JP2010008838A - 光共振器及びレーザ光源 - Google Patents

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Abstract

【課題】Si細線光導波路に好適に応用することが可能であり、構造が簡単であるとともに作成が容易である。
【解決手段】
クラッドCLで周囲を囲まれた、クラッドよりも屈折率が大きなコアCOで構成された光導波路14を備える。光導波路は、光共振部としての無終端の周回型光導波路16と、周回型導波路に光を入出力する両端を有する入出力用光導波路18とを備えていて、入出力用光導波路は、光周回型光導波路に一体的に結合している。
【選択図】図1

Description

この発明は、光共振器及びレーザ光源に関する。
近年、光通信技術と半導体技術との融合を目指して、Siを導波路材料とする取り組みがなされ始めている。この分野において、Siで形成したコアを、Siよりも低屈折率なクラッド(例えばSiO)で覆った構造の光導波路を特に、Si細線光導波路と呼ぶ。
Si細線光導波路は、コアとクラッドとの屈折率差が極めて大きいために、光を強くコア中に閉じ込めることができる。これにより、コアの断面寸法をサブミクロンオーダーとすることができる。
さらに、Si細線光導波路は、屈折率差が極めて大きいために、非常に小さい曲率半径の曲線導波路を実現することが可能である。より具体的には、光のロスを実用上許容できる範囲に止めながら、光導波路の曲率半径を1μm程度まで小さくすることができる。
これらのことから、Si細線光導波路を用いれば、Si電子デバイスと同程度の寸法の光回路を実現可能であり、一つのチップ上で光技術と電子技術とを融合するための有力な候補技術と看做されている。
Si細線光導波路の分野では、光共振器として、作成が容易なリング形状のものが良く用いられる。このリング状光共振器を作成するに当たり、最も技術的に困難な点は、リング状光導波路と入出力用光導波路の配置である。
両光導波路の配置については、従来からさまざまな試みがなされている。例えば、リング状光導波路に入出力用光導波路を近接配置する技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。しかし、この技術では、リング状光導波路と入出力用光導波路との間に微細な間隔を確保する必要があり、作成に大きな困難が伴う。
この困難を解決するために、リング状光導波路の上下を入出力用光導波路でサンドイッチする構造が提案されている(例えば、特許文献2参照)。しかし、この構造は、製造プロセス数が大幅に増加してしまうという欠点がある。
また、入出力用光導波路を近接配置せずに、光スイッチを用いてリング状光導波路に光を入出力する方法も提案されている(例えば、特許文献3参照)。しかし、この方法では、素子の寸法が大きくなるとともに、素子構造が複雑になるという欠点を有している。
特開2008−60445号公報 特開2004−279982号公報 特開平5−181028号公報
この発明の発明者は、鋭意検討の結果、周回型光導波路に入出力用光導波路を交差させるか、又は丁字形に接続するという極めて簡単な構造の光共振器で、上述した課題を解決できることに想到した。
従って、この発明の目的は、Si細線光導波路に好適に応用することが可能であり、構造が簡単であるとともに作成が容易な、光共振器及びレーザ光源を提供することにある。
上述の目的の達成を図るために、この発明の光共振器は、クラッドで周囲を囲まれた、クラッドよりも屈折率が大きなコアで構成された光導波路を備える光共振器であって、光導波路は、光共振部としての無終端の周回型光導波路と、周回型導波路に光を入出力する両端を有する入出力用光導波路とを備えていて、入出力用光導波路は、光周回型光導波路に一体的に結合している。
上述の光共振器の実施の形態によれば、周回型光導波路が円形であることが好ましい。
上述の光共振器の実施の形態によれば、入出力用光導波路が1本の線分状であることが好ましい。
上述の光共振器の実施の形態によれば、入出力用光導波路が周回型光導波路に丁字形に結合していることが好ましい。
上述の光共振器の実施の形態によれば、入出力用光導波路が周回型光導波路に交差していることが好ましい。
上述の光共振器の実施の形態によれば、入出力用光導波路と周回型光導波路との交差点が1個であることが好ましい。
上述の光共振器の実施の形態によれば、入出力用光導波路と周回型光導波路との交差点が2個であることが好ましい。
上述の光共振器の実施の形態によれば、入出力用光導波路が2本の線分状であることが好ましい。
上述の光共振器の実施の形態によれば、2本の入出力用光導波路の双方ともが、周回型光導波路に丁字形に結合していることが好ましい。
上述の光共振器の実施の形態によれば、2本の入出力用光導波路の双方ともが、周回型光導波路と交差していることが好ましい。
