JP2009517543A - 微細構造ワークピースの湿式化学処理中に液体を振動させるための装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (60)
- 処理ゾーンでワークピースを処理するための、振動器を備えたリアクタであって、
容器中で処理液が流れを方向づけるように形成されたスローシステムを有する容器と、
ベースと、ベースを挟んで互いに隔たるように設けられた複数の機構とを有し、処理ゾーンに開いた移動可能な閉じ込め部を形成する振動部と、
振動部に接続され、ワークピースの表面に沿ってベースと機構とを動かすアクチュエータと、を含むリアクタ。 - 機構は、ベースを挟んで互いに隔たるように設けられ、移動可動な区画を形成するデバイダを含む請求項1に記載のリアクタ。
- ベースは、プレートと、プレートに沿って延びたデバイダとを含み、
個々の区画は、デバイダの一方側で規定された第1壁と、隣接するデバイダの対向する側で規定された第2壁と、第1壁と第2壁との間にプレートの部分により規定された中間部分とを有する請求項2に記載のリアクタ。 - ベースはプレートを含み、デバイダは細長い仕切りを含み、区画は、ベース中に、デバイダの間に縦方向に延びた細長いフロアとフロアを通る開口部とを有するリセスを有する請求項2に記載のリアクタ。
- ベースはプレートを含み、デバイダは細長い仕切りを含み、区画は、ベース中に、デバイダに直交しデバイダに沿って縦方向に延びるフロアと、区画のフロア中の開口部とを有するリセスを含む請求項2のリアクタ。
- ベースはプレートを含み、デバイダは細長い仕切りを含み、区画は、ベース中に、デバイダの間の傾斜したフロアと、区画のフロア中の開口部とを有する細長いリセスを含む請求項2に記載のリアクタ。
- 傾斜したフロアは、細長いリセスの縦軸に直交する面に沿って、V形状の断面が形成された対向して傾斜した表面を有する請求項6のリアクタ。
- デバイダは、デバイダの縦方向に対して直交する軸に沿って、アクチュエータが振動器を前後に往復運動をさせた場合、区画中で引き起こされる渦巻きを発生させるように形成され、区画は、処理ゾーン中で引き起こされた渦巻きを閉じ込めるように形成された請求項2に記載のリアクタ。
- ベースは、デバイダの間に複数のリセスを有する多孔質プレートを含む請求項2に記載のリアクタ。
- ベースは、第1膜厚の周辺領域と、第1膜厚とは異なる第2膜厚の中央領域とを有する請求項2に記載のリアクタ。
- 更に、容器中に、電極を含む請求項2に記載のリアクタ。
- 更に、容器中の複数の電極と、対応する電極に操作可能なように接続された個々の電源とを含み、電源は、異なった電極に対して異なった電位を供給するように形成された請求項2に記載のリアクタ。
- フローシステムは、デバイダの縦方向に沿って処理溶液を流すクロスフローアセンブリを含む請求項2に記載のリアクタ。
- 個々の区画は、デバイダの一方側で規定された第1壁と、隣接するデバイダの対向する側で規定された第2壁と、第1壁と第2壁との間の中間部分と、中間部分の開口部とを有し、
更に、リアクタは、容器中に、少なくとも1つの電極を含む請求項2に記載のリアクタ。 - デバイダは、デバイダの縦方向に対して直交する軸に沿って、アクチュエータが振動器を前後に往復運動をさせた場合、区画中で引き起こされる渦巻きを発生させるように形成され、区画は、処理ゾーン中で引き起こされた渦巻きを閉じ込めるように形成され、
更に、リアクタは、容器中に、少なくとも1つの電極を含む請求項2に記載のリアクタ。 - 更に、アクチュエータが振動器を一定しないストロークに沿って動かすような指示を含むコンピュータ操作媒体を有する制御システムを含む請求項2に記載のリアクタ。
- コンピュータ操作媒体の指示は、アクチュエータが振動器を、第1ストローク長さと、第1ストローク長さとは異なる第2ストローク長さとに沿って動かす指示である請求項16に記載のリアクタ。
- コンピュータ操作媒体の指示は、アクチュエータが振動器を、第1ストローク長さに沿って第1速度で動かし、第2ストローク長さに沿って第1速度とは異なる第2速度で動かす指示である請求項16に記載のリアクタ。
- コンピュータ操作媒体の指示は、アクチュエータが振動器を、第1ストローク長さに沿って第1加速で動かし、第2ストローク長さに沿って第1加速とは異なる第2加速で動かす指示である請求項16に記載のリアクタ。
