JP2010008539A - 発光装置および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板10の面上には受光素子Rと発光素子Eとが形成される。受光素子Rは、発光素子Eからの出射光を検出する。基板10に垂直な方向からみて受光素子Rと発光素子Eとは重なり合わない。受光素子Rは、導電型が異なる第1領域41と第2領域42とを有する受光層40を含む。第1領域41は第2領域42からみて発光素子E側に位置する。第1検出電極51は第1領域41に導通し、第2検出電極52は第2領域42に導通する。第1領域41のうち第1検出電極51に重なる部分の面積は、第2領域42のうち第2検出電極52に重なる部分の面積よりも小さい。
【選択図】図3
Description
図1は、本発明の第1実施形態に係る発光装置を露光装置(光ヘッド)として利用した電子写真方式の画像形成装置の部分的な構造を示す斜視図である。図1に示すように、画像形成装置は、発光装置100と感光体ドラム70と集束性レンズアレイ80とを具備する。発光装置100は、X方向(主走査方向)に沿って多数の発光素子Eが形成された長尺状の基板10を含む。感光体ドラム70は、X方向の回転軸に支持された円柱体であり、外周面を基板10に対向させた状態で回転する。発光装置100と感光体ドラム70との間隙に配置された集束性レンズアレイ80は、各発光素子Eからの出射光を感光体ドラム70の外周面に結像させる。以上の露光によって感光体ドラム70の外周面には所望の画像に応じた潜像(静電潜像)が形成される。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。なお、以下の各形態において第1実施形態と共通する要素については、以上と同じ符号を付して各々の詳細な説明を適宜に省略する。
図6は、本発明の第3実施形態に係る発光装置100における単位回路Uの平面図である。図6に示すように、受光層40は、X方向に連続に延在する単一の第1領域41と、相互に間隔をあけてX方向に配列する複数の第2領域42および複数の真性領域44とで構成される。
図7は、本発明の第4実施形態に係る発光装置100における単位回路Uの平面図であり、図8は、図7におけるVIII−VIII線の断面図である。図7および図8に示すように、基板10に垂直な方向からみて発光素子Eを挟んで受光素子Rとは反対側には反射層562および反射層564が形成される。反射層562は、駆動トランジスタTDRのゲート電極34と同層から形成された光反射性の膜体であり、反射層564は、駆動トランジスタTDRのソース電極36やドレイン電極38と同層から形成された光反射性の膜体である。図7に示すように反射層562および反射層564はX方向に延在する。
以上の各形態には以下に例示するような様々な変形が加えられる。なお、以下の例示から2以上の態様を任意に選択して組合わせてもよい。
以上の各形態においてはPIN型のフォトダイオードを受光素子Rとして利用したが、受光素子Rの構成(種類)は任意に変更される。例えば、PN型のダイオード(以上の各形態における真性領域44を省略した構成)やフォトトランジスタを受光素子Rとして利用した形態も好適である。
以上の各形態においては1個の発光素子E毎に1個の受光素子Rを配置したが、受光素子Rの個数(発光素子Eとの個数比)は任意に変更される。例えば、図9に示すように、複数(図9においては3個)の発光素子Eを単位として1個の受光素子Rを配置した構成も採用される。受光素子Rは、図9のように複数の発光素子Eからの出射光を受光してもよいし、1個の発光素子Eからの出射光のみを受光してもよい。
第4実施形態における反射層(562,564)の形状は適宜に変更される。例えば、図10や図11に示すように、基板10に垂直な方向からみて発光素子E側が凹状となる折線状(図10)または曲線状(図11)の形状に反射層562および反射層564を形成した構成も好適である。図10や図11の構成によれば、発光素子Eからの出射光が効率的に受光素子Rに集光されるという利点がある。
画素回路Gの構成は任意である。さらに具体的には、駆動トランジスタTDRの位置は適宜に変更される。例えば、駆動トランジスタTDRを発光素子Eに対して並列に配置した構成も好適である。また、受光素子Eの受光層40と同工程で形成される半導体層を含むトランジスタは駆動トランジスタTDRに限定されない。例えば、駆動トランジスタTDRのゲートと駆動回路22の出力端(データ線)との導通を制御する選択トランジスタを画素回路Gが含む構成において、受光素子Eの受光層40は選択トランジスタの半導体層と同層から形成される。すなわち、基板10の面上に形成されて発光素子Eの駆動に使用されるトランジスタ(例えば駆動トランジスタTDRや選択トランジスタ)の半導体層と同層から受光素子R(受光層40)を形成した構成が本発明においては好適である。
