JP2009526791A - フェノール及びメチルエチルケトンの生成プロセス - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
t-ブチルベンゼン 169℃
i-ブチルベンゼン 171℃
s-ブチルベンゼン 173℃
n-ブチルベンゼン 183℃
更に、イソブチルベンゼン及びtert-ブチルベンゼンは、メチルエチルケトン及びフェノールを生産するための必要な次のステップであるsec-ブチルベンゼンの対応するヒドロぺルオキシドへの酸化の阻害剤として知られている。
(a)ベンゼン及びC4オレフィンを、アルキル化条件及びアルキル化触媒の存在下で接触させ、sec-ブチルベンゼン及びC8+オレフィンを含むアルキル化流出物を生成し;
(b)前記流出物を処理し、前記C8+オレフィンの量を減少させ、処理された流出物を生成し;
(c) 前記処理された流出物中のsec-ブチルベンゼンを酸化させ、ヒドロぺルオキシドを生成し;及び
(d) (c)のヒドロぺルオキシドを開裂しフェノール及びメチルエチルケトンを生成する
ことを含む。
(i) マンガンを含むオキソ(ヒドロオキソ)架橋四核金属錯体、
(ii) 混合金属コアーを持つオキソ(ヒドロオキソ)架橋四核金属錯体であり、コアーの一つの金属はZn, Cu, Fe, Co, Ni, Mn 及びこれらの混合物から選択される二価の金属であり、他の金属はIn、Fe, Mn, Ga, Al 及びこれらの混合物から選択される三価の金属であり、
(iii) N-ヒドロキシ置換環状イミド単独又は遊離基開始剤の存在下でのN-ヒドロキシ置換環状イミド、及び
(iv) N,N',N"-トリヒドロキシイソシアヌル酸単独又は遊離基開始剤の存在下でのN,N',N"-トリヒドロキシイソシアヌル酸
から選択される触媒の様な、触媒の存在下で実施される。ある実施の態様においては、酸化触媒は不均一触媒である。
sec-ブチルベンゼンを生成するアルキル化ステップで使用されるベンゼンは、市場で購入可能な任意のベンゼンあっても良く、好ましくはベンゼンは少なくとも99重量%の純度レベルを持つのが良い。
プロピレン 0-2 重量%
プロパン 0-2 重量%
ブタジエン 0-5 重量%
ブテン-1 5-20 重量%
ブテン-2 10-50 重量%
イソブテン 5-25 重量%
イソブタン 10-45 重量%
N-ブタン 5-25 重量%
メタノールの様な酸素含有物の低級オレフィンへの変換により得られるC4炭化水素部分はより典型的に以下の組成を持つ:
プロピレン 0-1 重量%
プロパン 0-0.5 重量%
ブタジエン 0-1 重量%
ブテン-1 10-40 重量%
ブテン-2- 50-85 重量%
イソブテン 0-10 重量%
N- + イソブタン 0-10 重量%
上記のC4炭化水素混合物の一又は何れの混合物も本発明プロセスで用いることができる。線状ブテン及びブタンに加えて、これらの混合物は通常本発明のプロセスに有害であり得るイソブテン及びブタジエンの様な組成物を含む。例えば、イソブテンをベンゼンによりノルマルアルキル化した製品は第三級ブチルベンゼン及びイソブチルベンゼンであり、これらは既に述べた様に、続く酸化ステップでの阻害剤として働く。したがって、アルキル化ステップの前に、これらの混合物はブタジエン及びイソブテンを除去する工程に付すことが好ましい。例えば、イソブテンは、選択的に二量化し又はメタノールと反応させてMTBEを生成することにより除去することができ、ブタジエンは抽出により又は選択的にブテン−1に水素化することにより除去することができる。
・通常の第1級結晶質 構成要素単位格子(building block unit cell)から成り、この単位格子はMWW構造トポロジーを持つ(単位格子は原子の空間配置であり、3次元空間に配置されると結晶構造を示す。その様な結晶構造は、「ゼオライト構造タイプ地図」(Atlas of Zeolite Framework Types)第5版、2001年、で検討されており、本文献は参照により本明細書に組み入れられる)。
