JP2010001255A - トリアルキルシリル基で保護されたアセト酢酸エステル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法 - Google Patents
トリアルキルシリル基で保護されたアセト酢酸エステル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010001255A JP2010001255A JP2008162108A JP2008162108A JP2010001255A JP 2010001255 A JP2010001255 A JP 2010001255A JP 2008162108 A JP2008162108 A JP 2008162108A JP 2008162108 A JP2008162108 A JP 2008162108A JP 2010001255 A JP2010001255 A JP 2010001255A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- formula
- acetoacetate
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 0 C*NCCCOC(CC(C)=O)=O Chemical compound C*NCCCOC(CC(C)=O)=O 0.000 description 6
- RITDOYZZEIMVAY-WAYWQWQTSA-N C/C(/N=O)=C/C(OCC=C)=O Chemical compound C/C(/N=O)=C/C(OCC=C)=O RITDOYZZEIMVAY-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- RITDOYZZEIMVAY-AATRIKPKSA-N C/C(/N=O)=C\C(OCC=C)=O Chemical compound C/C(/N=O)=C\C(OCC=C)=O RITDOYZZEIMVAY-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Description
で表される化合物を合成し、次いでこの式(5)の化合物と下記一般式(6)
HSi(CH3)n(OR2)3-n (6)
(式中、R2は炭素数1〜6のアルキル基を示し、nは0,1又は2である。)
で表されるヒドロアルコキシシランとを、白金含有触媒の存在下にて付加反応させることを特徴とする上記一般式(1)で表されるトリアルキルシリル基で保護されたアセト酢酸エステル基含有有機ケイ素化合物の製造方法を提供する。
下記式中、Meはメチル基、Etはエチル基、t−Buはtert−ブチル基、i−Prはイソプロピル基を示す。
HSi(CH3)n(OR2)3-n (6)
(式中、R2は炭素数1〜6のアルキル基を示し、nは0,1又は2である。)
上記の付加反応における圧力条件は、特に制限がなく、常圧もしくは加圧で実施できるが、一般的には常圧で十分である。
また、得られた式(1)の化合物は、いずれも蒸留によって精製することができる。
アセト酢酸アリルとヘキサメチルジシラザンとを、公知の方法によって反応させて合成したトリメチルシリル化アセト酢酸アリル53.6g(0.25モル、異性体混合物)とPt原子を3.8×10-5モル含有したKarstedt触媒とを、事前に十分に窒素置換した、撹拌機と温度計と水冷コンデンサー及び滴下漏斗を装備した200ミリリットルの反応器に仕込み、油浴にて70℃に調整した。次いで、滴下漏斗を用いて、メチルジメトキシラン23.9g(0.225モル)を、70〜80℃の温度範囲に内温を管理しつつ、3時間で滴下し、滴下終了後更に1時間撹拌して熟成を行った。
次いで、蒸留を行い、沸点145〜153℃(0.6kPa)の留分56.8g(異性体混合物)を分取した。ガスクロマトグラフィーで留分の組成を分析したところ、純度98.3%(二種の異性体の総和)であり、二種の異性体のGC%比率は12.5%/85.8%であった。また、収率はメチルジメトキシランに対して、78%であった。
事前に十分に窒素置換した、撹拌機と温度計と水冷コンデンサー及び滴下漏斗を装備した100ミリリットルの反応器に、実施例1で合成した化合物16.0g(0.05モル)を仕込み、次いでメタノール3.2g(0.1モル)を仕込み、室温条件(15〜30℃)で撹拌した。約20時間撹拌後、低沸点成分(過剰メタノール、トリメチルメトキシシラン)を10kPa、65℃の減圧条件を保持することにより除去したところ、ガスクロマトグラフィーによる組成分析にて、純度97%(ケト体及びエノール体の混合状態で検出)のアセト酢酸3−メチルジメトキシシリルプロピルを得ることができた。
トリメチルシリル化アセト酢酸アリル53.6g(0.25モル、異性体混合物)とPt原子を1.3×10-5モル含有したKarstedt触媒とを、事前に十分に窒素置換した、撹拌機と温度計と水冷コンデンサー及び滴下漏斗を装備した200ミリリットルの反応器に仕込み、油浴にて70℃に調整した。次いで、滴下漏斗を用いて、メチルジエトキシラン30.2g(0.225モル)を、70〜80℃の温度範囲に内温を管理しつつ、4時間で滴下し、滴下終了後更に3時間撹拌して熟成を行った。
次いで、蒸留を行い、沸点119〜134℃(0.1kPa)の留分64.9g(異性体混合物)を分取した。ガスクロマトグラフィーで留分の組成を分析したところ、純度98.8%(二種の異性体の総和)であり、二種の異性体のGC%比率は13.4%/85.4%であった。また、収率はメチルジエトキシランに対して、82%であった。
