JP2009302042A - 光学素子とその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】画素において、所望の範囲で膜厚の良好な均一性を得ることができるとともに、画素周縁部で電極のショートを防止する膜厚を容易に確保することができる光学素子とその製造方法を提供する。
【解決手段】画素３を作成するために使用するインクとして、隔壁２の傾斜角Ψとの関係から最適な後退接触角となるインクを選ぶことにより、有効画素領域５内において、最大膜厚ｔｍａｘと平均膜厚の差および最小膜厚ｔｍｉｎと平均膜厚の差が、それぞれ平均膜厚の３５％以内となり、かつ、画素３の周縁部の膜厚ｔｅが隔壁２の高さの３５％以上となるように、画素３を形成する。
【選択図】図１

Description

本発明は、カラーテレビ、パーソナルコンピュータ、携帯電話、カーナビゲーションなどに使用されているフルカラー表示のエレクトロルミネッセンス素子などの光学素子と、その光学素子をインクジェット方式あるいはダイコート方式を利用して製造する光学素子の製造方法に関する。

従来から、カラーテレビ、パーソナルコンピュータ、携帯電話、カーナビゲーションなどの画像表示パネルには、横方向に配置された複数の発光層を備えたフルカラー表示のエレクトロルミネッセンス素子などの光学素子が使用されている。その光学素子の重要な構造条件の一つに、発光層における膜厚の均一性がある。たとえば、特許文献１および特許文献２には、膜形成用インクの接触角を規定することによって膜厚の均一性を得ることが記載されている。

図８と図９は特許文献１に記載された従来の光学素子の構造図であり、図８はその光学素子を上方より見た平面模式図、図９はその光学素子の基板法線方向の断面模式図である。図８と図９において、１は支持基板、２は隔壁、３は画素、４は画素中央部の相似形領域を示す。相似形領域４は画素３の中央に位置し、その面積は画素３の８０％を占める。また、Ｔは隔壁２の最大膜厚、ｔｅは画素３の周縁部の膜厚であり、ｔｍａｘは相似形領域４における最大膜厚、ｔｍｉｎは相似形領域４における最小膜厚である。

この従来技術においては、画素３の周縁部の膜厚ｔｅが隔壁２の最大膜厚Ｔの８０％以上であり、画素３の中央で画素内の８０％を占める相似形領域４内において、画素３の平均膜厚が隔壁２の最大膜厚Ｔの８０％未満で、最大膜厚ｔｍａｘと平均膜厚の差および最小膜厚ｔｍｉｎと平均膜厚の差が、それぞれ平均膜厚の２５％以下である。

この従来技術における光学素子の第一の製造方法は、隔壁２の表面粗さを制御することによって、インク収縮時にインクの隔壁２に対する付着性を高めたことに特徴を有する。第二の製造方法は、隔壁２の素材として感光性樹脂組成物を用い、感光性樹脂組成物が未硬化の状態でインクを付与することにより、インク収縮時にインクの隔壁２に対する付着性を高めたことに特徴を有する。

また、隔壁２の表面にプラズマによる撥インク化処理を施し、隣接画素間での混色を防いでいる。撥インク性の程度は、純水によって測定した接触角が９０度以上となる程度に規定する。さらに、支持基板１の表面の親インク性の程度は、純水によって測定した接触角が２０度以下となる程度に規定する。

しかしながら、上記した特許文献１に記載されている従来の技術では、純水の接触角を規定することによって、相似形領域４内における膜厚の均一性を得ようとしている。そのため、純水の接触角の有効範囲と有機溶媒の接触角の有効範囲が異なる可能性があり、膜厚の良好な均一性を得ることができない可能性がある。さらに、純水の隔壁に対する接触角を９０度以上に規定し、かつ純水の支持基板に対する接触角を２０度以下に規定しており、利用できる接触角の範囲が狭いという問題を有していた。

一方、特許文献２には、隔壁の傾斜角が約７０度の場合に、インクの後退接触角が２９度ないし４５度の範囲となるように隔壁の表面を撥液性に加工することによって、膜厚の均一性を得ることが記載されている。しかしながら、この特許文献２に記載されている従来の技術では、隔壁の傾斜角が約７０度に限定されているという問題を有していた。

また、光学素子の製造によく用いられる、有機化合物を有機溶媒に溶解して作成されるインクでは、その乾燥挙動が、後述するように、複数の基本となる乾燥モードが組み合わされた複雑な挙動となるという問題も有していた。