・ 分子篩はMWW構造トポロジーを持つ単位格子の、任意の、通常の、又はランダム2次元、又は3次元の組み合わせにより生成される分子篩である。
上に述べた様に、アルキル化反応から得られる流出物は通常ブテンオリゴマーを含み、オリゴマーはsec-ブチルベンゼンの、対応するヒドロぺルオキシドヘの続く酸化を抑制することが分かった。更に蒸留はこれらの不純物の幾らかを除去するのに効果的であるが、あるブテンオリゴマー、特にC12 オレフィンはsec-ブチルベンゼンと同じ又はそれに近い温度で沸騰する傾向にあり、したがって、蒸留では容易に除去できない。そこで本プロセスでは追加の処理プロセス、特に化学処理プロセスを用いて、アルキル化流出物中のブテンオリゴマーのレベルを、通常1重量%未満、好ましくは0.7重量%未満、及び最も好ましくは0.5重量%に下げる。
sec-ブチルベンゼンをフェノール及びメチルエチルケトンに変換するために、sec-ブチルベンゼンはまず対応するヒドロぺルオキシドに酸化される。これには、酸素含有気体、例えば、空気をsec-ブチルベンゼンを含む液相に導入することで実現される。クメンと違い、触媒の不存在でsec-ブチルベンゼンを大気中で酸素で酸化することは非常に難しい。例えば、110°C及び大気圧ではsec-ブチルベンゼンは酸化されない。一方クメンは同じ条件で非常に良く酸化される。より高温ではsec-ブチルベンゼンの大気中の酸素による酸化の割合は改善されるが、より高温ではまた好ましくない副産物の生成レベルが大幅に増大する。
N-ヒドロキシフタルイミド(N-hydroxyphthalimide), 4-アミノ- N-ヒドロキシフタルイミド(4-amino-N- hydroxyphthalimide), 3-アミノ- N-ヒドロキシフタルイミド(3-amino-N-hydroxyphthalimide), テトラブロモ-N-ヒドロキシフタルイミド(tetrabromo-N-hydroxyphthalimide), テトラクロロ-N-ヒドロキシフタルイミド(tetrachloro-N-hydroxyphthalimide), N-ヒドロキシヘチミド(N-hydroxyhetimide), N-ヒドロキシヒミミド(N- hydroxyhimimide), N-ヒドロキシトリメリチミド(N-hydroxytrimellitimide), N-ヒドロキシベンゼン-1,2,4- トリカルボキシミド(N-hydroxybenzene-1,2,4-tricarboximide), N,N'- ジヒドロキシ(ピロメリト ジイミド)(N,N'-dihydroxy(pyromellitic diimide)), N、N'-ジヒドロキシ(ベンゾフェノン3,3',4,4'-テトラカルボキシ ジイミド (N、N'- dihydroxy(benzophenone-3,3',4,4'-tetracarboxylic diimide)), N-ヒドロキシマレイミド(N-hydroxymaleimide), ピリジン-2,3-ジカルボキシイミド(pyridine-2,3-dicarboximide), N-ヒドロキシスクシンイミド(N-hydroxysuccinimide), N-ヒドロキシ(酒石イミド)(N-hydroxy(tartaric imide)), N-ヒドロキシ-5-ノルボルネン-2,3-ジカルボキシミド (N-hydroxy-5-norbornene-2,3-dicarboximide), エクソ-N-ヒドロキシ-7- オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト-5-ene-2,3-ジカルボキシミド(exo-N-hydroxy-7- oxabicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N-ヒドロキシ-cis-シクロヘキサン-1,2-ジカルボキシミド (N-hydroxy-cis-cyclohexane-1,2- dicarboximide), N-ヒドロキシcis-4-シクロヘキサン-l,2ジカルボキシミド (N-hydroxy-cis-4-cyclohexene-l,2 dicarboximide), N-ヒドロキシナフタルイミド ナトリウム塩(N- hydroxynaphthalimide sodium salt)又はN-ヒドロキシ-o- ベンゼンジスルホンイミド(N-hydroxy-o-benzenedisulphonimide)がある。 