上述の光共振器の実施の形態によれば、2本の入出力用光導波路の一方が、周回型光導波路と交差し、かつ、2本の入出力用光導波路の他方が、周回型光導波路に丁字形に結合していることいることが好ましい。
上述の光共振器の実施の形態によれば、周回型光導波路が8の字形であることが好ましい。
上述の光共振器の実施の形態によれば、入出力用光導波路が1本の線分状であることが好ましい。
上述の光共振器の実施の形態によれば、入出力用光導波路が、周回型光導波路の前記8の字の交点のみで周回型光導波路と交差していることが好ましい。
上述の光共振器の実施の形態によれば、コアを構成する材料がSiであり、クラッドを構成する材料がSiOであることが好ましい。
上述の光共振器の実施の形態によれば、コアの屈折率が前記クラッドの屈折率の1.4倍以上の大きさであることが好ましい。
また、この発明のレーザ光源は、上述の周回型光導波路の一部領域に活性領域が設けられていることを特徴とする。
この発明は上述のように構成したので、Si細線光導波路に好適に応用することが可能であり、構造が簡単であるとともに作成が容易な、光共振器及びレーザ光源を提供できる。
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態について説明する。なお、各図は、各構成要素の形状、大きさ及び配置関係について、この発明が理解できる程度に概略的に示したものにすぎない。また、以下、この発明の好適な構成例について説明するが、各構成要素の材質及び数値的条件などは、単なる好適例にすぎない。従って、この発明は、以下の実施の形態に何ら限定されない。また、各図において、共通する構成要素には同符号を付し、その説明を省略することもある。
(実施の形態1)
図1〜3を参照して、実施の形態1の光共振器について説明する。
図1は、実施の形態1の光共振器の概略的な構造を示す斜視図である。なお、図1においては、光導波路に対応する部分に斜線を施してある。図2は、図1の光共振器の出力特性を示す図である。
図1を参照すると、光共振器10は、例えば矩形状であって、平坦面を有する基板11に形成されている。より詳細には、基板11は、Siを材料とする下層11aと、SiOを材料とし、後述する光導波路14が形成されている上層11bとを備えている。図1において、光導波路14の領域にはハッチングを施して示してある。
光共振器10は、上層11b中に光導波路14を備えている。この光導波路14は、光共振部としての無終端の周回型光導波路16と、周回型導波路16に一体的に結合されていて、周回型導波路16に光を入出力する両端を有する入出力用光導波路18とを備えている。
より詳細には、コアCOとしての光導波路14は、屈折率n2が3.5であるSiを材料として形成されている。この光導波路14は、クラッドCLとして機能する上層11bのSiO膜(屈折率n1=1.46)で周囲を囲まれている。つまり、この実施の形態の光導波路14は、いわゆるSi細線導波路である。
周回型光導波路16は、無終端で円形のリング状である。周回型光導波路16の光伝播方向に直交する平面で切断した断面形状(横断面形状)が正方形状に形成されている。ここで、この正方形の寸法は、好ましくは、例えば、縦約0.3μm及び横約0.3μmとする。また、周回型光導波路16のリングの半径は、好ましくは、例えば約3μmとする。
入出力用光導波路18は、周回型光導波路16に十字クロスのように平面的に交差する1本の線分状に形成されている。より詳細には、入出力用光導波路18は、周回型光導波路16の外側から内側に跨るように、1個の交差点Cで、周回型光導波路16に交差している。
なお、ここで、入出力用光導波路18は、周回型光導波路16のリングに対して例えば垂直に交わっている。換言すれば、入出力用光導波路18を延長した直線が、周回型光導波路16のリングの中心を通るように、入出力用光導波路18が周回型光導波路16にリングを含む平面内で交差している。
ここで、入出力用光導波路18の基板11の上層11bの側面に露出した一端部を第1光入出力端18aとし、及び、入出力用光導波路18の第1光入出力端18aの反対側の他端部を第2光入出力端18bとする。なお、詳細は後述する動作の項で説明するが、第2光入出力端18bの表面には、光の反射を防止する反射防止膜が設けられている。
入出力用光導波路18の横断面形状は、周回型光導波路16と同様に、0.3×0.3μmの正方形状とする。
光導波路14と基板11の下層11aとの間の間隔は、光導波路14から下層11aの光の漏れ出しを防ぐために、好ましくは、例えば約1μm以上とする。また、光導波路14と基板11の第1主面、すなわち上層11bの露出表面、との間隔は、好ましくは、例えば、約1μmとする。