特開２００２−１４８４２９号公報 特開２００３−２７２８４０号公報

本発明は、上記従来の問題点を解決するもので、隔壁の傾斜角およびインクの接触角のより広い範囲において、膜厚に関して良好な均一性を容易にかつ確実に得ることができる光学素子とその製造方法を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するために本発明の光学素子は、支持基板上に、傾斜角が５０度ないし８０度の範囲の傾斜を有する隔壁と、前記隔壁の開口部に対して付与されたインクを硬化して前記開口部内に形成された画素とを備えた光学素子であって、前記画素は、前記隔壁に対する接触角が２８度以下となるインクを用いて、前記隔壁に接する周縁部の膜厚が前記隔壁の最大高さの３５％以上となり、前記画素の表示に寄与する有効画素領域内において、最大膜厚と平均膜厚との差および最小膜厚と前記平均膜厚との差が、それぞれ前記平均膜厚の３５％以内となるように形成されたことを特徴とする。

本発明の好ましい形態によれば、有効画素領域内で均一性の良好な膜厚を得るための隔壁の傾斜角およびインクの接触角の範囲をより広くすることができる。そのため、隔壁の傾斜角およびインクの接触角のより広い範囲において、有効画素領域内における膜厚に関して、良好な均一性を容易にかつ確実に得ることができる。

本発明の実施の形態の光学素子の構造を示す断面模式図 本発明の実施の形態の光学素子の製造方法におけるインクのＣＣＡモードでの乾燥挙動を示す模式図 本発明の実施の形態の光学素子の製造方法におけるインクのＣＣＲモードでの乾燥挙動を示す模式図 本発明の実施の形態の光学素子の製造方法におけるインクのＣＣＲモードでの溶質の移動を示す模式図 本発明の実施の形態の光学素子の製造方法におけるインクのＣＣＲモードでの蒸発速度を示す模式図 本発明の実施の形態の光学素子の製造方法におけるインク乾燥過程を示す模式図 本発明の実施の形態の光学素子に対する数値解析用数式のパラメータの説明図 従来の光学素子を上方より見た平面模式図 従来の光学素子の基板法線方向の断面模式図

以下、本発明の光学素子とその製造方法に係る実施の形態について、図面を参照しながら具体的に説明する。但し、先行して説明した要素に対応する要素には同一符号を用いて、適宜説明を省略する。

図１は本実施の形態の光学素子の構造を示す断面模式図である。なお、図８および図９に示す光学素子と同じ構成要素については同じ符号を用い、ここでの説明を省略する。図１において、５は画素３内の有効画素領域である。有効画素領域５は、隔壁２で囲まれたセル内に存在し、隔壁２の下端すなわち支持基板１と接合する部分から３．５μｍ内側の線で区画される長方形の内部領域として定義される。この有効画素領域５が、画像表示パネルにおいてディスプレイとして表示される部分となる。

有効画素領域５の範囲は、ディスプレイの解像度等、所望される特性によって自由に変更できる。また、支持基板１として、一般にはガラスが用いられるが、所望の透明性や機械的特性を満たすものであればプラスチックでもよい。また、支持基板１に対しては、プラズマ、ＵＶなどの表面処理を施してもよい。

また、隔壁２は、支持基板１上に構成される。その断面形状は、基板側の辺が長くなる台形となる。隔壁２の傾斜角は、ディスプレイの解像度等、所望される特性によって自由に変更できる。隔壁２に用いる材料としては、絶縁性、有機溶剤耐性、およびプラズマ、エッチング、ベーク処理などのプロセス耐性等を考慮すると、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂などが挙げられる。隔壁２に対しても、プラズマ、ＵＶなどの表面処理を施してもよい。

画素３を構成する蛍光体材料として用いられる有機化合物としては、特に限定はないが、ポリフェニレンビニレン、ポリアリレン、ポリアルキルチオフェン、ポリアルキルフルオレンなどを挙げることができる。画素３は通常、有機溶媒へ有機化合物を溶解してできたインクの状態として塗布されたものが乾燥してできたものである。

インクを塗布する方法としては、インクジェット方式が多く用いられるが、スリット材を通してインクを塗布するダイコート方式等が用いられることもあり、特に限定されない。有機溶媒としては、アルキルベンゼン、アルコキシベンゼン、トルエン、キシレン、アルコールなどが用いられ、２種類以上の溶媒を混合することもあり、前記蛍光体材料を０．１重量％以上溶解することが可能である。

