JP2009302088A - 転写方法および転写装置 - Google Patents
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- 238000012546 transfer Methods 0.000 title claims abstract description 107
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 59
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 320
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 118
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 28
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 28
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 18
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 7
- 230000001788 irregular Effects 0.000 abstract 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 56
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 37
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 28
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 16
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 12
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 10
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000001444 catalytic combustion detection Methods 0.000 description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000006829 Ficus sundaica Species 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical group C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】原板Mの凹凸パターンP面が基板S上に塗布された転写液層UVRに接触した状態で、原板Mおよび基板Sのそれぞれに形成されたアライメントマークALを認識手段により同時に読取ることで原板Mと基板Sとのアライメントを行っているため、従来のように原板Mおよび基板Sに対して特殊な加工を施さなくとも、原板Mが有する凹凸パターンPを容易に高い位置精度で基板S上の転写液層UVRにインプリントできる。
【選択図】図14
Description
本発明の転写装置の第1実施形態であるナノインプリント装置1について図1を参照して説明する。図1はナノインプリント装置1の構成を示す図である。図1に示すナノインプリント装置1は、SiO2などにより構成される原板Mにリソグラフィ法により形成された凹凸パターンを、基板S上に塗布された紫外線硬化型樹脂液層からなる転写液層にインプリントするものであり、基板Sが載置される平面調整機構2と、原板Mおよび基板Sのそれぞれに形成されたアライメントマークALを同時に読取り可能な認識手段3と、認識手段3による原板Mおよび基板SのアライメントマークALの読取りに基づいて原板Mと基板Sとをアライメントするアライメント手段4と、モニタ8aを備え、平面調整機構2、認識手段3およびアライメント手段4の駆動制御を行うコントローラ8とを備えている。
次に、図13および図14を参照して、インプリント方法の一例について説明する。図13はインプリント方法の一例を示す図である。また、図14は図13に示すインプリント方法を示す図であり、(a)ないし(d)はそれぞれ異なる状態を示す。図13に示すように、このインプリント方法の一例では、基板S上に紫外光により硬化する光硬化型樹脂が塗布されて形成された一層構造の転写液層UVRに、原板Mが有する凹凸パターンPをインプリントするように構成されている。この転写液層UVRは、ウレタン系、アクリル系、エポキシ系、ウレタンアクリレート系などの種々の光硬化型樹脂により形成することができる。
次に、図15および図16を参照して、インプリント方法の他の例について説明する。図15はインプリント方法の他の例を示す図である。また、図16は図15に示すインプリント方法を示す図であり、(a)ないし(d)はそれぞれ異なる状態を示す。図15に示すように、このインプリント方法の他の例が、上記したインプリント方法の一例と異なる点は、紫外光により硬化する光硬化型樹脂が塗布されて形成された基板S上の転写液層UVRが、ベース液層BRを下層とし、ベース液層BRよりも粘性の低い潤滑液層LRを上層とする2層構造である点である。そして、このように2層構造に構成された転写液層UVRに原板Mが有する凹凸パターンPがインプリントされるように構成されている。
本発明の転写装置の第2実施形態であるナノインプリント装置1について図17を参照して説明する。図17はナノインプリント装置100の構成を示す図である。このナノインプリント装置100が第1実施形態のナノインプリント装置1と異なる点は、X−Yテーブル41の代わりにピエゾ駆動手段215を有する駆動ユニット200を備え、この駆動ユニット200によりステージ121を移動して、原板Mと基板Sとの高精度アライメントを行っている点である。また、ナノインプリント装置1においてX−Yテーブル41が配設された箇所には、プリズムやミラーにより構成された導光路42を有する土台141が配設されており、真空チャンバー5外に配設された光源34から、アライメント用の赤外光または転写液層硬化用の紫外光を原板Mおよび基板Sに照射可能に構成されている。その他の構成は上記第1実施形態と同様であるため、同一の構成には相当符号を付してその構成および動作の説明を省略する。以下、上記第1実施形態と異なる点を中心に説明する。
3 認識手段
33 カメラ(撮像手段)
4 アライメント手段
102 平面調整機構(アライメント手段)
AL アライメントマーク
P 凹凸パターン
S 基板
M 原板
UVR 転写液層
LR 潤滑液層
BR ベース液層
Claims (7)
- 原板が有する凹凸パターンを基板上に塗布された転写液層にインプリントする転写方法において、
前記原板の凹凸パターン面が前記転写液層に接触した状態で、前記原板および前記基板のそれぞれに形成されたアライメントマークを認識手段により認識することで前記原板と前記基板とのアライメントを行うことを特徴とする転写方法。 - 前記転写液層は、ベース液層を下層とし、前記ベース液層よりも粘性の低い潤滑液層を上層とする2層構造であり、
前記原板の凹凸パターン面が前記潤滑液層に接触した状態で前記アライメントを行うことを特徴とする請求項1に記載の転写方法。 - 前記転写液層は光硬化型樹脂液層であることを特徴とする請求項1または2に記載の転写方法。
- 前記認識手段は、撮像手段により前記原板および前記基板の前記アライメントマークを同時に読取ることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の転写方法。
- 前記認識手段は、前記撮像手段により読取った、隙間を持って配置された前記原板および前記基板のアライメントマーク画像のエッジをベクトル相関法により検出することを特徴とする請求項4に記載の転写方法。
- 前記認識手段は、撮像手段により前記原板および前記基板のいずれか一方の前記アライメントマークを読取った後、他方の前記アライメントマークを読取り、
読取り後の両アライメントマーク画像にそれぞれ位置誤差補正処理を行うことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の転写方法。 - 原板が有する凹凸パターンを基板上に塗布された転写液層にインプリントする転写装置において、
前記原板および前記基板のそれぞれに形成されたアライメントマークを認識する認識手段と、
前記認識手段による前記原板および前記基板の前記アライメントマークの認識に基づいて前記原板と前記基板とをアライメントするアライメント手段とを備え、
前記アライメント手段は、
前記原板の凹凸パターン面が前記転写液層に接触した状態で前記アライメントを行うことを特徴とする転写装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008151316A JP5256409B2 (ja) | 2008-06-10 | 2008-06-10 | 転写方法および転写装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008151316A JP5256409B2 (ja) | 2008-06-10 | 2008-06-10 | 転写方法および転写装置 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012204102A Division JP5326148B2 (ja) | 2012-09-18 | 2012-09-18 | 転写方法および転写装置 |
JP2012204101A Division JP5256410B2 (ja) | 2012-09-18 | 2012-09-18 | 転写方法および転写装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009302088A true JP2009302088A (ja) | 2009-12-24 |
JP5256409B2 JP5256409B2 (ja) | 2013-08-07 |
Family
ID=41548728
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008151316A Active JP5256409B2 (ja) | 2008-06-10 | 2008-06-10 | 転写方法および転写装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5256409B2 (ja) |
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- 2008-06-10 JP JP2008151316A patent/JP5256409B2/ja active Active
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---|---|
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