次に、光共振器10の製造方法について簡単に説明する。光共振器10は、市販のSOI(Silicon on insulator)基板を材料として用い、従来周知の半導体製造プロセスを応用して製造することができる。
すなわち、SOI基板に公知のフォトリソグラフィー工程を用いて、光導波路14の平面形状パターンを転写する。これにより、SiO/Siの積層構造を有する構造体のSiO表面に、Si単結晶を材料とする光導波路14が形成される。
その後、公知のCVD(Chemical Vapor Deposition)法などにより、光導波路14を覆い隠すようにクラッドCLとしてのSiO膜を成膜する。
これにより、図1に示したように、クラッドCLとしてのSiO膜(上層11b)の内部にコアCOとしての光導波路14が形成された光共振器10が得られる。
続いて、光共振器10の動作について説明する。
光共振器10には、第1光入出力端18aから光が入力される。入力された光は、入出力用光導波路18を周回型光導波路16方向に向かって伝播し、交差点Cに至る。
交差点Cにおいて、光は散乱され、一部が周回型光導波路16に結合され、周回型光導波路16を周回し始める。
交差点Cにおいて、散乱されなかった光は、入出力用光導波路18を第2光入出力端18bに向かって伝播し、第2光入出力端18bに設けられた反射防止膜により入出力用光導波路18の外部に散乱される。
なお、第2光入出力端18bに反射防止膜を設けるのは、入出力用光導波路18の第1及び第2光入出力端18a及び18bとの間で不要な光共振器が形成されることを防止するためである。
一方、周回型光導波路16に結合された光は、周回型光導波路16を周回する過程で、周回型光導波路16の光路長により定まる特定波長の光が共振により増幅される。
増幅された光の一部は、交差点Cを通過するたびごとに、散乱されて、一部が入出力用光導波路18に結合される。そして、第1光入出力端18aから出力される。
なお、周回型光導波路16を周回して増幅された光を入出力用光導波路18の第1光入出力端18a側に、確実に出力させるために、周回型光導波路16の光路長を設計段階から適切に決定することにより、光の位相を調整しておけばよい。
次に、図2を参照して、光共振器10の出力特性について説明する。図2において、縦軸は、第1光入出力端18aから出力される光の強度比率(出力光の強度/入力光の強度)(任意単位)を示し、横軸は光の波長(μm)を示す。
なお、図2は、FDTD法(Finite−difference time−domain method)を用いて、第1光入出力端18aから入力する光の波長を変化させながら、出力される光の波長及び強度をシミュレーションして得た特性曲線図である。
図2を参照すると、一定の波長間隔で光強度のピークが見られる。このことから、光共振器10が単一の光路長を有する典型的な光共振器として動作していることが分かる。つまり、入出力用光導波路18が寄生の光共振器として動作していないことが分かる。
このように、この実施の形態のSi細線光導波路製の光共振器10は、構造が非常に簡単であり、かつ半導体製造プロセスを応用することによって、作成容易である。
この実施の形態では、入出力用光導波路18が周回型光導波路16と交差する場合を説明したが、図3(A)に示すように、光共振器10を入出力用光導波路18が周回型光導波路16に丁字形に結合するよう構成してもよい。このようにすることによっても、製造容易かつ構造が簡単なSi細線導波路製の光共振器が得られる。
この実施の形態においては、入出力用光導波路18が、周回型光導波路16に対して十字クロス又は丁字クロスのように垂直に交差する場合を説明した。しかし、入出力用光導波路18は、周回型光導波路16に垂直に交差させなくともよく、例えば図3(B)に示すように、入出力用光導波路18の延長線がリング中心から外れた状態で、リングを含む平面内で交差していれば、単一の光路を有する典型的な光共振器を提供できる。
また、この実施の形態においては、周回型光導波路16が円形又はほぼ完全な円形である場合について説明した。しかし、周回型導波路16は、周回する光のロスを実用上許容できる範囲に抑えることができれば、円形には限定されない。例えば、楕円形や、頂点が丸められた多角形であってもよい。
(実施の形態2)
図4〜図6を参照して、実施の形態2の光共振器について説明する。
図4は、実施の形態2の光共振器20の概略的な構造を示す平面図である。なお、図4においては、光導波路に対応する部分に斜線を施してある。図5は、図4の光共振器の出力特性を示す特性曲線図である。
図4を参照すると、光共振器20は、(1)入出力用光導波路24が2本である点、及び、(2)入出力用光導波路24のそれぞれの対向端にグレーティング26G及び28Gが設けられている点が、光共振器10(図1)と異なっている。従って、以下の記載においては、実施の形態1の光共振器10と同様の構成要素には同符号を付し、それぞれの説明の必要がある場合を除き、重複する説明を適宜省略する。