画素３は、隔壁２の開口部に対してインクを付与し、その付与されたインクを乾燥させ、そのインクの溶媒が全て蒸発した後に形成される。その過程で溶媒は複数の乾燥挙動を示す。それらの基本となる二つの挙動を図２および図３にそれぞれ示す。

液滴乾燥挙動の一つは、液滴６の端部が図２に示すように何ら拘束を受けない状態で乾燥する場合である。液滴６は一様に蒸発するため、相似形を保ったまま体積が減少する。これが自然の状態である。接触角が一定のままで変形することから、ＣＣＡ（Ｃｏｎｓｔａｎｔ Ｃｏｎｔａｃｔ Ａｎｇｌｅ）モードと呼ばれる。

液滴乾燥挙動のもう一つは、図３に示すように液滴端部７が拘束を受ける状況で乾燥する場合である。この場合、乾燥が進んでも液滴端部７の体積は減少しない。ここで自然の状態との相違が発生し、液滴端部７の体積減少を液滴内部から補うことになるため、液滴内で液滴端部７へ向かう溶媒の流れ８が発生する。液滴端部７が固定され、すなわち液滴径が変化せずに変形することから、ＣＣＲ（Ｃｏｎｓｔａｎｔ Ｃｏｎｔａｃｔ Ｒａｄｉｕｓ）モードと呼ばれる。

ＣＣＲモードになると、図４に示すように、液滴端部７へ向かう溶媒の流れ８に沿って溶質９が移動するため、液滴端部７での溶質濃度が大きくなる。また、ＣＣＲモードにおいては、図５に示すように、液滴６の表面における蒸発速度１０は、ＣＣＡモードの場合のように一様とはならず、液滴端部７へ近づくにつれて急激に増加する分布を持つ。液滴端部７における蒸発速度１０の特異性は、支持基板１との接触角θｃが小さいほど大きくなる。また、液滴端部７へ向かう溶媒の流れ８の速度も溶媒の液滴端部７での蒸発速度１０とともに大きくなる。

次に、インク塗布後のインク乾燥挙動について、図６を用いて具体的に説明する。
図６（ａ）はインク塗布直後の状態を示す。インクは、隔壁２の上面まで、隣り合うインクと混ざり合うことがないように塗布される。

塗布直後においては、液滴端部７の表面張力と、液滴端部７の界面張力と隔壁２の界面張力との差とのつり合いによって、液滴端部７の接触角θが形成される。続いて乾燥が開始されると、液滴端部７における表面張力のつり合い状態が保たれている間は、図６（ｂ）に示すように、液滴端部７が移動せずに、溶媒の蒸発に伴って接触角が減少する（θ→θＲ）。

液滴端部７における表面張力のつり合い状態が崩れると、液滴６の内部へ引っ張られる力が発生し、これによって液滴６は一定の接触角θＲを保ったままで溶媒の蒸発が進み、図６（ｃ）に示すように、液滴径が減少する。つり合いが崩れるときの接触角が後退接触角であり、後述の表１に示すθＲに当たる。

液滴径の変化現象は、液滴端部７が隔壁２のエッジ１１に到達するまで続く。図６（ｄ）に示すように、液滴端部７が隔壁２のエッジ１１に達すると、接触角の基準が隔壁２の上面から隔壁２の側面１２に変わり、これによって一時的に接触角が増大（θ’）し、後退接触角θＲよりも大きくなるので、再び液滴端部７における表面張力はつり合い状態に戻る。この結果、図６（ｅ）に示すように、液滴端部７は隔壁２のエッジ１１で固定され、乾燥の進行とともに液滴端部７の接触角が減少する（θ→θＲ）。

なお、図６（ｂ）や図６（ｅ）のように、液滴端部７が固定された状態で乾燥が進む場合、液滴中央から液滴端部へ向かって溶媒の流れ８が発生する。そして、接触角が後退接触角まで減少すると、図６（ｃ）や図６（ｆ）に示すように、液滴６は、一定の接触角θＲを保ったまま、乾燥とともに体積が減少する。

前記のように、一定の接触角を保ったまま乾燥する場合には、液滴内部における液滴端部７へ向かう溶媒の流れ８は発生しないため、液滴端部７への溶質９の移動は発生しない。しかし、溶媒の蒸発によって、液滴自身の体積が減少するため、液滴端部７における溶質９の濃度は乾燥が進むにつれて大きくなる。

