JP2009533702A - 位置合わせ方法及びそのための装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 34
- 241000555745 Sciuridae Species 0.000 abstract 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 20
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- H01L21/26—Bombardment with radiation
- H01L21/263—Bombardment with radiation with high-energy radiation
- H01L21/265—Bombardment with radiation with high-energy radiation producing ion implantation
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7007—Alignment other than original with workpiece
- G03F9/7011—Pre-exposure scan; original with original holder alignment; Prealignment, i.e. workpiece with workpiece holder
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Abstract
Description
Claims (22)
- ワークピース上に設けられた少なくとも1つのマークの位置を決定するための方法であって、
前記ワークピース上の第1のマークを検出すること、
前記ワークピース上の第1の組のマークを検出すること、
前記ワークピース上の第2のマークを検出すること、
前記ワークピース上の第2の組のマークを検出すること、
少なくとも1つのマークの前記位置を決定すること、
の動作を含み、
前記第1のマークと、前記第1の組のマーク内のマーク(複数個可)との間の相対距離(複数個可)の第1のリストを測定すること、
前記第2のマークと、少なくとも前記第1のマークを含む前記第2の組のマーク内のマーク(複数個可)との間の相対距離(複数個可)の第2のリストを測定すること、
のさらなる動作によって特徴付けられ、
少なくとも1つのマークの前記位置を前記決定することが、前記第1のマークと、前記第1の組のマーク内のマーク(複数個可)との間で測定された相対距離(複数個可)の前記第1のリストからの情報、及び前記第2のマークと、前記第2の組のマーク内のマーク(複数個可)との間で測定された相対距離(複数個可)の少なくとも前記第2のリストからの情報を使用することによって行われる、方法。 - 前記少なくとも1つのマークの前記位置を前記決定することが、前記ワークピース上の第3のマークと、前記ワークピース上の第3の組のマーク内のマーク(複数個可)との間で測定された相対距離(複数個可)の少なくとも第3のリストからの情報もまた使用することによって行われ、前記第3の組のマークが、前記第1のマーク及び前記第2のマークのうちの少なくとも一方を含む、請求項1に記載の方法。
- 少なくとも1つのマークの前記位置を前記決定することが、異なるN個のマークと、異なるN組のマークとの間で測定された相対距離(複数個可)の複数のN個のリストからの情報を使用することによって行われ、前記異なるN個のマークのそれぞれが、前記異なるN組のマークのうちの少なくとも1つの中に含まれ、Nが4以上の整数である、請求項1に記載の方法。
- 前記検出する動作のうちの少なくとも1つを行うための少なくとも1つの検出器をその上に設けている回転可能な構台を回転させる動作をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 相対距離の前記第1のリスト及び相対距離の前記第2のリストのうちの少なくとも一方が、固定された干渉計によって決定される、請求項1に記載の方法。
- 相対距離の前記第1のリスト及び相対距離の前記第2のリストのうちの少なくとも一方が、1つの検出器上に設けられた干渉計によって測定される、請求項1に記載の方法。
- 前記検出する動作のうちの少なくとも1つが、少なくとも1つのCCDカメラによって行われる、請求項1に記載の方法。
- 独立して互いから可動である複数の検出器を移動させる動作をさらに含み、前記複数の検出器が、前記検出する動作のうちの少なくとも2つを行う、請求項1に記載の方法。
- 前後に可動である誘導レールを移動させることの動作をさらに含み、前記第1及び第2の検出器が前記誘導レール上に設けられる、請求項1に記載の方法。
- ワークピース上に設けられた少なくとも1つのマークの位置を決定するための装置であって、
ワークピース・ホルダ、
前記ワークピース上の第1のマークを検出するための第1の検出器、
少なくとも1つのマークの前記位置を決定するための手段、
を含み、
前記ワークピース上の第1の組のマークを検出するための第2の検出器、
前記第1のマークと、前記第1の組のマーク内のマーク(複数個可)との間の相対距離(複数個可)の第1のリストを測定するための距離測定素子、
によって特徴付けられ、
少なくとも1つのマークの位置を前記決定することが、前記第1のマークと、前記第1の組のマーク内のマーク(複数個可)との間で測定された相対距離(複数個可)の前記第1のリストからの情報、及び第2のマークと、第2の組のマーク内のマーク(複数個可)との間で測定された相対距離(複数個可)の少なくとも第2のリストからの情報を使用することによって行われ、前記第2の組のマークが少なくとも前記第1のマークを含む、装置。 - 前記距離測定素子が、干渉計レーザである、請求項10に記載の装置。
- 前記干渉計が、前記第1の検出器及び前記第2の検出器のうちの一方の上に固定されている、請求項11に記載の装置。
- 前記第1及び第2の検出器が、回転可能な構台上に設けられている、請求項10に記載の方法。
- 前記第1及び第2の検出器をその上に設けている回転可能な誘導レールをさらに備える、請求項10に記載の装置。
- 前記ワークピース・ホルダは、固定されている、請求項10に記載の装置。
- 前記ワークピースは、基板である、請求項10に記載の装置。
- 少なくとも1つのマークの前記位置を前記決定することが、異なるN個のマークと、異なるN組のマークとの間で測定された相対距離(複数個可)の複数のN個のリストからの情報を使用することによって行われ、前記異なるN個のマークのすべてが、前記異なるN組のマークのうちの少なくとも1つの中に含まれ、Nが3以上の整数である、請求項10に記載の装置。
- 相対距離(複数個可)の前記N個のリストのそれぞれが、異なるN個の距離測定素子によって測定される、請求項17に記載の装置。