光共振器20は、基板11に形成されている。なお、基板11の積層構造、及び光導波路22の基板11中における厚み方向の配置は図1と同様である。
光共振器20は、コアCOとしての光導波路22と、光導波路22を囲むクラッドCLとしての上層11b(図1)とで構成されている。なお、光導波路22を構成する材料は、光共振器10と同様にSiである。また、クラッドCLを構成する材料も、光共振器10と同様にSiOである。
光共振器20は、光導波路22として、周回型光導波路16と、入出力用光導波路24とを備えている。
ここで、周回型光導波路16の構成は、寸法を含めて実施の形態1と同様である。
入出力用光導波路24は、周回型光導波路16にそれぞれ交差する2本の線分状に形成されている。そして、入出力用光導波路24は、周回型光導波路16のリングの中心を通る直線上の交差点C1及びC2という2個の交差点で周回型導波路16に平面的に交差している。
より詳細には、入出力用光導波路24は、第1入出力用光導波路26と、第2入出力用光導波路28とを備えている。
第1入出力用光導波路26は、さらに、本体部26Bと、グレーティング26Gとを備えている。この本体部26Bは、周回型光導波路16のリングに対して交差点C1で十字クロス形で垂直に交差している。この本体部26Bは、基板11の上層11bの側面に露出した一端部である第1光入出力端26Baと、本体部26Bの第1光入出力端26Baの反対側の他端部である第2光入出力端26Bbとを有している。
ここで、本体部26Bの部分のうち、周回型光導波路16から、そのリングの中心側へ突出している部分、すなわち交差点C1から第2光入出力端26Bbとの間に位置する部分を、特に、戻し光導波路領域26Bcと称する。この実施の形態では、戻し光導波路領域26Bcの光伝播方向に測った長さを、好ましくは、例えば約0.5μmとする。なお、戻し光導波路領域26Bcの長さについては後述する。
グレーティング26Gは、本体部26Bの延長線上に第2光入出力端26Bbに対向して形成されている。グレーティング26Gは、互いに離間して配置された、第1セグメント26Gaと第2セグメント26Gbとを備えている。
第1及び第2セグメント26Ga及び26Gbの光伝播方向、すなわち本体部26Bの延長線に沿って測った長さは、好ましくは、例えば約0.11μmとする。そして、第1及び第2セグメント26Ga及び26Gb間の間隔を、好ましくは、例えば約0.26μmとする。なお、グレーティング26Gの寸法については後述する。
第2入出力用光導波路28は、周回型光導波路16の中心に対して第1入出力用光導波路26と面対称的に配置されている。この、第2入出力用光導波路28は、本体部28Bと、グレーティング28Gとを備えている。この本体部28Bは、本体部26Bと同様に、周回型光導波路16のリングに対して交差点C2で垂直に交差している。この本体部28Bは、基板11の上層11bの側面に露出した一端部である第1光入出力端28Baと本体部28Bの第1光入出力端28Baの反対側の他端部である第2光入出力端28Bbとを有している。
ここでは、本体部28は、本体部26Bと同様に、交差点C2から第2光入出力端28Bbとの間に位置する戻し光導波路領域28Bcと称する部分を有している。この実施の形態では、戻し光導波路領域28Bcの光伝播方向に測った長さを、好ましくは、例えば約0.5μmとする。なお、戻し光導波路領域28Bcの長さについては後述する。
グレーティング28Gは、本体部28Bの延長線上に第2光入出力端28Bbに対向して形成されている。グレーティング28Gは、互いに離間して配置された、第1セグメント28Gaと第2セグメント28Gbとを備えている。
第1及び第2セグメント28Ga及び28Gbの長さを、好ましくは、例えば約0.11μmとする。そして、第1及び第2セグメント28Ga及び28Gb間の間隔を、好ましくは、例えば約0.26μmとする。なお、グレーティング28Gの寸法については後述する。
続いて、光共振器20の動作について説明する。
光共振器20には、第1入出力用光導波路26の第1光入出力端26Baから光が入力される。入力された光は、第1光入出力用導波路26を周回型導波路16方向に向かって伝播し、交差点C1に至る。
交差点C1において光は散乱され、一部が周回型導波路16に結合され、周回型導波路16を周回し始める。
交差点C1において、散乱されなかった光は、第1光入出力用導波路26の戻し光導波路領域26Bcをグレーティング26G方向に伝播し、グレーティング26Gに至る。
グレーティング26Gに至った光のうち、グレーティング26Gの寸法で決定される特定波長の光(この実施の形態では、波長1.55μmの光)のみが反射され、戻し光導波路領域26Bcを再び交差点C1方向に伝播して、交差点C1に至り、散乱されて、一部が周回型導波路16に結合される。
