JP2010008831A - 光学素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光硬化性樹脂液20に光線を照射して、軸状に硬化領域が伸びるコア21を自己形成する。コア21の形成前、形成後、又は、形成と同時に、コアの軸に対して交差する方向から、光を、軸の方向に所定幅と所定間隔を有した複数の領域を有したパターンで、光硬化性樹脂液20に照射して光硬化させて、第1の屈折率を有した第1領域51を形成し、コア21の形成の後に、隣接する第1領域の間に第1の屈折率よりも屈折率の小さな第2の屈折率を有した第2領域52とを形成して、第1領域と第2領域とが軸方向に沿って交互に配列された周期的構造50を形成する。
【選択図】 図1
Description
他の発明は、上記の製造方法の発明において、光硬化性樹脂液は、硬化時の屈折率が、光硬化性樹脂液全体の硬化時の屈折率よりも高い第1光硬化性樹脂液(単数又は複数)と、硬化時の屈折率がこの第1光硬化性樹脂液の硬化時の屈折率よりも低い屈折率を有した第2光硬化性樹脂液(単数又は複数)とを少なくとも含む混合液であり、コアと第1領域は第1光硬化性樹脂液を選択的に硬化させ、第2領域は光硬化性樹脂液の全体を硬化させることを特徴とする。
また、他の発明は、上記の製造方法の発明において、少なくとも周期的構造を形成する場合の光硬化性樹脂液は、硬化時の屈折率が、光硬化性樹脂液全体の硬化時の屈折率よりも高い第1光硬化性樹脂液(単数又は複数)と、硬化時の屈折率がこの第1光硬化性樹脂液の硬化時の屈折率よりも低い屈折率を有した第2光硬化性樹脂液(単数又は複数)とを少なくとも含む混合液であり、第1領域は第1光硬化性樹脂液を波長選択硬化させ、第2領域は光硬化性樹脂液の全体を硬化させることを特徴とする。
また、他の発明は、上記の製造方法の発明において、コアは、第1光硬化性樹脂液(単数又は複数)又はその硬化時の屈折率よりも高い硬化時の屈折率を有した光硬化性樹脂液(単数又は複数)を軸状に硬化させて形成し、その後、コアの周囲の光硬化性樹脂液を、光硬化性樹脂液(単数又は複数)に入れ換えた後、周期的構造を形成することを特徴とする。
また、他の発明は、上記の製造方法の発明において、周期的構造は、短冊状で周期的光を透過するマスクパターンにより、光を照射して光硬化により、第1領域を形成することを特徴とする。
脂肪族系としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の多価アルコールを挙げることができる。
ラジカル重合性材料としては、ラジカル重合可能なアクリロイル基等のエチレン性不飽和反応性基を構造単位中に1個以上、好ましくは2個以上有する光重合性モノマー及び/又はオリゴマーを採用することができる。エチレン性不飽和反応性基を有するものの例としては、(メタ)アクリル酸エステル、イタコン酸エステル、マレイン酸エステル等の共役酸エステルを挙げることができる。
カチオン重合性材料としては、カチオン重合可能なオキシラン環(エポキシド)、オキセタン環等の反応性エーテル構造を構造単位中に1個以上、好ましくは2個以上有する、光重合性のモノマー及び/又はオリゴマーを採用することができる。オキシラン環(エポキシド)としては、オキシラニル基の他、3,4-エポキシシクロヘキシル基なども含まれる。またオキセタン環とは、4員環構造のエーテルである。
ラジカル重合開始剤は、ラジカル重合性モノマー及び/又はオリゴマーから成るラジカル重合性材料の重合反応を光によって活性化する化合物である。具体例としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾインプロピルエーテル等のベンゾイン類、アセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジエトキシ-2-フェニルアセトフェノン、1,1-ジクロロアセトフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-(4-(メチルチオ)フェニル)-2-モルホリノプロパン-1-オン及びN,N-ジメチルアミノアセトフェノン等のアセトフェノン類、2-メチルアントラキノン、1-クロロアントラキノン及び2-アミルアントラキノン等のアントラキノン類、2,4-ジメチルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン及び2,4-ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類、アセトフェノンジメチルケタール及びベンジルジメチルケタール等のケタール類、ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、4,4'-ジクロロベンゾフェノン、4,4'-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーズケトン及び4-ベンゾイル-4'-メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン類、並びに2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。尚、ラジカル重合開始剤は、単独で使用しても、2種以上を併用しても良く、また、これらに限定されることはない。
カチオン重合開始剤は、カチオン重合性モノマー及び/又はオリゴマーから成るカチオン重合性材料の重合反応を光によって活性化する化合物である。具体例としては、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレニウム塩、ピリジニウム塩、フェロセニウム塩、ホスホニウム塩、チオピリニウム塩が挙げられるが、熱的に比較的安定であるジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、フェニル(p-アニシル)ヨードニウム、ビス(p-t-ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p-クロロフェニル)ヨードニウムなどの芳香族ヨードニウム塩、ジフェニルスルホニウム、ジトリルスルホニウム、フェニル(p-アニシル)スルホニウム、ビス(p-t-ブチルフェニル)スルホニウム、ビス(p-クロロフェニル)スルホニウムなどの芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩光重合開始剤が好ましい。芳香族ヨードニウム塩および芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩光重合開始剤を使用する場合、アニオンとしてはBF4 -、AsF6 -、SbF6 -、PF6 -、B(C6F5)4 -などが挙げられる。尚、カチオン重合開始剤は単独で使用しても、2種以上を併用しても良く、また、これらに限定されることはない。
