JP2009301340A - 電流ミラー回路 - Google Patents

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Abstract

【課題】入力される参照電流が、MOSトランジスタが線形領域で動作する範囲の電流であっても、電流ミラー回路としての通常の機能を発揮させることが可能な電流ミラー回路を提供する。
【解決手段】電流ミラー回路10は、PMOSトランジスタP1、NMOSトランジスタN1、及びNMOSトランジスタN2が直列接続された構成の第1回路C1と、PMOSトランジスタP2、NMOSトランジスタN3、及びNMOSトランジスタN4が直列接続された構成の第2回路C2と、差動増幅回路OP1と、PMOSトランジスタP11及びPMOSトランジスタを含んで構成されたミラー回路M1と、を含んで構成される。NMOSトランジスタN1とNMOSトランジスタN2との間に参照電流IREFが入力され、NMOSトランジスタN2は線形領域で動作する。
【選択図】図1

Description

本発明は、電流ミラー回路に係り、特に、半導体集積回路における電流ミラー回路に関するものである。
従来、電流ミラー回路には、一例として図9(A)に示す電流ミラー回路100や図10(A)に示す電流ミラー回路200がある。なお、以下では、符号の先頭が“P”であるトランジスタはPチャネル型のMOSトランジスタ(PMOSトランジスタ)であり、符号の先頭が“N”であるトランジスタはNチャネル型のMOSトランジスタ(NMOSトランジスタ)とする。
図9(A)に示す電流ミラー回路100では、NMOSトランジスタN101、N102が飽和領域で動作することにより、IOUTN∝IREFNが得られる。NMOSトランジスタが飽和領域で動作する条件は、VDSN>VGSN−VTNである。
ここで、VDSNは、NMOSトランジスタのドレイン端子−ソース端子間電圧、VGSNは、NMOSトランジスタのゲート端子−ソース端子間電圧、VTNはNMOSトランジスタの閾値電圧である。
図10(A)に示す電流ミラー回路200も同様である。PMOSトランジスタP101、P102が飽和領域で動作することにより、IOUTP∝IREFPが得られる。PMOSトランジスタが飽和領域で動作する条件は、VSDP>VSGP−|VTP|である。
ここで、VSDPはPMOSトランジスタのソース端子−ドレイン端子間電圧、VSGPはPMOSトランジスタのソース端子−ゲート端子間電圧、VTPはPMOSトランジスタの閾値電圧である。
電流ミラー回路100を使用する場合、NMOSトランジスタN101、N102が飽和領域で動作することが必要条件である。これは、電流ミラー回路100のように、NMOSトランジスタのドレイン端子に流入する電流を参照する回路では重要な課題である。そのため、図10(B)に示す電流ミラー回路101のように、NMOSトランジスタN101のドレイン端子とゲート端子を短絡することにより、飽和領域での動作を保障するのが一般的である。
電流ミラー回路200を使用する場合も同様であり、PMOSトランジスタP101、P102が飽和領域で動作することが必要条件であることから、図10(B)に示す電流ミラー回路201のように、PMOSトランジスタP101のドレイン端子とゲート端子を短絡して飽和領域での動作を保障するのが一般的である。なお、特許文献1には、電流ミラー回路201に類似した回路を用いた有機EL素子を駆動する回路が開示されている。
特開2003−5710号公報
しかしながら、例えば電流ミラー回路100のように、NMOSトランジスタのドレイン端子に流入する電流を参照する回路の場合、NMOSトランジスタが線形領域で動作せざるを得ないほどドレイン端子に流入する参照電流が小さい場合、電流ミラー回路として通常の機能を発揮できない。
従って、電流ミラー回路100のような回路では、NMOSトランジスタが飽和領域で動作できる程度の大きさの参照電流を入力するしかなく、電流ミラー回路100を利用する回路に制限が生じてしまう、という問題があった。
本発明は、上述した課題を解決するために提案されたものであり、入力される参照電流が、MOSトランジスタが線形領域で動作する範囲の電流であっても、電流ミラー回路としての通常の機能を発揮させることが可能な電流ミラー回路を提供する。
上記目的を達成するために、請求項1記載の発明は、第1端子に第1所定電圧が供給され且つ制御端子に所定バイアス電圧が供給される第1チャネル型の第1トランジスタ、第2チャネル型の第2トランジスタ、及び第1端子に第2所定電圧が供給され且つ第2端子に参照電流が入力される前記第2チャネル型の第3トランジスタが直列接続され、前記第1トランジスタ及び前記第2トランジスタが飽和領域で動作し、前記第3トランジスタが線形領域で動作する第1回路と、第1端子に前記第1所定電圧が供給され且つ制御端子に前記所定バイアス電圧が供給される第1チャネル型の第4トランジスタ、制御端子が前記第2トランジスタの制御端子に接続された第2チャネル型の第5トランジスタ、及び第1端子に前記第2所定電圧が供給される前記第2チャネル型の第6トランジスタが直列接続され、前記第4トランジスタ及び前記第5トランジスタが飽和領域で動作する第2回路と、第1入力端子が、前記第4トランジスタと前記第5トランジスタとの間、及び、前記第6トランジスタの制御端子に接続され、第2入力端子が、前記第1トランジスタと前記第2トランジスタとの間、及び、前記第3トランジスタの制御端子に接続された差動増幅回路と、第1端子に前記第1所定電圧が供給されると共に、制御端子が前記差動増幅回路に接続され且つ第2端子が前記第5トランジスタと前記第6トランジスタとの間に接続された前記第1チャネル型の第7トランジスタと、第1端子に前記第1所定電圧が供給されると共に、制御端子が前記差動増幅回路に接続された前記第1チャネル型の第8トランジスタと、から成るミラー回路と、を備えている。