一方、周回型光導波路16に結合された光は、周回型光導波路16を周回する過程で、周回型光導波路16の光路長により定まる特定波長の光が共振により増幅される。
増幅された光の一部は、交差点C2を通過するたびごとに、散乱されて、一部が第2光入出力用導波路28に結合される。
なお、周回型光導波路16を周回して増幅された光を第2入出力用光導波路28に、確実に出力させるために、周回型光導波路16の光路長を設計段階から適切に決定することにより、光の位相を調整しておけばよい。ここで、光路長の位相の調整は、シミュレーションで所望の波長の出力が最大となるように決定すればよい。
第2光入出力用導波路28に結合された光のうち、第1光入出力端28Ba方向に伝播する光は、第1光入出力端28Baから出力される。一方、第2光入出力用導波路28に結合された光の内、戻し光導波路領域28Bc方向に伝播する光は、グレーティング28Gで反射され、伝播方向を変えられて、第1光入出力端28Baから出力される。
次に、図5を参照して、光共振器20の出力特性について説明する。図5において、縦軸は、第1光入出力端28Baから出力される光の強度比率(出力光の強度/入力光の強度)(任意単位)を示し、横軸は光の波長(μm)を示す。
なお、図5は、図2と同様にFDTD法を用いて、第1光入出力端26Baから入力する光の波長を変化させながら、第1光入出力端28Baから出力される光の波長及び強度を計算したものである。
図5を参照すると、図2の場合よりも明確ではないが、ほぼ一定の波長間隔で光強度のピークが見られるといえる。
また、図2と比較した場合に図5では、ピーク強度が大きいことが分かる。これは、光共振器20においては、グレーティング26Gにより、戻し光導波路領域26Bcを伝播する光を交差点C1において周回型光導波路16に結合させていること、及び、グレーティング28Gにより、戻し光導波路領域28Bcを伝播する光を第1光入出力端28Ba方向に戻していることによると推測される。
すなわち、光共振器20は、実施の形態1の光共振器10に比べて、光の利用効率が高いといえる。
このように、この実施の形態のSi細線光導波路製の光共振器20は、構造が非常に簡単であり、かつ半導体製造プロセスを応用することで作成容易となることが分かった。
この実施の形態では、第1及び第2入出力用光導波路26及び28がグレーティング26G及び28Gを備えている場合につき説明した。しかし、光の利用効率が実用上十分といえる場合には、図6(A)に示すように、グレーティング26G及び28Gを設けなくてもよい。
この実施の形態では、2本の入出力用光導波路26及び28が、周回型光導波路16に交差する場合につき説明した。しかし、図6(B)に示すように第1及び第2入出力用光導波路26及び28の双方ともが、周回型光導波路16に丁字形に結合していてもよい。
また、図6(C)に示すように、第1入出力用光導波路26が、周回型光導波路16と十字クロス形で交差し、かつ、第2入出力用光導波路28が、周回型光導波路16に丁字形に結合していてもよい。
(実施の形態3)
図7〜図10を参照して実施の形態3の光共振器について説明する。
図7は、実施の形態3の光共振器の概略的な構造を示す平面図である。なお、図7においては、光導波路に対応する部分に斜線を施してある。図8は、この実施の形態の光共振器における光伝播経路の説明に供する模式図である。図9は、図7の光共振器の出力特性を示す特性曲線図である。
図7を参照すると、光共振器40は、(1)入出力用光導波路44が、周回型光導波路16のリングを貫いており、その結果、入出力用光導波路44と周回型光導波路16とが2つの交差点C3及びC4で交差している点が光共振器10(図1)と異なっている。従って、以下の説明においては、実施の形態1の光共振器10と同様の構成要素には同符号を付し、それぞれの説明の必要がある場合を除き、その説明を適宜省略する。
光共振器40は、基板11に形成されている。なお、基板11の積層構造、及び光導波路42の基板11中における厚み方向の配置は実施の形態1と同様である。
光共振器40は、コアCOとしての光導波路42と、光導波路42を囲むクラッドCLとしての上層11b(図1)とで構成されている。なお、光導波路42を構成する材料は、光共振器10と同様にSiである。また、クラッドCLを構成する材料も、光共振器10と同様にSiOである。
光共振器40は、光導波路42として、周回型光導波路16と、入出力用光導波路44とを備えている。
ここで、周回型光導波路16の構成は、寸法を含めて実施の形態1と同様である。
入出力用光導波路44は、周回型光導波路16と2点の交差点C3及びC4で交差する1本の線分状に形成されていて、周回型光導波路16のリングの中心を貫くように、周回型光導波路16のリングに対して垂直に面的に交差している。