好ましくは、触媒はN-ヒドロキシナフタルイミド(N-hydroxyphthalimide)であるのが良く、他の好適な触媒はN,N',N"-チオヒドロキシイソシアヌル酸 (N,N',N"-thihydroxyisocyanuric acid)である。
sec-ブチルベンゼンのフェノール及びメチルエチルケトンへの変換の第一のステップはsec-ブチルベンゼンヒドロペルオキシドの開裂を含み、開裂は都合の良く行うには、ヒドロぺルオキシドを約20℃から約150℃の温度, 例えば、約40℃から約120℃、約50 から約2500 kPaの圧力, 例えば、約100 から約1000 kPa 及びヒドロぺルオキシドに基づく約0.1から約100 hr-1, 好ましくは約1から約50 hr-1の液時空間速度(LHSV)の液相中で触媒に接触させることにより実行される。
MCM-22 触媒及び2-ブテン原料を用いたsec-ブチルベンゼンの生産
MCM-22触媒 (65 % MCM-22/35% アルミナ結合剤)の 1.0 gサンプルがベンゼンを2−ブテンによりアルキル化するのに用いられた。触媒は1.6 mm (1/16インチ) 直径のシリンダー状押出物の形状であり、1/16インチの長さに切断され、砂で3ccに希釈され、外径が4.76mm (3/16インチ)の等温、下降流式、固定床、管型反応器に挿入された。触媒は150℃及び1気圧、100 cc/分の窒素流中で2時間乾燥された。窒素は止められベンゼンが、反応器の圧力が所望の300 psig (2170 kPa)に達するまで60 cc/時で反応器に供給された。ベンゼン流はその後7.63 cc/時 (6.67 WHSV)まで低減され、ブテン原料(57.1% cis-ブテン, 37.8% trans-ブテン, 2.5% n-ブテン, 0.8% イソブテン及び1−ブテン, 及びその他が1.8%)が注射器ポンプから2.57 cc/時 (1.6 WHSV)の割合で導入された。原料ベンゼン/ブテンのモル比は全運転を通して3 : 1に維持され、反応器の温度は160°Cに調節された。液体製品は冷却トラップ中で160℃及び300 psig (2170 kPa)の反応器条件で回収され分析のためラインから取出された。2−ブテンの変換は、未反応2−ブテンの原料2−ブテンに対する相対量を測定することにより決定された。触媒は、1.6 WHSVのブテンに4日間流し97%の2−ブテンの変換を得、4.8 WHSVのブテンに2日間流し95%の変換、7.2 WHSVのブテンに1日間流し86%の変換を得、続いて1.6 WHSVのブテンに4日間流し97%の変換を得た。代表的なデータは表1に示す。
MCM-49触媒及び2-ブテン原料を用いたsec-ブチルベンゼンの生産
実施例1のプロセスが、MCM-22 触媒を0.6 gmのMCM-49 触媒 (1/20インチ 4つの丸い特出形(quadralobe)の押出物で60 %MCM-49/40% Versal 200アルミナ結合剤で1/20インチ長さにカットされたもの) により置換したもので繰り返された。触媒は2.7 WHSVのブテンに4日間流し97-98%の変換を得、8WHSVに1日流し97%の変換、12WHSVに0.5日間流し93%の変換、2.7 WHSVのブテンに1.6日間流し98%の変換を得、19.2 WHSVのブテンに0.3日間流し86%の変換を得、続いて2.7 WHSVのブテンに0.7日間流し98%の変換を得た。代表的なデータは表2に示す。
MCM-22 触媒及びラフィネート−2タイプ原料を用いたsec-ブチルベンゼンの生産