アセト酢酸アリル213.3g(1.5モル)とトリメトキシシラン183.3g(1.5モル)を、Pt原子を4.5×10-5モル含有したKarstedt触媒の存在下にて、公知の方法によって反応させて合成したアセト酢酸3−トリメトキシシリルプロピルの反応液396.6g(主成分の他に、未反応のアセト酢酸アリル、副生物のテトラメトキシシラン、アセト酢酸メチル、1,1−ジメトキシ−2−オキサ−1−シラシクロペンタン等の低沸点化合物を含有し、主成分は70GC%程度)を準備した。
次いで、事前に十分に窒素置換した、撹拌機と温度計と水冷コンデンサー及び滴下漏斗を装備した1リットルの反応器に、ヘキサメチルジシラザン181.6g(1.125モル)及びアセトニトリル241.5gを仕込み、油浴にて80℃の還流状態に調整した。次いで、滴下漏斗を用いて、アセト酢酸3−トリメトキシシリルプロピルの反応液の全量を75〜85℃の還流状態の反応系内に2時間で滴下し、滴下終了後更に80〜90℃の温度範囲で4時間撹拌して熟成を行った。
次いで、蒸留を行い、アセトニトリルと未反応残のヘキサメチルジシラザンを除去後、前記した低沸点化合物を除去し、次いで沸点139〜142℃(0.5kPa)の留分255.5gを分取した。ガスクロマトグラフィーで留分の組成を分析したところ、純度99.2%(二種の異性体の総和)であり、二種の異性体のGC%比率は12.8%/86.4%であった。また、収率はメチルジエトキシランに対して、51%であった。
事前に十分に窒素置換した、撹拌機と温度計と水冷コンデンサー及び滴下漏斗を装備した100ミリリットルの反応器に、実施例3で合成した化合物16.8g(0.05モル)を仕込み、次いでメタノール3.2g(0.1モル)を仕込み、室温条件(15〜30℃)で撹拌した。約20時間撹拌後、低沸点成分(過剰メタノール、トリメチルメトキシシラン)を10kPa、65℃の減圧条件を保持することにより除去したところ、ガスクロマトグラフィーによる組成分析にて、純度97%(ケト体及びエノール体の混合状態で検出)のアセト酢酸3−トリメトキシシリルプロピルを得ることができた。
アセト酢酸アリル71.1g(0.5モル)とトリメトキシシラン61.1g(0.5モル)とを、Pt原子を1.5×10-5モル含有したKarstedt触媒の存在下にて、公知の方法によって反応させて合成したアセト酢酸3−トリメトキシシリルプロピルの反応液123.6g(未反応のアセト酢酸アリル、副生物のテトラメトキシシラン、アセト酢酸メチル、1,1−ジメトキシ−2−オキサ−1−シラシクロペンタン等を含有し、主成分は70GC%程度)を準備した。
次いで、減圧蒸留装置にて、上記反応液より主成分の蒸留単離精製を試みたところ、主成分よりも低沸点の成分が主体の留分1(26.5g)を、0.3kPaの減圧条件で、塔頂温62℃、釜温125℃になるまで抜いた後に、下記表1に示す減圧条件によって、順々に留分を抜き出して行ったが、留分組成中の主成分濃度は非常に少なく、留分組成の大半は下記の反応式1で表される分解反応の副生物であるアセト酢酸メチル及び1,1−ジメトキシ−2−オキサ−1−シラシクロペンタンであった。また、蒸留釜残渣は、蒸留終了直後は濃褐色オイル状であったが、冷却するとゼラチン状の流動性のない状態となった。
アセト酢酸アリル113.8g(0.8モル)とトリエトキシシラン131.4g(0.8モル)とを、Pt原子を2.4×10-5モル含有したKarstedt触媒の存在下にて、公知の方法によって反応させて合成したアセト酢酸3−トリエトキシシリルプロピルの反応液231.3g(未反応のアセト酢酸アリル、副生物のテトラエトキシシラン、アセト酢酸エチル、1,1−ジエトキシ−2−オキサ−1−シラシクロペンタン等を含有し、主成分は70GC%程度)を準備した。
次いで、事前に十分に窒素置換した、撹拌機と温度計と水冷コンデンサー及び滴下漏斗を装備した500ミリリットルの反応器に、ヘキサメチルジシラザン96.8g(0.6モル)及びアセトニトリル129.9gを仕込み、油浴にて80℃の還流状態に調整した。次いで、滴下漏斗を用いて、アセト酢酸3−トリエトキシシリルプロピルの反応液の全量を75〜85℃の還流状態の反応系内に2時間で滴下し、滴下終了後更に80〜90℃の温度範囲で3時間撹拌して熟成を行った。
次いで、蒸留を行い、アセトニトリルと未反応残のヘキサメチルジシラザンを除去後、前記した低沸点化合物を除去し、次いで沸点144〜146℃(0.2kPa)の留分125.2gを分取した。ガスクロマトグラフィーで留分の組成を分析したところ、純度99.0%(二種の異性体の総和)であり、二種の異性体のGC%比率は13.0%/86.0%であった。また、収率はメチルジエトキシランに対して、41%であった。
Claims (2)
- アセト酢酸アリルと、R1 3Si(但し、R1は炭素数1〜6のアルキル基を示す)で表されるトリアルキルシリル基を有するシラン化合物とを反応させて下記一般式(5)
で表される化合物を合成し、次いでこの式(5)の化合物と下記一般式(6)
HSi(CH3)n(OR2)3-n (6)
(式中、R2は炭素数1〜6のアルキル基を示し、nは0,1又は2である。)
で表されるヒドロアルコキシシランとを、白金含有触媒の存在下にて付加反応させることを特徴とする下記一般式(1)