ここで、入出力用光導波路44の基板11の上層11bの側面に露出した一端部を第1光入出力端44aとし、及び、同じく上層11bの側面に露出した、入出力用光導波路44の第1光入出力端44aの反対側の他端部を第2光入出力端44bとする。
入出力用光導波路44の断面の寸法は、実施の形態1の入出力用光導波路18と同様に0.3×0.3μmの正方形状である。
続いて、光共振器40の動作について説明する。
光共振器40には、入出力用光導波路44の第1光入出力端44aから光が入力される。入力された光は、入出力用導波路44を周回型導波路16方向に向かって伝播し、交差点C3に至る。交差点C3において光は散乱され、一部が周回型導波路16に結合され、周回型導波路16を周回し始める。交差点C3において、散乱されなかった光は、光入出力用導波路44を交差点C4方向に伝播する。
交差点C4に至った光は、交差点C4で再び散乱され、一部が周回型光導波路16に結合され、周回型光導波路16を周回し始める。交差点C4において、散乱されなかった光は、入出力用光導波路44を第2光入出力端44b方向に伝播し、第2光入出力端44bから、外部へと捨てられる。
一方、周回型光導波路16に結合された光は、周回型光導波路16を周回する過程で、光共振器40の光路長により定まる特定波長の光が共振により増幅される。
共振により増幅された光は、交差点C4で散乱され第2光入出力端44bから出力される。なお、周回型光導波路16を周回して増幅された光を第2光入出力端44bに、確実に出力させるために、周回型光導波路16の光路長を設計段階から適切に決定することにより、光の位相を調整しておけばよい。
なお、光共振器40においては、入出力用光導波路44が周回型光導波路16を貫いて配置されている。その結果、光共振器40には、周回型導波路16及び入出力用光導波路44を組み合わせたさまざまな光路長の光伝播経路が形成されるとこに留意が必要である。
この点について図8を参照してより詳細に説明する。図8(A)及び(B)は、交差点C3で周回型光導波路16に結合された光が取り得る光伝播経路の一例を説明するための模式図である。
図8(A)は、交差点C3で周回型光導波路16に結合された光が、周回型光導波路16を一周して再び交差点C3に戻り、再び周回型光導波路16を周回する場合を示している。この場合、光の共振に寄与する光路長は、周回型光導波路16の周長となる。
図8(B)は、交差点C3で周回型光導波路16に結合された光が、周回型光導波路16を半周伝播して、交差点C4で散乱され、入出力用光導波路44を伝播して交差点C4に戻り、再び交差点C4で散乱されて、周回型光導波路16に結合される場合を示している。この場合、光の共振に寄与する光路長は、周回型光導波路16の半周+周回型導波路16の直径の長さとなる。
このように、光共振器40では、光の共振に寄与する、異なる複数の光路長が存在することとなる。その結果、光共振器40の共振特性は、最も単純な光共振器である光共振器10とは異なってくる。この点については、図9を参照して、後述する。
続いて、図9を参照して、光共振器40の出力特性について説明する。図9において、縦軸は、第2光入出力端44bから出力される光の強度比率(出力光の強度/入力光の強度)(任意単位)を示し、横軸は光の波長(μm)を示す。
なお、図9は、図2と同様にFDTD法を用いて、第1光入出力端44aから入力する光の波長を変化させながら、第2光入出力端44bから出力される光の波長及び強度をシミュレーションして得られた特性曲線図である。
図9を参照すると、図2及び図4よりも光強度のピーク間隔が不規則であることが分かる。これは、図8を用いて説明したように、光共振器40では、共振に寄与する、異なる長さの光路長が存在するためであると推測される。つまり、光路長が異なる光が周回型光導波路16中で混ざり合うことにより干渉が生じるために、光共振器40の波長特性が複雑になっていたと考えられる。
ただ、光共振器40は、交差点C3及びC4の2点において、入出力用光導波路44を伝播する光を周回型光導波路16に結合することができる。その結果、光の利用効率が高くなり、光共振器40から出力される出力光の強度比率が大きくなる。
このように、この実施の形態のSi細線光導波路製の光共振器40は、構造が非常に簡単であり、かつ半導体製造プロセスを応用することで作成容易であることが分かる。
(実施の形態4)
図10〜図12を参照して、実施の形態4の光共振器について説明する。
図10は、実施の形態4の光共振器60の概略的な構造を示す平面図である。なお、図10においては、光導波路に対応する部分に斜線を施してある。図11は、図10の光共振器の出力特性を示す特性曲線図である。