- 個々の区画は、デバイダの一方側で規定された第1壁と、隣接するデバイダの対向する側で規定された第2壁と、第1壁と第2壁との間の中間部分と、中間部分の開口部とを有し、
リアクタは、容器中の複数の電極と、1またはそれ以上の対応する電極に操作可能なように接続された複数の個々の電源とを含み、
コントローラは、(a)電源が異なった電極に異なった電気特性を与え、(b)アクチュエータが振動器を均一でないように動かすような指示を含むコンピュータ操作媒体を含む請求項2に記載のリアクタ。 - コンピュータ操作媒体に含まれる指示は、ワークピースが処理される間、個々の電極に与えられる電位を変調させる指示である請求項20に記載のリアクタ。
- 更に、ワークピースホルダー有するヘッドアセンブリと、アクチュエータが振動器をワークピースホルダーの下の直線経路に沿って振動させる間、処理ゾーン中でワークピースホルダーを回転させるようにワークピースホルダーに取り付けられた回転器とを含む請求項2に記載のリアクタ。
- ワークピースホルダーは、ワークピースを略水平な面内で保持するように形成され、振動器は略水平な面内で振動する請求項22に記載のリアクタ。
- ワークピースを電気化学処理するリアクタであって、
ワークピースを処理のために保持される処理ゾーンを有する容器と、
複数の可動な渦巻き区画を有するフロー変調器であって、個々の区画は処理ゾーンに開放され、ワークピース近傍で渦巻きを閉じ込める形状であるフロー変調器と、
フロー変調器に接続され、処理ゾーンに対して渦巻き区画を動かすアクチュエータと、を含むリアクタ。 - フロー変調器は、プレートと、プレートを挟んで互いに間隔を隔てて配置された複数のデバイダとを含み、プレートとデバイダは、3面の渦巻き区画を形成する請求項24に記載のリアクタ。
- フロー変調器は、プレートと、プレートを挟んで互いに間隔を隔てて配置された複数の細長い仕切りと、細長い仕切りの間の複数の平坦なフロアとを含み、仕切りとフロアは個々の可動な渦巻き区画を規定する請求項24に記載のリアクタ。
- フロー変調器は、プレートと、プレートを挟んで互いに間隔を隔てて配置された複数の仕切りとを含み、振動器が処理ゾーンで振動した場合、デバイダが渦巻き区画中に引きずられた渦巻きを発生させるように形成された請求項24に記載のリアクタ。
- 更に、容器中の電極と、ワークピースの周辺領域と噛み合うように形成された複数の電気コンタクトを有するワークピースホルダーとを含む請求項24に記載のリアクタ。
- ワークピースホルダーは、回転可能である請求項27に記載のリアクタ。
- 個々の可動な渦巻き区画は、第1壁と、第2壁と、第1壁と第2壁との間の中間部分とを有し、
リアクタは、更に、容器中の複数の電極と、対応する電極に操作可能なように接続された複数の個々の電源とを含み、
コントローラは、(a)電源が異なった電極に異なった電気特性を与え、(b)アクチュエータが振動器を均一でないように動かすような指示を含むコンピュータ操作媒体を含む請求項24に記載のリアクタ。 - ワークピースを電気化学処理するリアクタであって、
ワークピースを処理するために処理液がそこを通って流れる処理ゾーンを有する容器と、
少なくとも処理ゾーンの一部を挟んで互いに間隔を隔てて配置された、複数の3面チャネルを含むフロー変調器と、
フロー変調器に接続され、処理ゾーンに対してチャネルを動かすアクチュエータと、
容器中の少なくとも1つの第1電極と、を含むリアクタ。 - 第1電極に加えて容器中に配置された少なくとも1つの第2電極であって、複数の個々に操作可能な電源が、第1電極と第2電極に接続され、第1電極と第2電極はワークピースから間隔を置いて配置された第2電極と、
(a)電源が異なった電極に異なった電気特性を与え、(b)アクチュエータが振動器を均一でないように動かすような指示を含むコンピュータ操作媒体を含むコントローラと、を含む請求項31に記載のリアクタ。 - 更に、フロー変調器と、第1電極に関連する電極チャネルの開口部との間に、シールドを含む請求項32に記載のリアクタ。
- ワークピースの電気化学処理のためにリアクタ中で使用される振動アセンブリであって、
処理中のワークピースに近接して配置されるように形成された第1側を含むベースと、ベースを挟んで互いに間隔を隔てて配置されデバイダとを有し、デバイダとベースは、ワークピースに開口するよう形成された複数の可動な区画を有するフロー変調器と、