この発明によれば、同一構成の第1回路及び第2回路と、差動増幅回路と、ミラー回路とを上記のように接続した構成としたので、入力又は出力される参照電流が、第3トランジスタが線形領域で動作する程度の小さな電流であっても、電流ミラー回路として通常の機能を発揮させることができる。
なお、請求項2に記載したように、前記第2トランジスタ及び前記第5トランジスタの制御端子に前記差動増幅回路の前記第2入力端子が接続された構成としてもよい。
このように、第2トランジスタ及び第5トランジスタの制御端子を短絡して差動増幅回路の第2入力端子に接続した構成とすることにより、第2トランジスタ及び第5トランジスタの制御端子にバイアス電圧を印加する必要がなく、回路構成を簡略化することができる。
請求項3記載の発明は、第1端子に第1所定電圧が供給され且つ制御端子に所定バイアス電圧が供給される第1チャネル型の第1トランジスタ、第2チャネル型の第2トランジスタ、及び第1端子に第2所定電圧が供給され且つ第2端子に参照電流が入力又は出力される前記第2チャネル型の第3トランジスタが直列接続され、前記第1トランジスタ及び前記第2トランジスタが飽和領域で動作し、前記第3トランジスタが線形領域で動作する第1回路と、第1端子に前記第1所定電圧が供給され且つ制御端子に前記所定バイアス電圧が供給される第1チャネル型の第4トランジスタ、制御端子が前記第2トランジスタの制御端子に接続された第2チャネル型の第5トランジスタ、及び第1端子に前記第2所定電圧が供給される前記第2チャネル型の第6トランジスタが直列接続され、前記第4トランジスタ及び前記第5トランジスタが飽和領域で動作する第2回路と、第1端子に前記第1所定電圧が供給され且つ制御端子に前記所定バイアス電圧が供給される第1チャネル型の第7トランジスタ、制御端子が前記第2トランジスタ及び前記第5トランジスタの制御端子に接続された第2チャネル型の第8トランジスタ、及び第1端子に前記第2所定電圧が供給され且つ制御端子が前記第7トランジスタと前記第8トランジスタとの間に接続された前記第2チャネル型の第9トランジスタが直列接続され、前記第7トランジスタ及び前記第8トランジスタが飽和領域で動作する第3回路と、第1入力端子が、前記第1トランジスタと前記第2トランジスタとの間、及び、前記第3トランジスタの制御端子に接続され、第2入力端子が、前記第4トランジスタと前記第5トランジスタとの間、及び、前記第6トランジスタの制御端子に接続された差動増幅回路と、第2端子に前記第1所定電圧が供給されると共に、制御端子が前記差動増幅回路に接続され且つ第1端子が前記第5トランジスタと前記第6トランジスタとの間に接続された前記第2チャネル型の第10トランジスタと、第1端子が前記第8トランジスタと前記第9トランジスタとの間に接続された前記第2チャネル型の第11トランジスタと、から成るミラー回路と、を備えている。
この発明によれば、同一構成の第1回路、第2回路、及び第3回路と、差動増幅回路と、ミラー回路とを上記のように接続した構成としたので、入力又は出力される参照電流が、第3トランジスタが線形領域で動作する程度の小さな電流であっても、電流ミラー回路として通常の機能を発揮させることができる。
なお、請求項4に記載したように、前記第2トランジスタ、前記第5トランジスタ、及び前記第8トランジスタの制御端子に前記差動増幅回路の前記第1入力端子が接続された構成としてもよい。
このように、第2トランジスタ、第5トランジスタ、及び第8トランジスタの制御端子を短絡して差動増幅回路の第1入力端子に接続した構成とすることにより、第2トランジスタ、第5トランジスタ、及び第8トランジスタの制御端子にバイアス電圧を印加する必要がなく、回路構成を簡略化することができる。
本発明によれば、入力される参照電流が、MOSトランジスタが線形領域で動作する範囲の電流であっても、電流ミラー回路としての通常の機能を発揮させることが可能になる、という効果を奏する。
以下、本発明の好ましい実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
(第1実施形態)
図1には、本発明の第1実施形態に係る電流ミラー回路10を示した。以下、電流ミラー回路10の回路構成について説明する。
電流ミラー回路10は、第1回路C1、第2回路C2、差動増幅回路OP1、及びミラー回路M1を含んで構成されている。
第1回路C1は、Pチャネル型(第1チャネル型)のPMOSトランジスタP1(第1トランジスタ)、Nチャネル型(第2チャネル型)のNMOSトランジスタN1(第2トランジスタ)、及びNMOSトランジスタN2(第3トランジスタ)が直列接続された構成である。