図10を参照すると、光共振器60は、(1)周回型光導波路62が8の字形である点、及び、(2)入出力用光導波路18が8の字の交点のみで周回型光導波路62に平面的に交差している点が、光共振器10(図1)と異なっている。従って、以下の記載においては、実施の形態1の光共振器10と同様の構成要素には同符号を付し、それぞれの説明の必要がある場合を除き、その説明を適宜省略する。
光共振器60は、基板11に形成されている。なお、基板11の積層構造、及び光導波路64の基板11中における厚み方向の配置は図1と同様である。
光共振器60は、コアCOとしての光導波路64と、光導波路64を囲むクラッドCLとしての上層11b(図1)とで構成されている。なお、光導波路64を構成する材料は、光共振器10と同様にSiである。また、クラッドCLを構成する材料も、光共振器10と同様にSiOである。
光共振器60は、光導波路64として、周回型光導波路62と、入出力用光導波路18とを備えている。
ここで、入出力用光導波路18の構成は、寸法を含めて実施の形態1と同様である。
周回型光導波路62は、言わば平面的に8の字形に形成されている。より詳細には、周回型光導波路62は、交差点C5で交差する2本の直線部62a及び62bと、直線部62a及び62bの端部同士を接続する、半円形の2つの曲線部62c及び62dとを備えている。
直線部62a及び62bは、共に直線状に延在する光導波路である。そして、直線部62a及び62bの光伝播方向に測った全長の中点としての交差点C5で互いに接続している。
曲線部62cは、直線部62aの一端部62a1と直線部62bの一端部62b1とを接続している。曲線部62cは、半径が一定の半円形リングである。なお、この実施の形態では、曲線部62cの半径は、好ましくは、例えば約3μmとする。
曲線部62dは、直線部62aの他端部62a2と直線部62bの他端部62b2とを接続している。曲線部62dは、半径が曲線部62cと等しい半円形リングである。
これらの結果、周回型光導波路62は、平面形状が涙滴型の2個のリング状光導波路を、交差点C5を対称の中心として、点対称に配置したような構造を有している。
入出力用光導波路18は、交差点C5の一点のみにおいて、周回型光導波路62と交差している。より詳細には、入出力用光導波路18が、交差点C5において、直線部62aとなす交差角α、及び直線部62bとなす交差角αとは互いに等しい。
続いて、光共振器60の動作について説明する。
光共振器60には、第1光入出力端18aから光が入力される。入力された光は、入出力用光導波路18を周回型光導波路16方向に向かって伝播し、交差点C5に至る。
交差点C5において、光は散乱され、一部が周回型光導波路62に結合され、周回型光導波路62を周回し始める。
交差点Cにおいて、散乱されなかった光は、入出力用光導波路18を第2光入出力端18bに向かって伝播し、第2光入出力端18bから入出力用光導波路18の外部に捨てられる。
周回型光導波路62に結合された光は、例えば、矢印B1→矢印B2→矢印B3→矢印B4の光伝播経路(又はこの逆経路)で、周回型光導波路62を伝播する。周回の過程で光は、周回型光導波路62の光路長により定まる特定波長の光が共振により増幅される。
増幅された光の一部は、交差点C5を通過するたびごとに、散乱されて、一部が入出力用光導波路18に結合される。そして、第2光入出力端18bから出力される。
なお、周回型光導波路62を周回して増幅された光を入出力用光導波路18の第2光入出力端18b側に、確実に出力させるために、周回型光導波路62の光路長を設計段階から適切に決定することにより、光の位相を調整しておけばよい。
次に、図11を参照して、光共振器60の出力特性について説明する。図11において、縦軸は、第2光入出力端18bから出力される光の強度比率(出力光の強度/入力光の強度)(任意単位)を示し、横軸は光の波長(μm)を示す。
なお、図11は、FDTD法を用いて、第1光入出力端18aから入力する光の波長を変化させながら、第2光入出力端18bから出力される光の波長及び強度をシミュレーションして得られた特性曲線図である。
図11を参照すると、一定の波長間隔で光強度のピークが見られる。このことから、光共振器60が単一の光路長を有する典型的な光共振器として動作していることが分かる。また、図11は、図2、図5及び図9に比較してピークの波長間隔が狭いが、これは、光共振器60の光路長が、他の光共振器10、20及び40に比較して長いためであると推測される。
このように、この実施の形態のSi細線光導波路製の光共振器60は、構造が非常に簡単であり、かつ半導体製造プロセスを応用することで作成容易であることが分かる。
この実施の形態では、入出力用光導波路18が、周回型光導波路62に交差点C5において平面的に交差する場合について説明した。しかし、入出力用光導波路18は、図12に示すように交差点C5に丁字形に結合していてもよい。