MCM-22触媒 (65 重量% MCM-22/35% アルミナ結合剤)の 1.0 gサンプルがベンゼンをラフィネート−2タイプ原料によりアルキル化するのに用いられた。これは実施例1で用いた触媒と同じである。ラフィネート−2タイプ原料は合成ブレンドであり以下の組成を持つ:53.4% cis-ブテン, 41.2% trans-ブテン, 4.6% イソブテン, 0.5%ブタジエン, 0.1% n-ブタン及びその他が0.2%である。
MCM-49 触媒及びラフィネート−2タイプ原料を用いたsec-ブチルベンゼンの生産
実施例3のプロセスがMCM-22 触媒を0.5 gmの実施例2で用いたMCM-49 触媒により置換されたもので繰り返された。MCM-49は3.2 WHSVのブテンに3日間流し96%の変換を得、9.6 WHSVに1日間流し80−83%の変換を得、及び3.2 WHSVに3日間流し95%の変換を得た。代表的なデータを表4に示す。
MCM-22触媒及びラフィネート−2タイプ原料を用いた高級オレフィンの生産
実施例1及び3で使用された2.3 gのMCM-22触媒サンプルが 実施例3及び4で使用された、同じ合成ラフィネート−2タイプ原料をオリゴマー化するために用いられた。
Sec-ブチルベンゼンの酸化
機械的攪拌棒を備えた100ccParrオートクレーブにTCI America 製の43.2g (0.32 モル)の実質的に純粋なsec-ブチルベンゼン及び0.185g (0.001134 モル)のN−ヒドロキシフタルイミド(NHPI, Aldrichより購入可能)が装入された。オートクレーブは再組立てされ、窒素によるリークテストがなされ、システムに再装着された。オートクレーブの内容物は窒素により加圧され、続いて酸素により加圧され室温で窒素/酸素の比が80:20とされ、内容物はその後6時間掛けて115°Cまで加熱され、純粋酸素を再充填することにより加熱の間を通じ酸素の濃度は約20%に保たれた。気体のサンプルは加熱の間を通じ酸素濃度をテストするために採取された。このTCI sec-ブチルベンゼン(13C NMRにより決定されるオレフィン炭素を19ppm含む) は24.5%の変換を示した。結果を図1に示す。
高級オレフィンの存在下のsec-ブチルベンゼンの酸化
濃縮機、攪拌棒及び空気スパージャーを備えた250-ml丸底フラスコに100gの実質的に純粋なsec-ブチルベンゼン(TCI America 製)及び0.375 gのN−ヒドロキシフタルイミド(NHPI, Aldrichより購入可能)が装入された。フラスコは温度制御加熱マントルを用いて加熱された。反応温度は115 °C、圧力は大気圧であった。空気流量は約220 cc/分であった。45分毎に、反応混合物の一定少量がフラスコから採られGCで分析された。sec-ブチルベンゼン原料が実施例5で得られた高級オレフィン製品の1gサンプルによりスパイク(spike)されたことを除いてこの手順が繰り返された。高級オレフィンサンプルは、反応流出物をヘキサデカンで希釈し、混合物を50 mm Hg真空中で26プレートの真空被覆された還流比10対1のOldershawカラムを用いて蒸留することにより得られた。3つの留分が集められた:i)sec-ブチルベンゼンの沸点173°Cより前の温度で沸騰する留分、ii) sec-ブチルベンゼンと同じ温度領域で沸騰する留分、
iii) sec-ブチルベンゼンの沸点より高い温度で沸騰する留分である。酸化の結果は図2及び表6に示す。結果は、オレフィンをsec-ブチルベンゼンに添加することによりsec-ブチルベンゼンの酸化率が極めて低減することを示す。
sec-ブチルベンゼンの酸処理による高級オレフィンの除去
電磁攪拌棒を備えた250mlのサンプル瓶に、実施例3及び4のプロセスによるラフィネート−2原料から生成されたsec-ブチルベンゼン94.9 g (0.71 モル)及び2.5gの硫酸(97%)が添加された。混合物は室温で1時間強く攪拌された。次に硫酸が50ccの蒸留水により2度洗浄されて除去された。その後上部のsec-ブチルベンゼン相が100ccの5重量%の重炭酸ナトリウム、続いて50ccの蒸留水で洗浄された。sec-ブチルベンゼンは、その後5Å分子篩上で乾燥された。乾燥されたsec-ブチルベンゼンのサンプルは、実施例5に記載の様に別の実験により酸化された。残りのsec-ブチルベンゼンは98℃でClaissonアダプターにより100mm真空で蒸留され、その後実施例12に記載の手順にしたがって酸化された。