第2回路C2は、PMOSトランジスタP2(第4トランジスタ)、NMOSトランジスタN3(第5トランジスタ)、及びNMOSトランジスタN4(第6トランジスタ)が直列接続された構成である。
ここで、直列接続とは、各トランジスタを流れる電流の経路が1本の経路となるように各トランジスタのソース端子(第1端子)及びドレイン端子(第2端子)が接続されることをいう。
また、ミラー回路M1は、PMOSトランジスタP11(第7トランジスタ)及びPMOSトランジスタ(第8トランジスタ)を含んで構成されている。
第1回路C1のPMOSトランジスタP1、P2のソース端子は、VCC電源(第1所定電圧)が供給される電源線に接続される。また、PMOSトランジスタP1のドレイン端子は、差動増幅回路OP1の反転入力端子(第2入力端子)VINMに接続されると共にNMOSトランジスタN1のドレイン端子に接続され、PMOSトランジスタP2のドレイン端子は、差動増幅回路OP1の非反転入力端子(第1入力端子)VINNに接続されると共に、NMOSトランジスタ3のドレイン端子に接続される。また、PMOSトランジスタP1、P2のゲート端子は、共に所定バイアス電圧VBIASPが供給されるバイアス電圧供給端子に接続される。
NMOSトランジスタN1のソース端子は、NMOSトランジスタN2のドレイン端子と接続され、当該ソース端子と当該ドレイン端子との間の端子VREFには参照電流IREFが入力される。
NMOSトランジスタN1のドレイン端子は、差動増幅回路OP1の反転入力端子VINMに接続され、NMOSトランジスタN2のソース端子は、接地(第2所定電圧)される。NMOSトランジスタN1のゲート端子は、所定バイアス電圧VBIASNが供給されるバイアス電圧供給端子に接続され、NMOSトランジスタN2のゲート端子は、差動増幅回路OP1の反転入力端子VINMに接続される。
NMOSトランジスタN3のソース端子とNMOSトランジスタN4のドレイン端子が接続されており、NMOSトランジスタN3のドレイン端子は差動増幅回路OP1の非反転入力端子VINNに接続され、NMOSトランジスタ4のソース端子は接地される。NMOSトランジスタN3のゲート端子は所定バイアス電圧VBIASNが供給されるバイアス電圧供給端子に接続され、NMOSトランジスタN4のゲート端子は、差動増幅回路OP1の非反転入力端子に接続される。
ここで、PMOSトランジスタP1、P2のトランジスタサイズ、すなわちゲート長及びゲート幅は同一である。また、これらのPMOSトランジスタが飽和領域で動作するように、所定バイアス電圧VBIASPやPMOSトランジスタP1、P2の特性が調整されている。
同様に、NMOSトランジスタN1、N3もトランジスタサイズが同一である。また、これらのNMOSトランジスタが飽和領域で動作するように、所定バイアス電圧VBIASNやNMOSトランジスタN1、N3の特性が調整されている。
また、NMOSトランジスタN2、N4もトランジスタサイズは同一である。従って、第1回路C1と第2回路C2とは、入出力信号を除いて同一の回路を構成する。
差動増幅回路OP1の出力端子VGPOは、ミラー回路M1のPMOSトランジスタP11、P12のゲート端子に接続されている。
PMOSトランジスタP11、P12のソース端子はVCC電源に接続される。PMOSトランジスタP11のドレイン端子は、NMOSトランジスタN3とNMOSトランジスタN4との間の端子VREFPに接続される。PMOSトランジスタP12のドレイン端子は、出力端子OUTPに接続される。
PMOSトランジスタP11、P12が飽和領域で動作するように、差動増幅回路OP1の出力端子VGPOに出力される電圧、PMOSトランジスタP11、P12の特性が調整されている。なお、以下では、PMOSトランジスタP11に流れる参照電流をIREFP、PMOSトランジスタP12に流れる出力電流をIOUTPとする。
次に、電流ミラー回路10の回路動作について説明する。
まず、第1回路C1に着目する。PMOSトランジスタP1、NMOSトランジスタN1は飽和領域で動作する。この場合、参照電流IREFが増減するのに応じて端子VREFの電圧は僅かに増減する。NMOSトランジスタN1はゲート接地増幅回路として機能し、参照電流IREFの増減に応じて反転入力端子VINMの電圧は端子VREFの電圧よりも大きく増減する。
次に、第2回路C2に着目する。PMOSトランジスタP2、NMOSトランジスタN3は飽和領域で動作する。この場合、参照電流IREFPの増減に応じて端子VREFPの電圧は僅かに増減する。NMOSトランジスタN3は、ゲート接地増幅回路として機能し、参照電流IREFPの増減に応じて非反転入力端子VINNの電圧は端子VREFPの電圧より大きく増減する。
差動増幅回路OP1は、NMOSゲート入力とされ、動作条件としてはVINM>VTN、VINN>VTNが必須となる。そのため、NMOSトランジスタN2、N4のゲート端子にそれぞれVINM、VINNを接続することで、VINM>VTN、VINN>VTNが保障される。また、このように接続することにより、反転入力端子VINM、非反転入力端子VINNから端子VREF、VREFNへのフィードバック効果があり、回路動作の安定化が図られる。