また、(実施の形態1)〜(実施の形態4)に共通して、入出力用光導波路から周回型光導波路への光の結合効率は、交差点の形状を調整することにより変更することができる。
すなわち、入出力用導波路の光伝播方向に直交する方向の寸法を小さくすることにより、周回型光導波路への光の結合効率を高めることができる。
さらに、周回型光導波路の一部領域を、光を発振する活性領域とすることにより、(実施の形態1)〜(実施の形態4)の光共振器をレーザ光源として使用することができる。
実施の形態1の光共振器の概略的な構造を示す斜視図である。 実施の形態1の光共振器の出力特性を示す特性曲線図である。 実施の形態1の光共振器の変形例を示す図である。 実施の形態2の光共振器の概略的な構造を示す平面図である。 実施の形態2の光共振器の出力特性を示す特性曲線図である。 実施の形態2の光共振器の変形例を示す図である。 実施の形態3の光共振器の概略的な構造を示す平面図である。 実施の形態3の光共振器における光伝播経路の説明に供する模式図である。 実施の形態3の光共振器の出力特性を示す特性曲線図である。 実施の形態4の光共振器の概略的な構造を示す平面図である。 実施の形態4の光共振器の出力特性を示す特性曲線図である。 実施の形態4の光共振器の変形例を示す図である。
符号の説明
10,20,40,60 光共振器
11 基板
11a 下層
11b 上層
14,22,42,64 光導波路
16,62 周回型光導波路
18,24,44 入出力用光導波路
18a,26Ba,28Ba,44a 第1光入出力端
18b,26Bb,28Bb,44b 第2光入出力端
26 第1入出力用光導波路
26B,28B 本体部
26Bc,28Bc 戻し光導波路領域
26G,28G グレーティング
26Ga,28Ga 第1セグメント
26Gb,28Gb 第2セグメント
28 第2入出力用光導波路
62a,62b 直線部
62a1,62b1 一端部
62a2,62b2 他端部
62c,62d曲線部

Claims (17)

  1. クラッドで周囲を囲まれた、該クラッドよりも屈折率が大きなコアで構成された光導波路を備える光共振器であって、
    前記光導波路は、光共振部としての無終端の周回型光導波路と、該周回型導波路に光を入出力する両端を有する入出力用光導波路とを備えていて、
    該入出力用光導波路は、前記光周回型光導波路に一体的に結合していることを特徴とする光共振器。
  2. 前記周回型光導波路が円形であることを特徴とする請求項1に記載の光共振器。
  3. 前記入出力用光導波路が1本の線分状であることを特徴とする請求項2に記載の光共振器。
  4. 前記入出力用光導波路が前記周回型光導波路に丁字形に結合していることを特徴とする請求項3に記載の光共振器。
  5. 前記入出力用光導波路が前記周回型光導波路に交差していることを特徴とする請求項3に記載の光共振器。
  6. 前記入出力用光導波路と前記周回型光導波路との交差点が1個であることを特徴とする請求項5に記載の光共振器。
  7. 前記入出力用光導波路と前記周回型光導波路との交差点が2個であることを特徴とする請求項5に記載の光共振器。
  8. 前記入出力用光導波路が2本の線分状であることを特徴とする請求項2に記載の光共振器。
  9. 前記2本の入出力用光導波路の双方ともが、前記周回型光導波路に丁字形に結合していることを特徴とする請求項8に記載の光共振器。
  10. 前記2本の入出力用光導波路の双方ともが、前記周回型光導波路と交差していることを特徴とする請求項8に記載の光共振器。
  11. 前記2本の入出力用光導波路の一方が、前記周回型光導波路と交差し、かつ、前記2本の入出力用光導波路の他方が、前記周回型光導波路に丁字形に結合していることいることを特徴とする請求項8に記載の光共振器。
  12. 前記周回型光導波路が8の字形であることを特徴とする請求項1に記載の光共振器。
  13. 前記入出力用光導波路が1本の線分状であることを特徴とする請求項12に記載の光共振器。
  14. 前記入出力用光導波路が、前記周回型光導波路の前記8の字の交点のみで当該周回型光導波路と交差していることを特徴とする請求項13に記載の光共振器。
  15. 前記コアを構成する材料がSiであり、前記クラッドを構成する材料がSiOであることを特徴とする請求項1〜14のいずれか一項に記載の光共振器。
  16. 前記コアの屈折率が前記クラッドの屈折率の1.4倍以上の大きさであることを特徴とする請求項1〜15のいずれか一項に記載の光共振器。
  17. 請求項1〜16のいずれか一項に記載の光共振器の前記周回型光導波路の一部領域に活性領域が設けられていることを特徴とするレーザ光源。

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