液滴端部７における溶質９の濃度がある臨界濃度に達すると、溶質９のゲル化が起こり、液滴端部７は、図６（ｇ）に示すように、固定される。この固定は一般にセルフピンニングと云う。セルフピンニングの後は、液滴端部７が固定された状態で図６（ｈ）に示すような乾燥最終状態に至る。

以上説明したように、溶媒の乾燥は、ＣＣＲモードとＣＣＡモードが繰り返されるように進行する。なお、セルフピンニング位置の高さは、後退接触角θＲが小さいほど高くなる。これは前記のように、接触角が小さいほど、液滴端部７が固定された状態での蒸発速度１０が大きくなり、したがって液滴端部７への溶媒の流れ８の速度が大きくなり、溶質が液滴端部７へ集まりやすくなるためである。接触角が小さい場合、図６（ｅ）に示す後退接触角へ達した状態で既に液滴端部７における溶質の濃度が臨界濃度に達していることもあり、この場合は、図６（ｆ）に示す過程を経ることなく図６（ｇ）に示す過程へ移行する。

画素３は、有効画素領域５内において膜厚の均一性が良好であることが望ましく、この領域内における最大膜厚ｔｍａｘと平均膜厚の差および最小膜厚ｔｍｉｎと平均膜厚の差が、それぞれ平均膜厚の３５％以内であることが望ましい。

また、有効画素領域５の周縁部から隔壁２までの外周領域については、この部分の膜厚が小さいと、支持基板１に構成される電極がショートする可能性があり、これを防止するため、画素３の周縁部における膜厚ｔｅ、すなわちセルフピンニング位置の高さを隔壁２の高さの３５％以上とする必要があり、隔壁２の高さの９５％以上とするのが最適である。

なお、この外周領域における最大膜厚ｔｅ’は、有効画素領域５内における膜厚均一性の要件を満たすのであれば、有効画素領域５内における周縁部における膜厚より大きくてもよく、形状は特に限定されない。

以上の要件を満たす隔壁の傾斜角Ψとインクの後退接触角θＲの関係を調べるために、数値シミュレーションを実施した。図７はシミュレーションモデルの概要を示している。このシミュレーションにおいては、図７に示すように、隔壁２を対称形とした。また、中心線と支持基板１の交点を原点Ｏ（０、０）とし、支持基板１と平行な方向にｘ座標、垂直な方向にｙ座標をとっている。液滴６がＣＣＲモードの変形をする場合の基礎式としては、溶媒および溶質９の質量保存を表す以下の３つの式を用いた。

これらの式において、ｈ（ｒ、ｔ）は、ｘ座標ｒの位置における時刻ｔでの液滴高さを表す。同様に、ｃ（ｒ、ｔ）、ｖ（ｒ、ｔ）、Ｊｓ（ｒ、ｔ）、ｖ’（ｒ、ｔ）は、それぞれ液滴内部の微小領域１３における溶質濃度、溶媒の流速、溶媒の蒸発速度、溶質の速度を表しており、すべてｘ座標ｒと時刻ｔの関数である。また、ρは溶媒の密度、Ｄｓは溶媒内における溶質の拡散係数である。

なお、これらの式においては、液滴径に比べて液滴高さが十分に小さく、この場合、ｃ、ｖおよびｖ’は高さ方向に対しては一様であると仮定している。また、重力の影響についても無視している。

式（１）は、溶媒の質量が保存されることを、液滴の高さを使って示している。ｘ座標ｒの位置において、液滴高さｈの時間変化量は、この位置における流速ｖで溶媒が移動することによる減少量と、液滴表面での溶媒の蒸発による減少量の和に等しいことを表している。

式（２）は、溶質９の質量が保存されることを示している。式（３）は、溶媒の流速ｖに溶質９の拡散の影響を考慮した項を付加したものが溶媒内での溶質９の速度ｖ’であることを示している。式（２）において、左辺のｃｈはｘ座標ｒの位置における溶質の質量を表し、右辺のｃｈｖ’はｘ座標ｒの位置において移動する溶質９の質量を表しており、この式（２）は、位置ｒにおけるｃｈは時間とともに減少するが、その減少量は位置ｒにおけるｃｈｖ’に等しいことを表している。つまり、式（２）は、液滴外部（気相）との溶質質量のやり取りがないため、液滴内部では時間とともに溶質の移動が発生しても質量の総和は変化しないことを示している。