反転入力端子VINM、非反転入力端子VINNの入力電圧が同一の電圧となる場合、第1回路C1及び第2回路C2の動作条件は完全に一致し、IREF=IREFPとなる。差動増幅回路OP1は、反転入力端子VINM、非反転入力端子VINNの入力電圧が同一電圧となるように出力端子VGPOに出力される電圧を調整するため、IREF=IREFPとなる。
PMOSトランジスタP11、P12は電流ミラー回路を構成しているため、PMOSトランジスタP12に流れる出力電流IOUTPは参照電流IREFPに比例する。例えば、PMOSトランジスタP11、P12のゲート長を同一とし、ゲート幅を1:N(Nは正数)とした場合、IOUTP=IREFP×Nとなる。また、IREF=IREFP、IOUTP=IREFP×Nであるから、IOUTP=IREF×Nである。ただし、出力端子OUTPに出力される電圧は、PMOSトランジスタP12が飽和領域で動作する電圧でなければならない。
NMOSトランジスタN1が飽和領域で動作するための反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、次式で表わされる。
INM>VBIASN−VTN ・・・(1)
また、NMOSトランジスタN2がオンするための反転入力端子VINMの入力電圧VINMの条件は、次式で表わされる。
INM>VTN ・・・(2)
従って、VBIASN>2×VTNの場合は、上記(1)式、VBIASN<2×VTNの場合は上記(2)式でVINMの条件が制限を受ける。
また、PMOSトランジスタP1が飽和領域で動作するための反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、次式で表わされる。
INM<VBIASP+|VTP| ・・・(3)
上記(1)〜(3)式により、バイアス電圧の条件は、なるべく電圧が低い方が好ましいことから、VBIASN<2×VTNとすることが好ましい。
また、NMOSトランジスタN1が飽和領域で動作するための端子VREFの電圧VREFの条件は、次式で表わされる。
REF<VBIASN−VTN ・・・(4)
なお、NMOSトランジスタN2に関しては基本的に制限はない。上記(4)式により、電圧VREFが高い場合にはバイアス電圧VBIASNの電圧も高くする必要があるが、反転入力端子VINMの電圧条件である上記(1)〜(3)式を満たすようにバイアス電圧VBIASNを設定する。
電流ミラー回路10では、参照電流IREFが流入する端子VREFの必要電圧条件は上記(1)式、(4)式より、VREF<VBIASN−VTN<VINMである。この電圧条件は、当然にVREF≦VINM−VTNを含んでいる。換言すれば、参照電流IREFが流入するNMOSトランジスタN2のドレイン端子の電圧条件は、VDSN≦VGSN−VTNを許容する。すなわち、NMOSトランジスタN2が線形領域で動作することを許容する。
このように、電流ミラー回路10は、NMOSトランジスタN2のドレイン端子に流入する参照電流が、NMOSトランジスタN2が線形領域で動作するような小さい電流であっても、電流ミラー回路としての通常の機能を発揮させることができる。
なお、電流ミラー回路10は、参照電流IREFに応じた出力電流IOUTPが出力される端子をPMOSトランジスタのドレイン端子としたい場合に有用である。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について説明する。なお、第1実施形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図2には、本実施形態に係る電流ミラー回路20を示した。以下、電流ミラー回路20の回路構成について、図1の電流ミラー回路10と異なる部分を中心に説明する。
電流ミラー回路20は、第3回路C3を備えている。
第3回路C3は、PMOSトランジスタP3(第7トランジスタ)、NMOSトランジスタN5(第8トランジスタ)、及びNMOSトランジスタN6(第9トランジスタ)が直列接続された構成である。
また、ミラー回路M2は、抵抗R1、NMOSトランジスタN7(第10トランジスタ)、及びNMOSトランジスタN8(第11トランジスタ)を含んで構成されている。
PMOSトランジスタP3のソース端子は、電源線Vccに接続されており、PMOSトランジスタP3のゲート端子は、バイアス電圧供給端子VBIASPに接続され、NMOSトランジスタN5のゲート端子は、バイアス電圧供給端子VBIASNに接続され、NMOSトランジスタN6のゲート端子は、PMOSトランジスタP3とNMOSトランジスタN5との間の端子VDPNに接続されている。NMOSトランジスタN6のソース端子は接地されている。
また、PMOSトランジスタP1及びNMOSトランジスタN1のドレイン端子、NMOSトランジスタN2のゲート端子は、差動増幅回路OP2の非反転入力端子VINMに接続されており、PMOSトランジスタP2及びNMOSトランジスタN3のドレイン端子、NMOSトランジスタN4のゲート端子は、差動増幅回路OP2の反転入力端子VINNに接続されている。
