壁に沿っており,かつ,前記磁気シールド手段に囲まれた領域に設置された非蒸発ゲッターポンプと、その大気側外壁周りに前記非蒸発ゲッターポンプを加熱する加熱手段とを備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項12に記載の荷電粒子線装置であって、
前記電界放出型荷電粒子源の直下に前記荷電粒子ビームが通過する開口を有する、カップ型形状の電極を備え、前記カップ型電極は、その側面に円筒形状の加熱手段と,前記円筒形の加熱手段の側面に沿った非蒸発ゲッターポンプと,前記加熱手段の側面に沿った非蒸発ゲッターポンプの周囲を囲む磁気シールドとを有することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項13に記載の荷電粒子線装置であって、
前記磁気シールド側面には開口が設けられていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項12に記載の荷電粒子線装置であって、
前記荷電粒子ビーム発生手段は、前記荷電粒子ビームが通過する開口を介してつながる真空室を備え,前記真空室はメイン真空排気手段とサブ真空排気手段とを備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項15に記載の荷電粒子線装置であって、
前記メイン真空排気手段としてイオンポンプを備え,サブ真空排気手段として非蒸発ゲッターポンプを備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項12に記載の荷電粒子線装置であって、
真空立上げの際に装置を加熱して脱ガスを促進するベーキングの温度よりも、前記非蒸発ゲッターポンプを活性化する際の加熱温度を高く設定したことを特徴とする荷電粒子線装置。
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