前記のように、インク塗布完了の後、乾燥はＣＣＲモードとＣＣＡモードが繰り返されることで進行する。ＣＣＲモードでは境界条件として液滴端部７に拘束を与えている。また、蒸発速度Ｊｓは、液滴端部７へ近づくにつれて大きくなる特異性を有しており、液滴端部７の接触角が小さくなるほど特異性は強くなる。

液滴端部７が固定されるという条件の下で式（１）ないし（３）を解くと、液滴端部７の接触角が減少する過程が再現できる。ＣＣＲモードで乾燥している間は、溶媒の蒸発によって液滴高さが減少する。また、前記の理由によって液滴端部７へ向かう溶媒の流れ８が発生するため、この間に溶質９は流れに沿って液滴端部７へ移動する。このため、液滴端部７の溶質濃度は時間とともに増加する。接触角がインクの後退接触角θＲまで減少するとＣＣＡモードへ移行する。あるいは、液滴端部７における溶質濃度が臨界値に達している場合は、液滴端部７が固定されたままＣＣＲモードで乾燥が続き、溶媒がなくなった時点で乾燥が終了する。

ＣＣＡモードにおいては、表面からの蒸発速度１０は一定で、液滴端部７の接触角が一定値を保ったままで液滴体積が相似形で減少する。この間、液滴端部７に向かう溶媒の流れ８は発生しないが、液滴全体の体積が減少するために全体にわたって溶質濃度が増加し、したがって液滴端部７の濃度も増加する。液滴端部７における溶質濃度がある臨界値に達すると、溶質９のゲル化によって液滴端部７が固定される。これによってＣＣＲモードへ移行する。

以上の２つのモードの計算を繰り返すことで、乾燥過程を解析で再現できる。隔壁２の上面にまでインクが塗布された場合は、ＣＣＲモードから始まり、以下、接触角が後退接触角θＲになるとＣＣＡモードへ移行して液滴端部７が隔壁２の上面を移動し、隔壁２のエッジ１１に達するとＣＣＲモードへ移行し、接触角が後退接触角θＲになるとＣＣＡモードへ移行して液滴端部７が隔壁２の側面１２を移動し、液滴端部７における溶質濃度が臨界濃度に達するとＣＣＲモードへ移行するという過程で乾燥が終了する。このように、溶媒の蒸発と、それに伴う溶質９の移動を数値解析することで、下記の表１に示す結果を得た。

表１において、Ψは隔壁２の傾斜角を表し、θＲはインクの後退接触角を表す。表中において、ΨとθＲの組み合わせの判定を×、△、○、◎で示している。×のついた組み合わせは、有効画素領域５内における最大膜厚と平均膜厚の差および最小膜厚と平均膜厚の差がそれぞれ平均膜厚の３５％以内であるという第１要件と、画素３の周縁部における膜厚、すなわちセルフピンニング位置の高さが隔壁２の高さの３５％以上であるという第２要件のいずれかを満たさない組み合わせである。△のついた組み合わせは、第１要件は満たすが、セルフピンニング位置の高さが隔壁２の高さの３５％未満となる組み合わせである。○のついた組み合わせは、前記２つの要件をいずれも満たす組み合わせである。さらに、◎のついた組み合わせは、前記２つの要件をいずれも満たし、かつセルフピンニング位置の高さが隔壁２の高さの９５％以上となる最適な組み合わせである。

表１に示すように、傾斜角Ψが５０度ないし８０度の範囲の隔壁２に対して、後退接触角θＲが５度ないし２８度の範囲となるインクを用いて画素３を形成すれば、有効画素領域５内における膜厚の均一性および支持基板１に構成される電極のショートの防止を図ることができる。特に、傾斜角Ψが５０度ないし６０度の範囲の隔壁２に対して、後退接触角θＲが５度ないし２２度の範囲となるインクを用いて画素３を形成すれば、有効画素領域５内での良好な膜厚均一性を満たし、かつ、画素３の周縁部における膜厚が隔壁高さの９５％以上となり、最適な条件となる。なお、インクの後退接触角θＲが５度未満の場合は実測することができない。