また、NMOSトランジスタN3とNMOSトランジスタN4との間の端子VREFNは、NMOSトランジスタN7のソース端子が接続されており、NMOSトランジスタN5とNMOSトランジスタN6との間の端子VSNOには、NMOSトランジスタN8のソース端子が接続されている。
NMOSトランジスタN7のドレイン端子は、抵抗R1を介して電源線Vccに接続されており、NMOSトランジスタN8のドレイン端子は、出力端子OUTNに接続されている。NMOSトランジスタN7、N8のゲート端子は、差動増幅回路OP2の出力端子VGNOに接続されている。
また、PMOSトランジスタP1、P2、P3はトランジスタサイズが同一である。また、これらのPMOSトランジスタが飽和領域で動作するように、バイアス電圧VBIASPやPMOSトランジスタP1、P2、P3の特性が調整されている。
同様に、NMOSトランジスタN1、N3、N5もトランジスタサイズが同一である。また、これらのNMOSトランジスタが飽和領域で動作するように、バイアス電圧VBIASNやNMOSトランジスタN1、N3、N5の特性が調整されている。
また、NMOSトランジスタN2、N4、N6もトランジスタサイズが同一である。従って、第1回路C1、第2回路C2、第3回路C3は、入出力信号を除いて同一の回路を構成する。
なお、NMOSトランジスタN7、N8が飽和領域で動作するように、差動増幅回路OP2の出力端子VGNOに出力される出力電圧、NMOSトランジスタN7、N8の特性が調整されている。また、以下では、NMOSトランジスタN7に流れる参照電流をIREFN、NMOSトランジスタN8に流れる出力電流をIOUTNとする。
次に、電流ミラー回路20の回路動作について説明する。
第1回路C1、第2回路C2の動作は第1実施形態で説明したのと同様である。次に、第3回路C3は、第2回路C2と同一の回路構成であり、PMOSトランジスタP3、N5は飽和領域で動作する。この場合、IOUTNの増減に応じて端子VSNOの電圧は僅かに増減する。NMOSトランジスタN5はゲート接地増幅回路として機能し、IOUTNの増減に応じて端子VDPNの電圧は端子VSNOの電圧より大きく増減する。この回路動作は、第2回路C2の回路動作と同一であり、NMOSトランジスタN8のソース端子の動作条件をNMOSトランジスタN7のソース端子の動作条件と同一とする役割を果たす。
差動増幅回路OP2の非反転入力端子VINM、反転入力端子VINNが同一電圧となる場合、第1回路C1と第2回路C2は動作条件が完全に一致し、IREF=IREFNとなる。差動増幅回路OP2は、非反転入力端子VINM、反転入力端子VINNに入力される電圧が同一電圧となるように出力電圧VGNOを調整するため、IREF=IREFNとなる。
NMOSトランジスタN7、N8は電流ミラー回路を構成しているため、NMOSトランジスタN7とN8のトランジスタサイズを等しくした場合、IOUTN=IREFNとなる。 NMOSトランジスタN7とN8のゲート長を同一にすると共にゲート幅を1:Nとし、第2回路C2、第3回路C3の対応する各トランジスタのゲート長を同一にすると共にゲート幅を1:Nとした場合、IOUTN=IREFN×Nとなる。また、IREF=IREFN、IOUTN=IREFN×Nであるから、IOUTN=IREF×Nである。ただし、出力電圧OUTNはNMOSトランジスタN8が飽和領域で動作する電圧でなければならない。
NMOSトランジスタN1が飽和領域で動作するための非反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、上記(1)式で表わされる。
また、NMOSトランジスタN2がオンするための非反転入力端子VINMの入力電圧VINMの条件は、上記(2)式で表わされる。
従って、VBIASN>2×VTNの場合は上記(1)式、VBIASN<2×VTNの場合は上記(2)式でVINMの条件が制限を受ける。
また、PMOSトランジスタP1が飽和領域で動作するための非反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、上記(3)式で表わされる。
上記(1)〜(3)式により、バイアス電圧の条件は、なるべく電圧が低い方が好ましいことから、VBIASN<2×VTNとすることが好ましい。
また、NMOSトランジスタN1が飽和領域で動作するための端子VREFの電圧VREFの条件は、上記(4)式で表わされる。
なお、NMOSトランジスタN2に関しては基本的に制限はない。上記(4)式により、電圧VREFが高い場合にはバイアス電圧VBIASNの電圧も高くする必要があるが、非反転入力端子VINMの電圧条件である上記(1)〜(3)式を満たすようにバイアス電圧VBIASNを設定する。
電流ミラー回路20では、参照電流IREFが流入するVREFの必要電圧条件は上記(1)式、(4)式より、VREF<VBIASN−VTN<VINMである。この電圧条件は、当然にVREF≦VINM−VTNを含んでいる。換言すれば、参照電流IREFが流入するNMOSトランジスタN2のドレイン端子の電圧条件は、VDSN≦VGSN−VTNを許容する。すなわち、NMOSトランジスタN2が線形領域で動作することを許容する。