水素化によるsec-ブチルベンゼンからの高級オレフィンの除去
100mlのParrオートクレーブに、実施例3及び4のプロセスによるラフィネート−2原料から生成されたsec-ブチルベンゼン(47.5g、 0.354モル)及びAldrich Chemical Co.製のアルミナ粉末上のパラジウム1.6gが添加された。オートクレーブは再組み立てされ、窒素によりリークテストがなされ、その後水素により55 psig (480 kPa)まで加圧された。水素は排出され、全ての窒素を除去するために再度充填された。内容物は機械的攪拌をしつつ100℃まで加熱され、温度は100℃で3時間に保たれた。オートクレーブ中の水素は加圧され、加熱の間を通して60 psigに維持された。オートクレーブ中の内容物はその後水素雰囲気中で室温まで冷却された。反応混合物は室温で除去され、ろ過されそして実施例12に記載の様に別の実験で酸化された。
酸処理及び水素化によるsec-ブチルベンゼンからの高級オレフィンの除去
100mlのParrオートクレーブに、実施例3及び4のプロセスによるラフィネート−2原料から生成されたsec-ブチルベンゼン55.4g (0.413モル)及びRohm & Haas製の5.0 gのAmberlyst 35及びアルミナ20/40メッシュ上の2.0 gの0.5%パラジウムが加えられた。混合物はその後23- 26°C, 57-61 psig (494-522 kPa)水素圧で21時間水素化された。反応混合物はその後ろ過され、5%の重炭酸ナトリウムで洗浄され、続いて蒸留水で洗浄され、その後5Å分子篩上で乾燥され、Claissenアダプターにより97℃/80mm真空下で再蒸留された。蒸留されたsec-ブチルベンゼンはその後実施例12に記載の手順にしたがって酸化された。
電磁攪拌棒、温度計、還流冷却器を備えた4つ首200mlの丸底フラスコに、実施例1のプロセスによる純粋2−ブテン原料から生成されたsec-ブチルベンゼン63.3 g (0.472モル)及びRohm & Haas製の2, 2.0 gのAmberlyst 35及び
3.5 g (0.103モル)メタノールが添加された。混合物は、メタノール還流で攪拌しつつ78-82°Cで7時間加熱された。加熱工程の完了とともに、反応混合物はろ過され、50ccの5重量%の重炭酸ナトリウム溶液、続いて50ccの蒸留水で洗浄された。上部のsec-ブチルベンゼンはその後5Å分子篩上で乾燥され、そしてClaissenアダプターにより98℃/80mmで再蒸留された。蒸留されたsec-ブチルベンゼンはその後実施例12に記載の手順にしたがって酸化された。
種々の処理後のsec-ブチルベンゼンの酸化
この実施例では市場で購入可能なTCI Americaのsec-ブチルベンゼン及び実施例8−11で生成された処理sec-ブチルベンゼンのサンプルが以下の手順にしたがって別々に酸化された。
Claims (35)
- フェノール及びメチルエチルケトンを生成するプロセスであり、前記プロセスは:
(a)ベンゼン及びC4オレフィンをアルキル化条件及びアルキル化触媒の存在下で接触させ、sec-ブチルベンゼン及びC8+オレフィンを含むアルキル化流出物を生成し;
(b)前記流出物を処理し、前記C8+オレフィンの量を減少させ、処理された流出物を生成し;
(c) 前記処理された流出物中のsec-ブチルベンゼンを酸化させ、ヒドロぺルオキシドを生成し;及び
(d) (c)のヒドロぺルオキシドを開裂しフェノール及びメチルエチルケトンを生成する
ことを含む前記プロセス。 - 前記処理(b)は化学処理を含む請求項1のプロセス。
- 前記化学処理はオレフィンのオリゴマー化、選択的還元、選択的酸化、エステル化及びヘテロ原子のオレフィンへの添加又はこれらの組み合わせを含む、請求項2のプロセス。