で表されるトリアルキルシリル基で保護されたアセト酢酸エステル基含有有機ケイ素化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008162108A JP5115729B2 (ja) | 2008-06-20 | 2008-06-20 | トリアルキルシリル基で保護されたアセト酢酸エステル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008162108A JP5115729B2 (ja) | 2008-06-20 | 2008-06-20 | トリアルキルシリル基で保護されたアセト酢酸エステル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010001255A true JP2010001255A (ja) | 2010-01-07 |
JP5115729B2 JP5115729B2 (ja) | 2013-01-09 |
Family
ID=41583270
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008162108A Active JP5115729B2 (ja) | 2008-06-20 | 2008-06-20 | トリアルキルシリル基で保護されたアセト酢酸エステル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5115729B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010143840A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | β−ケトエステル基含オルガノポリシロキサン化合物 |
JP2012121854A (ja) * | 2010-12-09 | 2012-06-28 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ヒドロシリル化方法、有機ケイ素化合物の製造方法、及び有機ケイ素化合物 |
JP2013060376A (ja) * | 2011-09-12 | 2013-04-04 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | オルガノキシシラン化合物の製造方法 |
US8946464B2 (en) | 2010-12-09 | 2015-02-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
JP2015182978A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物及び接着性組成物並びに物品 |
JP2017203025A (ja) * | 2017-03-09 | 2017-11-16 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
US10889682B2 (en) | 2017-07-21 | 2021-01-12 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Silylated polyurethanes and methods for preparing thereof |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005501107A (ja) * | 2001-08-23 | 2005-01-13 | ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト | シクロプロピルおよびシクロブチルエポチロンアナログ |
-
2008
- 2008-06-20 JP JP2008162108A patent/JP5115729B2/ja active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005501107A (ja) * | 2001-08-23 | 2005-01-13 | ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト | シクロプロピルおよびシクロブチルエポチロンアナログ |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010143840A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | β−ケトエステル基含オルガノポリシロキサン化合物 |
US8524933B2 (en) | 2008-12-17 | 2013-09-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Beta-ketoester group-containing organopolysiloxane compound |
JP2012121854A (ja) * | 2010-12-09 | 2012-06-28 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ヒドロシリル化方法、有機ケイ素化合物の製造方法、及び有機ケイ素化合物 |
US8946464B2 (en) | 2010-12-09 | 2015-02-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
US9156864B2 (en) | 2010-12-09 | 2015-10-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