ワークピースに対してベースとデバイダとを動かす振動器に接続されたアクチュエータとを含む振動アセンブリ。 - ベースは、プレートとプレートに沿って延びたデバイダとを含み、個々の区画はデバイダの1側面で規定される第1壁と、隣接するデバイダの対向する側により規定される第2壁と、第1壁と第2壁との間にプレートの一部で規定される中間部分とを含む請求項34の振動器。
- ベースはプレートを含み、デバイダは細長い仕切りを含み、区画は、デバイダと液流がそこを通る開口部との間にフロアを有するプレート中にリセスを含む請求項34に記載の振動器。
- ベースはプレートを含み、デバイダは細長い仕切りを含み、区画は、プレート中に、区画のフロアのデバイダと開口部との間に平坦なフロアを有するリセスを含む請求項34の振動器。
- ベースはプレートを含み、デバイダは細長い仕切りを含み、区画は、プレート中に、区画のフロアのデバイダと開口部との間に傾斜した表面を有するリセスを含む請求項34の振動器。
- 傾斜した表面は、細長いリセスの縦軸に直交する面に沿って、V形状の断面が形成された対向して傾斜した表面を有する請求項38の振動器。
- デバイダは、デバイダの縦方向に対して直交する軸に沿って、アクチュエータが振動器を前後に往復運動をさせた場合、区画中で引き起こされる渦巻きを発生させるように形成され、区画は、処理ゾーン中で引き起こされた渦巻きを閉じ込めるように形成された請求項34に記載の振動器。
- ベースは、デバイダの間に複数のリセスを有する多孔質プレートを含む請求項34に記載の振動器。
- ベースは、第1膜厚の周辺領域と、第1膜厚とは異なる第2膜厚の中央領域とを有する請求項34に記載の振動器。
- ワークピースの電気化学処理のためにリアクタ中で使用される振動アセンブリであって、
複数の可動な渦巻き区画を有するフロー変調器であって、個々の区画は処理中のワークピースに開放され、ワークピースの処理溶液中に少なくとも1つの渦巻きを含むように形成されたフロー変調器と、
フロー変調器に接続され、ワークピースに対して渦巻き区画を動かすアクチュエータと、を含む振動アセンブリ。 - ワークピースを湿式化学処理するための方法であって、
処理ゾーン中の処理溶液にワークピースの表面が接触するように配置する工程と、
ワークピースの表面で処理溶液中に複数の渦巻きを形成する工程と、
可動な混合区画中のワークピースの表面近傍に、渦巻きを含む工程と、を含む方法。 - 更に、渦巻きを形成する工程と渦巻きを含む工程とともに、ワークピースを回転させる工程を含む請求項44に記載の方法。
- 複数の渦巻きを形成する工程は、ベースと、ベースを挟んで互いに間隔を隔てて配置された複数のデバイダとを有する振動器を振動させ、ベースとデバイダが可動な混合区画を形成する工程を含む請求項44に記載の方法。
- 更に、振動器を不均一に振動させる工程を含む請求項46に記載の方法。
- 更に、振動器を不均一で、ワークピースの回転を伴うように振動させる工程を含む請求項46に記載の方法。
- 更に、処理溶液を通るように電流を流す工程を含む請求項44に記載の方法。
- 複数の渦巻きを形成する工程は、ベースと、ベースを挟んで互いに間隔を隔てて配置された複数のデバイダとを有する振動器を振動させ、ベースとデバイダが可動な混合区画を形成する工程を含む請求項49に記載の方法。
- 更に、振動器を不均一に振動させる工程を含む請求項50に記載の方法。
- 更に、振動器を不均一で、ワークピースの回転を伴うように振動させる工程を含む請求項50に記載の方法。
- 更に、振動器の略渦流周波数で、振動器を振動させる工程を含む請求項44に記載の方法。
- 更に、振動器を動かすパラメータを修正することにより。合金膜の成分を制御する工程を含む請求項44に記載の方法。
- 請求項1〜30のいずれかのリアクタを用いる工程を含む請求項44に記載の方法。
- 更に、ワークピースの構造のアスペクト比を提供する工程と、アスペクト比に従って振動器の速度とストローク長さとを選択する工程とを含む請求項44に記載の方法。
- 振動器の速度は、アスペクト比が高くなるほど増加する請求項56に記載の方法。
- 更に、メッキサイクル中に、ワークピースの構造のアスペクト比の変化に対応して、振動の動きを変化させる工程を含む請求項44に記載の方法。
- 構造が満たされアスペクト比が減少するにつれて、振動器の速度が低減される請求項58に記載の方法。
- 更に、振動器の移動に関連して、処理溶液中の電極に供給される電流をパルスにする工程を含む請求項44に記載の方法。
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