- 前記処理(b)は前記C8+オレフィンの量を処理された流出物の1重量%未満に減少させる、請求項1乃至3のいずれか1項のプロセス。
- 前記触媒はMCM-22ファミリーの少なくとも一つの分子篩を含む、請求項1乃至4のいずれか1項のプロセス。
- 前記MCM-22ファミリーの分子篩が、12.4±0.25, 6.9±0.15, 3.57±0.07 及び3.42±0.07 Åで最大d−間隔を含むX線回折パターンを持つ分子篩である、請求項5のプロセス。
- 前記MCM-22ファミリーの分子篩がMCM-22、PSH-3, SSZ-25, ERB-1, ITQ-1, ITQ-2, MCM-36, MCM-49, MCM-56, UZM-8 及びこれらの混合物から選択される、請求項5のプロセス。
- 前記C4オレフィンが線状ブテンを含む、請求項1乃至7のいずれか1項のプロセス。
- 前記線状ブテンが1−ブテン及び/又は2−ブテンを含む、請求項8のプロセス。
- 前記線状ブテンが混合C4 流体に含まれる、請求項8又は9のプロセス。
- 前記混合C4 流体が、以下の主要成分を含む蒸気分解された粗原料C4 流体から得られる、請求項10のプロセス:
30から85重量%のブタジエン
0から15重量% C4アセチレン
1から30重量% ブテン−1
1から15重量%ブテン−2
2 0 から30重量% イソブテン
0から10重量% ノルマルブタン
0から1重量% イソブタン。 - 前記混合C4 流体が、ブタジエンを除去するために蒸気分解された粗原料C4 流体を溶媒抽出プロセスに付してして得られるラフィネート流体から得られ、前記ラフィネート流体が以下の主要成分を含む、請求項10のプロセス:
0から2重量%のブタジエン
0から0.5重量%のC4アセチレン
20から50重量%のブテン−1
10から30重量%のブテン−2
0から55重量%のイソブテン
0から55重量%のノルマルブタン
0から1重量%のイソブタン。 - 前記混合C4 流体が、ブタジエンを除去するために蒸気分解された粗原料C4 流体を水素化プロセスに付して得られるラフィネート流体から得られ、前記ラフィネート流体が以下の主要成分を含む、請求項10のプロセス:
0から2重量%のブタジエン
0から0.5重量%のC4アセチレン
50から95重量%のブテン−1
0から20重量%のブテン−2
0から35重量%のイソブテン
0から10重量%のノルマルブタン
0から1重量%のイソブタン。 - 前記混合C4 流体が、ブタジエン除去するために蒸気分解された粗原料C4 流体を溶媒抽出プロセス、及びイソブテン除去プロセスに付して得られるラフィネート流体から得られ、前記ラフィネート流体が以下の主要成分を含む、請求項10のプロセス:
0から1重量%のブタジエン
0から0.5重量%のC4アセチレン
25から75重量%のブテン−1
15から40重量%のブテン−2
0から5重量%のイソブテン
0から55重量%のノルマルブタン
0から2重量%のイソブタン。 - 前記混合C4 流体が、ブタジエン除去するために蒸気分解された粗原料C4 流体を水素化プロセス及びイソブテン除去プロセスに付して得られるラフィネート流体から得られ、前記ラフィネート流体が以下の主要成分を含む、請求項10のプロセス:
0から1重量%のブタジエン
0から0.5重量%のC4アセチレン
75から95重量%のブテン−1
0から20重量%のブテン−2
0から5重量%のイソブテン
0から10重量%のノルマル ブタン
0から2重量%のイソブタン。 - 前記混合C4 流体が、精製所の混合ブタン/ブテン流体である、請求項10のプロセス。
- 前記精製所の混合ブタン/ブテン流体が以下の主要成分を含む、請求項16のプロセス:
0から2重量%のプロピレン
0から2重量%のプロパン
0から5重量%のブタジエン
5から20重量%のブテン−1
10から50重量%のブテン−2
5から25重量%のイソブテン
10から45重量%のイソブタン