US9163037B2 (en) | 2010-12-09 | 2015-10-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
JP2013060376A (ja) * | 2011-09-12 | 2013-04-04 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | オルガノキシシラン化合物の製造方法 |
JP2015182978A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物及び接着性組成物並びに物品 |
JP2017203025A (ja) * | 2017-03-09 | 2017-11-16 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
US10889682B2 (en) | 2017-07-21 | 2021-01-12 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Silylated polyurethanes and methods for preparing thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5115729B2 (ja) | 2013-01-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101873565B1 (ko) | 유기아미노실란 및 이를 제조하는 방법 | |
JP5115729B2 (ja) | トリアルキルシリル基で保護されたアセト酢酸エステル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
US5296624A (en) | Preparation of sterically-hindered organosilanes | |
KR101013394B1 (ko) | 신규 에폭시 화합물 및 그 제조방법 | |
US9181283B2 (en) | Methods of preparing low molecular weight carbosilanes and precursors thereof | |
CN101039949B (zh) | 甲硅烷基烷氧基甲基卤化物的制备方法 | |
JPS6327351B2 (ja) | ||
JPH1129584A (ja) | アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有クロロシランの製造方法 | |
JP4310639B2 (ja) | β−ケトエステル構造含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
JP4054957B2 (ja) | テトラキス(ジメチルアミノ)シランの塩素分低減方法 | |
JP5062231B2 (ja) | アルコール性水酸基を有する有機ケイ素樹脂及びその製造方法 | |
JP6665437B2 (ja) | 第3級アルキルシラン及び第3級アルキルアルコキシシランの製造方法 | |
JP2012025668A (ja) | アルコキシシリル化鎖状炭化水素の製造方法及びアルコキシシリル化鎖状炭化水素 | |
JP5290386B2 (ja) | アルコキシ置換された1,2−ビス−シリル−エタンの製造法 | |
JP2002020392A (ja) | N−アルケニルアザシラシクロペンタン、およびその製造方法 | |
CN112745343B (zh) | 一种三乙氧基氯硅烷的工业化合成方法 | |
US9073952B1 (en) | Synthesis method for carbosilanes | |
JP6020410B2 (ja) | [3−(2−ノルボルニル)−2−ノルボルニル]シラン化合物及びその製造方法 | |
EP1797103B1 (en) | Preparation of an aminoaryl-containing organosilicon compound and intermediate used in its preparation | |
JP2002012597A (ja) | 有機ケイ素化合物 | |
JP3089983B2 (ja) | 有機シラン化合物及び反応用試剤 | |
JP5402808B2 (ja) | ハロシリル化鎖状炭化水素の製造方法 | |
JP2020196693A (ja) | 嵩高い置換基を有するオルガノシラン化合物およびその製造方法 | |
JPH05247062A (ja) | 有機けい素化合物 | |
JP2022143669A (ja) | (メタ)アクリル基含有シロキサンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100622 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120919 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121002 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5115729 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151026 Year of fee payment: 3 |