以上の各形態において同層から形成された各要素を個別に形成してもよい。例えば、受光素子Rの受光層40は、駆動トランジスタTDRの半導体層32とは別個の工程で形成され、第1検出電極51または第2検出電極52や第2実施形態の導通用電極54は、駆動トランジスタTDRのソース電極36やドレイン電極38とは別個の工程で形成される。また、第4実施形態の反射層562や反射層564は、駆動トランジスタTDRのゲート電極34やソース電極36とは別個の工程で形成される。もっとも、発光装置100の各要素が同層から形成される構成においては、各々が独立に形成される場合と比較して発光装置100の製造工程が簡素化されるという利点がある。
発光素子Eの構成は適宜に変更される。例えば、図4に例示した発光層66は複数の単位回路Uにわたって連続するが、各単位回路Uの発光層66を相互に離間させた構成も好適である。また、有機EL素子は発光素子の例示であり、無機EL素子やLED(Light Emitting Diode)素子などの発光素子を具備する発光装置にも以上の各形態と同様に本発明が適用される。本発明における発光素子は、電気エネルギの供給(電界の印加や電流の供給)によって発光する電気光学素子である。
次に、以上の各形態に係る発光装置100を利用した電子機器(画像形成装置)の具体的な形態を説明する。
Claims (14)
- 基板の面上に形成された発光素子と、
前記基板の面上のうち前記発光素子に重なる領域以外の領域に形成されて前記発光素子からの出射光を検出する受光素子と
を具備する発光装置。 - 前記発光素子は、前記受光素子を覆う絶縁層の面上に形成され、
前記発光素子からの出射光の一部は前記絶縁層および前記基板を透過して出射する
請求項1の発光装置。 - 前記受光素子は、導電型が異なる第1領域と第2領域とを有する受光層を含み、
前記第1領域は前記第2領域と前記発光素子との間に位置する
請求項2の発光装置。 - 前記第1領域に導通する第1検出電極と、
前記第2領域に導通する第2検出電極とを具備し、
前記第1領域のうち前記第1検出電極に重なる部分の面積は、前記第2領域のうち前記第2検出電極に重なる部分の面積よりも小さい
請求項3の発光装置。 - 前記第1領域のシート抵抗は前記第2領域のシート抵抗よりも低い
請求項4の発光装置 - 前記受光層は、前記発光素子から前記受光素子に向かう第1方向に交差する第2方向に前記第1領域と前記第2領域とが延在する単一の膜体である
請求項3の発光装置。 - 前記第1領域の一部に重なる部分が前記第1領域に導通する第1検出電極と、
前記第2領域に重なるとともに前記第2方向に延在する部分が前記第2領域に導通する第2検出電極と
を具備する請求項6の発光装置。 - 前記受光層は、前記発光素子から前記受光素子に向かう第1方向に交差する第2方向に相互に間隔をあけて配列するとともに各々が前記第1領域と前記第2領域とを有する複数の単位部を含み、
前記各単位部の前記第1領域は相互に導通し、
前記各単位部の前記第2領域は相互に導通する
請求項3の発光装置。 - 相隣接する前記各単位部の間隔を跨ぐように当該間隔毎に相互に離間して形成され、前記第1領域の一部に重なる部分が前記第1領域に導通する複数の導通用電極と、
前記複数の単位部の前記各第2領域にわたって連続するように前記第2方向に延在する部分が前記各第2領域に導通する第2検出電極と
を具備する請求項8の発光装置。 - 前記受光層は、前記発光素子から前記受光素子に向かう第1方向に交差する第2方向に沿って連続に延在する前記第1領域と、前記第2方向に相互に間隔をあけて配列する複数の前記第2領域とを含み、
前記各単位部の前記第2領域は相互に導通する
請求項3の発光装置。 - 前記第1領域の一部に重なる部分が前記第1領域に導通する第1検出電極と、
前記複数の単位部の前記各第2領域にわたって連続するように前記第2方向に延在する部分が前記各第2領域に導通する第2検出電極と
を具備する請求項10の発光装置。 - 前記基板の面上に形成されて前記発光素子の駆動に使用されるトランジスタを具備し、
前記受光素子は、前記トランジスタの半導体層と同層から形成される
請求項1から請求項11の何れかの発光装置。 - 前記基板の面上において前記発光素子を挟んで前記受光素子とは反対側に形成された反射層を具備する
請求項1から請求項12の何れかの発光装置。 - 請求項1から請求項13の何れかの発光装置を具備する電子機器。
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