このように、電流ミラー回路20は、NMOSトランジスタN2のドレイン端子に流入する参照電流が、NMOSトランジスタN2が線形領域で動作するような小さい電流であっても、電流ミラー回路としての通常の機能を発揮させることができる。
なお、電流ミラー回路20は、参照電流IREFに応じた出力電流IOUTNが出力される端子をNMOSトランジスタのドレイン端子としたい場合に有用である。
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態について説明する。なお、第1実施形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図3には、本実施形態に係る電流ミラー回路30を示した。以下、電流ミラー回路30の回路構成について、図1の電流ミラー回路10と異なる部分を中心に説明する。
電流ミラー回路30が図1の電流ミラー回路10と異なるのは、電流ミラー回路30では、NMOSトランジスタN1、N3のゲート端子が短絡されると共に、差動増幅回路OP1の反転入力端子VINMに接続されている点である。
NMOSトランジスタN1が飽和領域で動作するための反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、次式で表わされる。
INM>VREF+VTN ・・・(5)
また、NMOSトランジスタN2がオンするための反転入力端子VINMの入力電圧VINMの条件は、上記(2)式で表わされる。
また、PMOSトランジスタP1が飽和領域で動作するための反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、上記(3)式で表わされる。
ただし、電流ミラー回路30では、NMOSトランジスタN1のドレイン端子とゲート端子を短絡して、上記(5)、(2)式を常に満たすように保障しているが、上記(5)式によりVREFの電圧が高いとVINMの電圧も高くなるため、上記(3)式を満たすようにする必要がある。
このように、電流ミラー回路30は、NMOSトランジスタN2のドレイン端子に流入する参照電流が、NMOSトランジスタN2が線形領域で動作するような小さい電流であっても、電流ミラー回路としての通常の機能を発揮させることができる。
また、電流ミラー回路10と比較して、バイアス電圧VBIASNを供給する必要がないため、回路構成を簡略化することができる。また、VREFの電圧条件の制限が緩和されるため、より柔軟な回路構成が可能となる。
(第4実施形態)
次に、本発明の第4実施形態について説明する。なお、第2実施形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図4には、本実施形態に係る電流ミラー回路40を示した。以下、電流ミラー回路40の回路構成について、図2の電流ミラー回路20と異なる部分を中心に説明する。
電流ミラー回路40が図2の電流ミラー回路20と異なるのは、電流ミラー回路40では、NMOSトランジスタN1、N3、N5のゲート端子が短絡されると共に、差動増幅回路OP2の非反転入力端子VINMに接続されている点である。
NMOSトランジスタN1が飽和領域で動作するための非反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、上記(5)式で表わされる。
また、NMOSトランジスタN2がオンするための非反転入力端子VINMの入力電圧VINMの条件は、上記(2)式で表わされる。
また、PMOSトランジスタP1が飽和領域で動作するための非反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、上記(3)式で表わされる。
ただし、電流ミラー回路40では、NMOSトランジスタN1のドレイン端子とゲート端子を短絡して、上記(5)、(2)式を常に満たすように保障しているが、上記(1)式によりVREFの電圧が高いとVINMの電圧も高くなるため、上記(3)式を満たすようにする必要がある。
このように、電流ミラー回路40は、NMOSトランジスタN2のドレイン端子に流入する参照電流が、NMOSトランジスタN2が線形領域で動作するような小さい電流であっても、電流ミラー回路としての通常の機能を発揮させることができる。
また、電流ミラー回路20と比較して、バイアス電圧VBIASNを供給する必要がないため、回路構成を簡略化することができる。また、VREFの電圧条件の制限が緩和されるため、より柔軟な回路構成が可能となる。
(第5実施形態)
次に、本発明の第5実施形態について説明する。なお、第1実施形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図5には、本発明の第5実施形態に係る電流ミラー回路50を示した。以下、電流ミラー回路50の回路構成について説明する。
電流ミラー回路50は、第1回路C11、第2回路C12、差動増幅回路OP11、及びミラー回路M11を含んで構成されている。
電流ミラー回路50は、第1回路C11、第2回路C12、差動増幅回路OP11、及びミラー回路M11を含んで構成されている。