20…光硬化性樹脂液
21…コア
22…第1コア
23…第2コア
40…フォトマスク
50…周期的構造
51…第1領域
52…第2領域
Claims (7)
- 樹脂製の光導波路を用いた光学素子において、
軸状に形成されたコアと、
前記コアの軸に対して交差し、所定厚さを有し、屈折率が相互に異なる第1領域と第2領域の繰り返しから成る周期的構造と
を有することを特徴とする光学素子。 - 前記コアの屈折率と前記周期的構造における前記第1領域の屈折率とは等しく、前記第2領域の屈折率は、第1領域の屈折率よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
- 樹脂製の光導波路を用いた光学素子の製造方法において、
光硬化性樹脂液に光線を照射して、軸状に硬化領域が伸びるコアを自己形成し、
前記コアの形成前、形成後、又は、形成と同時に、前記コアの軸に対して交差する方向から、光を、前記軸の方向に所定幅と所定間隔を有した複数の領域を有したパターンで、前記光硬化性樹脂液に照射して光硬化させて、第1の屈折率を有した第1領域を形成し、
前記コアの形成の後に、隣接する前記第1領域の間に前記第1の屈折率よりも屈折率の小さな第2の屈折率を有した第2領域とを形成して、
前記第1領域と前記第2領域とが前記軸方向に沿って交互に配列された周期的構造を形成する
ことを特徴とする光学素子の製造方法。 - 前記光硬化性樹脂液は、硬化時の屈折率が、光硬化性樹脂液全体の硬化時の屈折率よりも高い第1光硬化性樹脂液と、硬化時の屈折率がこの第1光硬化性樹脂液の硬化時の屈折率よりも低い屈折率を有した第2光硬化性樹脂液とを少なくとも含む混合液であり、前記コアと前記第1領域は前記第1光硬化性樹脂液を選択的に硬化させ、前記第2領域は前記光硬化性樹脂液の全体を硬化させることを特徴とする請求項3に記載の光学素子の製造方法。
- 少なくとも前記周期的構造を形成する場合の前記光硬化性樹脂液は、硬化時の屈折率が、光硬化性樹脂液全体の硬化時の屈折率よりも高い第1光硬化性樹脂液と、硬化時の屈折率がこの第1光硬化性樹脂液の硬化時の屈折率よりも低い屈折率を有した第2光硬化性樹脂液とを少なくとも含む混合液であり、前記第1領域は前記第1光硬化性樹脂液を波長選択硬化させ、前記第2領域は前記光硬化性樹脂液の全体を硬化させることを特徴とする請求項3に記載の光学素子の製造方法。
- 前記コアは、前記第1光硬化性樹脂液又はその硬化時の屈折率よりも高い硬化時の屈折率を有した光硬化性樹脂液を軸状に硬化させて形成し、
その後、前記コアの周囲の光硬化性樹脂液を、前記光硬化性樹脂液に入れ換えた後、前記周期的構造を形成することを特徴とする請求項5に記載の光学素子の製造方法。 - 前記周期的構造は、短冊状で周期的光を透過するマスクパターン又は干渉縞により、光を照射して光硬化により、前記第1領域を形成することを特徴とする請求項4乃至請求項6の何れか1項に記載の光学素子の製造方法。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0961609A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-03-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波路型波長フィルタ |
JP2001133649A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-05-18 | Fdk Corp | 光導波路グレーティングの製造方法 |
JP2002504701A (ja) * | 1998-02-20 | 2002-02-12 | コーニング インコーポレイテッド | 光信号装置のための回折格子の製作方法および該回折格子を備えた光信号装置 |
JP2003294968A (ja) * | 1999-03-29 | 2003-10-15 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光伝送路の製造方法 |
JP2008134630A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-06-12 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 成形体及びその製造方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0961609A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-03-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波路型波長フィルタ |
JP2002504701A (ja) * | 1998-02-20 | 2002-02-12 | コーニング インコーポレイテッド | 光信号装置のための回折格子の製作方法および該回折格子を備えた光信号装置 |
JP2003294968A (ja) * | 1999-03-29 | 2003-10-15 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光伝送路の製造方法 |
JP2001133649A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-05-18 | Fdk Corp | 光導波路グレーティングの製造方法 |
JP2008134630A (ja) * | 2006-10-31 | 2008-06-12 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 成形体及びその製造方法 |
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