特許文献１によれば、純水の隔壁に対する接触角が９０度以上で、かつ純水の支持基板に対する接触角が２０度以下であることが望ましいとされているが、本実施の形態によれば、２０度以上であっても良好な膜厚均一性を得られることが判明した。また、特許文献２では隔壁の傾斜角が約７０度に限定されていたが、本実施の形態によれば、５０度ないし８０度の範囲であっても良好な膜厚均一性を得られることが判明した。

このように、インクの乾燥挙動を詳細に検討し、さらには隔壁２に傾斜角を持たせるという条件も加えることで、特許文献１および特許文献２に記載されている従来の構成以外にも、良好な膜厚均一性を得られることが判明した。

この解析結果から考えると、例えば、有機ＥＬの正孔注入層用の水系インク、インターレイヤーに用いられるアニソール系インク、発光層に用いられるアルコキシベンゼン系インクなどの場合は、支持基板１の材料として用いられるガラスや、隔壁２の材料として用いられる多くの樹脂に対して、後退接触角は２０度よりも小さいので、隔壁２の傾斜角Ψが５０度ないし８０度の範囲において有効画素領域内で膜厚の良好な均一性を得ることができる。

また、隣り合う画素どうしの距離によっては、インク塗布時にインクが混じり合うことが問題となる可能性があるが、その場合は、接触角の高いインクを用いるか、隔壁に表面処理を施して接触角を高くすればよい。このとき、表１によると、接触角を２８度まで大きくすることができる。この場合であっても、セルフピンニング位置は隔壁高さの３５％程度を保っており、電極のショートといった問題も防ぐことができる。

本発明にかかる光学素子とその製造方法は、隔壁の傾斜角およびインクの接触角のより広い範囲において、膜厚に関して良好な均一性を容易にかつ確実に得ることができるもので、有機半導体等、構造の均一性を要求される電子デバイス、特に薄膜形状の電子デバイスにも適用できる。

１ 支持基板
２ 隔壁
３ 画素
４ 相似形領域
５ 有効画素領域
６ 液滴
７ 液滴端部
８ ＣＣＲモードで発生する溶媒の流れ
９ 溶質
１０ 液滴表面からの溶媒の蒸発速度
１１ 隔壁のエッジ
１２ 隔壁の側面
１３ 液滴内部の微小領域

Claims (4)

1. 支持基板上に、傾斜角が５０度ないし８０度の範囲の傾斜を有する隔壁と、前記隔壁の開口部に対して付与されたインクを硬化して前記開口部内に形成された画素とを備えた光学素子であって、
   前記画素は、
   前記隔壁に対する接触角が２８度以下となるインクを用いて、前記隔壁に接する周縁部の膜厚が前記隔壁の最大高さの３５％以上となり、前記画素の表示に寄与する有効画素領域内において、最大膜厚と平均膜厚との差および最小膜厚と前記平均膜厚との差が、それぞれ前記平均膜厚の３５％以内となるように形成された
   ことを特徴とする光学素子。
2. 請求項１記載の光学素子であって、
   前記隔壁が、傾斜角が５０度ないし６０度の範囲の傾斜を有し、
   前記画素が、前記隔壁に対する接触角が２２度以下となるインクを用いて、前記隔壁に接する周縁部の膜厚が前記隔壁の最大高さの９５％以上となるように形成された
   ことを特徴とする光学素子。
3. 支持基板上に、傾斜角が５０度ないし８０度の範囲の傾斜を有する隔壁と、前記隔壁の開口部内に形成された画素とを備えた光学素子の製造方法であって、
   前記画素は、前記隔壁に対する接触角が２８度以下となるインクを前記隔壁の前記開口部に対して付与し、その付与された前記インクを乾燥させて、前記隔壁に接する周縁部の膜厚が前記隔壁の最大高さの３５％以上となり、前記画素の表示に寄与する有効画素領域内において、最大膜厚と平均膜厚との差および最小膜厚と前記平均膜厚との差が、それぞれ前記平均膜厚の３５％以内になるように形成する
   ことを特徴とする光学素子の製造方法。
4. 請求項３記載の光学素子の製造方法であって、
   前記インクを、前記隔壁に対する接触角が２２度以下となる溶媒によって作成し、
   前記インクを、傾斜角が５０度ないし６０度の範囲の傾斜を有する前記隔壁の前記開口部に対して付与して、前記隔壁に接する周縁部の膜厚が前記隔壁の最大高さの９５％以上となる前記画素を形成する
   ことを特徴とする光学素子の製造方法。

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