- 前記N個のマークの前記N対のそれぞれが、異なる対の検出器によって検出される、請求項17に記載の装置。
- 前記第2のマーク及び前記第2の組のマークが、前記第1の検出器及び前記第2の検出器とは異なる検出器によって検出される、請求項10に記載の装置。
- 相対距離(複数個可)の前記第2のリストが、前記第1の距離測定素子とは異なる第2の距離測定素子によって測定される、請求項10に記載の装置。
- 前記検出器のうちの少なくとも1つが、CCDカメラである、請求項10に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/401,457 US7525671B2 (en) | 2006-04-11 | 2006-04-11 | Registration method and apparatus therefor |
PCT/EP2007/003229 WO2008052600A1 (en) | 2006-04-11 | 2007-04-11 | Registration method and apparatus therefor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009533702A true JP2009533702A (ja) | 2009-09-17 |
Family
ID=38293404
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009504640A Pending JP2009533702A (ja) | 2006-04-11 | 2007-04-11 | 位置合わせ方法及びそのための装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7525671B2 (ja) |
EP (1) | EP2010965A1 (ja) |
JP (1) | JP2009533702A (ja) |
KR (1) | KR20080113082A (ja) |
WO (1) | WO2008052600A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7459247B2 (en) * | 2004-12-27 | 2008-12-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
DE102006059818B4 (de) * | 2006-12-11 | 2017-09-14 | Kleo Ag | Belichtungsanlage |
DE102009032210B4 (de) * | 2009-07-03 | 2011-06-09 | Kleo Ag | Bearbeitungsanlage |
CN106220218A (zh) * | 2016-07-25 | 2016-12-14 | 济南圣泉倍进陶瓷过滤器有限公司 | 一种泡沫陶瓷过滤器及其制造方法 |
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Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05313380A (ja) | 1992-05-12 | 1993-11-26 | Hitachi Ltd | 位置合わせ装置 |
KR100467858B1 (ko) | 1996-02-05 | 2005-11-01 | 가부시키가이샤 니콘 | 정렬,노광방법및노광장치 |
US20050099628A1 (en) | 2002-03-29 | 2005-05-12 | Nikon Corporation | Mark for position detection, mark identification method, position detection method, exposure method, and positional information detection method |
EP1477857A1 (en) | 2003-05-13 | 2004-11-17 | ASML Netherlands B.V. | Method of characterising a process step and device manufacturing method |
EP1482375B1 (en) | 2003-05-30 | 2014-09-17 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7388663B2 (en) * | 2004-10-28 | 2008-06-17 | Asml Netherlands B.V. | Optical position assessment apparatus and method |
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-
2006
- 2006-04-11 US US11/401,457 patent/US7525671B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-04-11 EP EP07724170A patent/EP2010965A1/en not_active Withdrawn
- 2007-04-11 WO PCT/EP2007/003229 patent/WO2008052600A1/en active Application Filing
- 2007-04-11 KR KR1020087025764A patent/KR20080113082A/ko not_active Application Discontinuation
- 2007-04-11 JP JP2009504640A patent/JP2009533702A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080113082A (ko) | 2008-12-26 |
WO2008052600A1 (en) | 2008-05-08 |
EP2010965A1 (en) | 2009-01-07 |
US7525671B2 (en) | 2009-04-28 |
US20070236695A1 (en) | 2007-10-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090716 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100412 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A601 | Written request for extension of time |
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