5から25重量%のノルマル ブタン。 - 前記混合C4 流体が、酸素含有物の低級オレフィンへの変換により得られるC4部分から得られる、請求項10のプロセス。
- 前記C4部分が以下の主要成分を含む、請求項18のプロセス:
0から1重量%のプロピレン
0から0.5重量%のプロパン
0から1重量%のブタジエン
10から40重量%のブテン−1
50から85重量%のブテン−2
0から10重量%のイソブテン
0から10重量%のノルマル及びイソブタン。 - 前記アルキル化条件が60°Cから260°Cの温度、及び/又は7000 kPa未満の圧力及び/又はC4アルキル化剤に基づく原料の毎時重量空間速度(WHSV)が0.1と50 hr-1の間、及び/又はベンゼンのブテンに対するモル比が1から50である、請求項1乃至19のいずれか1項のプロセス。
- 前記(a)の接触がまた、少なくとも部分的に液相条件下で実施される、請求項1乃至20のいずれか1項のプロセス。
- 前記(a)の接触はまたポリブチルベンゼンを生成し、及び更にポリブチルベンゼンを、トランスアルキル化触媒の存在下でベンゼンと接触させsec-ブチルベンゼンを生成することを含む、請求項1乃至21のいずれか1項のプロセス。
- 前記トランスアルキル化触媒はゼオライトベータ、モルデナイト、USY, MCM-22, PSH-3、SSZ-25, ERB-1, ITQ-1, ITQ-2, MCM-36, MCM-49, MCM-56, UZM-8及びこれらの混合物から選択される分子篩を含む、請求項22のプロセス。
- 前記(c)の酸化が、
(i) マンガンを含むオキソ(ヒドロオキソ)架橋四核金属錯体、
(ii) 混合金属コアーを持つオキソ(ヒドロオキソ)架橋四核金属錯体であり、コアーの一つの金属はZn, Cu, Fe, Co, Ni, Mn 及びこれらの混合物から選択される二価の金属であり、他の金属はIn、Fe, Mn, Ga, Al 及びこれらの混合物から選択される三価の金属であり、
(iii) N-ヒドロキシ置換環状イミド単独又は遊離基開始剤の存在下でのN-ヒドロキシ置換環状イミド、及び
(iv) N,N',N"-トリヒドロキシイソシアヌル酸単独又は遊離基開始剤の存在下でのN,N',N"-トリヒドロキシイソシアヌル酸
から選択される触媒の存在下で実施される、請求項1乃至23のいずれか1項のプロセス。 - 前記酸化(c)が70°Cから200°Cの温度及び/又は50 から2000 kPaの圧力(0.5 から約20気圧)で行われる、請求項1乃至24のいずれか1項のプロセス。
- 前記開裂(d)が触媒の存在下で行われる、請求項1乃至25のいずれか1項のプロセス。
- 前記開裂(d)が均一触媒の存在下で行われる、請求項1乃至26のいずれか1項のプロセス。
- 前記均一触媒には、硫酸、過塩素酸、リン酸、塩酸及びp−トルエンスルホン酸、塩化第二鉄、三フッ化ホウ素、二酸化硫黄、及び三酸化硫黄少なくとも一つを含む、請求項1乃至27のいずれか1項のプロセス。
- 前記開裂(c)が不均一触媒の存在下で行われる、請求項1乃至28のいずれか1項のプロセス。
- 前記不均一触媒がスメクタイト粘土を含む、請求項29のプロセス。
- 前記開裂(d)が、40℃から120℃の温度及び/又は100 から1000 kPaの圧力及び/又はヒドロぺルオキシドに基づく1から約50 hr-1の液時空間速度(LHSV)で実施される、請求項1乃至30のいずれか1項のプロセス。
- sec-ブチルベンゼンの沸点の5°Cの範囲内で沸騰し、少なくとも95重量%のsec-ブチルベンゼン及び20 から1000 ppm 重量のブテンオリゴマーを含む、炭化水素組成物。
- 50から500 ppm重量のブテンオリゴマーを含む請求項32の炭化水素組成物。
- 0.5 重量%未満のイソブチルベンゼン及び三級ブチルベンゼンを含む請求項32又は33の炭化水素組成物。
- フェノール及びメチルエチルケトンを生成する方法における、請求項32乃至34のいずれか1項に記載の炭化水素組成物の使用。
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