第1回路C11は、Nチャネル型(第1チャネル型)のNMOSトランジスタN1(第1トランジスタ)、Pチャネル型(第2チャネル型)のPMOSトランジスタP1(第2トランジスタ)、及びPMOSトランジスタP2(第3トランジスタ)が直列接続された構成である。
第2回路C12は、NMOSトランジスタN2(第4トランジスタ)、PMOSトランジスタP3(第5トランジスタ)、及びPMOSトランジスタP4(第6トランジスタ)、が直列接続された構成である。
ここで、直列接続とは、各トランジスタを流れる電流の経路が1本の経路となるように各トランジスタのソース端子(第2端子)及びドレイン端子(第1端子)が接続されることをいう。
また、ミラー回路M11は、NMOSトランジスタN11(第7トランジスタ)及びNMOSトランジスタN12(第8トランジスタ)を含んで構成されている。
第1回路C11のNMOSトランジスタN1、N2のソース端子は接地(第1所定電圧)される。また、NMOSトランジスタN1のドレイン端子は、差動増幅回路OP11の反転入力端子(第2入力端子)VINMに接続されると共にPMOSトランジスタP1のドレイン端子に接続され、NMOSトランジスタN2のドレイン端子は、差動増幅回路OP11の非反転入力端子(第1入力端子)VINNに接続されると共に、PMOSトランジスタP3のドレイン端子に接続される。また、NMOSトランジスタN1、N2のゲート端子は、共に所定バイアス電圧VBIASNが供給されるバイアス電圧供給端子に接続される。
PMOSトランジスタP1のソース端子は、PMOSトランジスタP2のドレイン端子と接続され、当該ソース端子と当該ドレイン端子との間の端子VREFからは参照電流IREFが出力される。
PMOSトランジスタP1のドレイン端子は、差動増幅回路OP11の反転入力端子VINMに接続され、PMOSトランジスタP2のソース端子は、VCC電源(第2所定電圧)が供給される電源線に接続される。PMOSトランジスタP1のゲート端子は、所定バイアス電圧VBIASPが供給されるバイアス電圧供給端子に接続され、PMOSトランジスタP2のゲート端子は、差動増幅回路OP1の反転入力端子VINMに接続される。
PMOSトランジスタP3のソース端子とPMOSトランジスタP4のドレイン端子が接続されており、PMOSトランジスタP3のドレイン端子は差動増幅回路OP11の非反転入力端子VINNに接続され、PMOSトランジスタP4のソース端子はVCC電源が供給される電源線に接続される。PMOSトランジスタP3のゲート端子は所定バイアス電圧VBIASPが供給されるバイアス電圧供給端子に接続され、PMOSトランジスタP4のゲート端子は、差動増幅回路OP1の非反転入力端子に接続される。
ここで、NMOSトランジスタN1、N2のトランジスタサイズ、すなわちゲート長及びゲート幅は同一である。また、これらのNMOSトランジスタが飽和領域で動作するように、所定バイアス電圧VBIASNやNMOSトランジスタN1、N2の特性が調整されている。
同様に、PMOSトランジスタP1、P3もトランジスタサイズが同一である。また、これらのPMOSトランジスタが飽和領域で動作するように、所定バイアス電圧VBIASPやPMOSトランジスタP1、P3の特性が調整されている。
また、PMOSトランジスタP2、P4もトランジスタサイズは同一である。従って、第1回路C11と第2回路C12とは、入出力信号を除いて同一の回路を構成する。
差動増幅回路OP11の出力端子VGNOは、ミラー回路M11のPMOSトランジスタN11、N12のゲート端子に接続されている。
NMOSトランジスタN11、N12のソース端子は接地される。NMOSトランジスタN11のドレイン端子は、PMOSトランジスタP3とPMOSトランジスタP4との間の端子VREFNに接続される。NMOSトランジスタN12のドレイン端子は、出力端子OUTNに接続される。
NMOSトランジスタN11、N12が飽和領域で動作するように、差動増幅回路OP11の出力端子VGNOに出力される電圧、NMOSトランジスタN11、N12の特性が調整されている。なお、以下では、NMOSトランジスタN11に流れる参照電流をIREFN、NMOSトランジスタN12に流れる出力電流をIOUTNとする。
次に、電流ミラー回路50の回路動作について説明する。
まず、第1回路C11に着目する。NMOSトランジスタN1、PMOSトランジスタP1は飽和領域で動作する。この場合、参照電流IREFが増減するのに応じて端子VREFの電圧は僅かに増減する。PMOSトランジスタP1はゲート接地増幅回路として機能し、参照電流IREFの増減に応じて反転入力端子VINMの電圧は端子VREFの電圧よりも大きく増減する。
次に、第2回路C12に着目する。NMOSトランジスタN2、PMOSトランジスタP3は飽和領域で動作する。この場合、参照電流IREFNの増減に応じて端子VREFNの電圧は僅かに増減する。PMOSトランジスタP3は、ゲート接地増幅回路として機能し、参照電流IREFNの増減に応じて非反転入力端子VINNの電圧は端子VREFNの電圧より大きく増減する。
差動増幅回路OP11は、PMOSゲート入力とされ、動作条件としてはVCC−VINM>|VTP|、VCC−VINN>|VTP|が必須となる。そのため、PMOSトランジスタP2、P4のゲート端子にそれぞれVINM、VINNを接続することで、VCC−VINM>|VTP|、VCC−VINN>|VTP|が保障される。また、このように接続することにより、反転入力端子VINM、非反転入力端子VINNから端子VREF、VREFNへのフィードバック効果があり、回路動作の安定化が図られる。
反転入力端子VINM、非反転入力端子VINNの入力電圧が同一の電圧となる場合、第1回路C11及び第2回路C12の動作条件は完全に一致し、IREF=IREFNとなる。差動増幅回路OP11は、反転入力端子VINM、非反転入力端子VINNの入力電圧が同一電圧となるように出力端子VGNOに出力される電圧を調整するため、IREF=IREFNとなる。
NMOSトランジスタN11、N12は電流ミラー回路を構成しているため、NMOSトランジスタN12に流れる出力電流IOUTNは参照電流IREFNに比例する。例えば、NMOSトランジスタN11、N12のゲート長を同一とし、ゲート幅を1:N(Nは正数)とした場合、IOUTN=IREFN×Nとなる。また、IREF=IREFN、IOUTN=IREFN×Nであるから、IOUTN=IREF×Nである。ただし、出力端子OUTNに出力される電圧は、NMOSトランジスタN12が飽和領域で動作する電圧でなければならない。
PMOSトランジスタP2がオンするための反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、次式で表わされる。
INM<VCC−|VTP| ・・・(6)
また、PMOSトランジスタP1が飽和条件で動作するための反転入力端子VINMの入力電圧VINMの条件は、次式で表わされる。
INM<VBIASP+|VTP| ・・・(7)
従って、VBIASP>VCC−2×|VTP|の場合は、上記(6)式、VBIASP<VCC−2×|VTP|の場合は上記(7)式でVINMの条件が制限を受ける。
また、NMOSトランジスタN1が飽和領域で動作するための反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、次式で表わされる。
INM>VBIASN−VTN ・・・(8)
上記(6)〜(8)式により、バイアス電圧の条件は、なるべく電圧が高い方が好ましいことから、VBIASP>VCC−2×|VTP|とすることが好ましい。
また、PMOSトランジスタP1が飽和領域で動作するための端子VREFの電圧VREFの条件は、次式で表わされる。
REF>VBIASP+|VTP| ・・・(9)
なお、PMOSトランジスタP2に関しては基本的に制限はない。上記(9)式により、電圧VREFが低い場合にはバイアス電圧VBIASNの電圧も低くする必要があるが、反転入力端子VINMの電圧条件である上記(6)〜(8)式を満たすようにバイアス電圧VBIASPを設定する。
電流ミラー回路50では、参照電流IREFが流出する端子VREFの必要電圧条件は上記(7)式、(9)式より、VREF>VBIASP+|VTP|>VINMである。この電圧条件は、当然にVREF≧VINM+|VTP|を含んでいる。換言すれば、参照電流IREFが流出するPMOSトランジスタP2のドレイン端子の電圧条件は、VSDP≦VSGP−|VTP|を許容する。すなわち、PMOSトランジスタP2が線形領域で動作することを許容する。
このように、電流ミラー回路50は、PMOSトランジスタP2のドレイン端子に流入する参照電流が、PMOSトランジスタP2が線形領域で動作するような小さい電流であっても、電流ミラー回路としての通常の機能を発揮させることができる。
なお、電流ミラー回路50は、参照電流IREFに応じた出力電流IOUTNが出力される端子をNMOSトランジスタのドレイン端子としたい場合に有用である。
(第6実施形態)
次に、本発明の第6実施形態について説明する。なお、第5実施形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図6には、本実施形態に係る電流ミラー回路60を示した。以下、電流ミラー回路60の回路構成について、図5の電流ミラー回路50と異なる部分を中心に説明する。
電流ミラー回路60は、第3回路C13を備えている。
第3回路C13は、NMOSトランジスタN3(第7トランジスタ)、PMOSトランジスタP5(第8トランジスタ)、及びPMOSトランジスタP6(第9トランジスタ)が直列接続された構成である。
また、ミラー回路M12は、抵抗R11、PMOSトランジスタP7(第10トランジスタ)、及びPMOSトランジスタP8(第11トランジスタ)を含んで構成されている。
NMOSトランジスタN3のソース端子は、接地されており、NMOSトランジスタN3のゲート端子は、バイアス電圧供給端子VBIASNに接続され、PMOSトランジスタP5のゲート端子は、バイアス電圧供給端子VBIASPに接続され、PMOSトランジスタP6のゲート端子は、NMOSトランジスタN3とPMOSトランジスタP5との間の端子VDPNに接続されている。PMOSトランジスタP6のソース端子は電源線VCCに接続されている。
また、NMOSトランジスタN1及びPMOSトランジスタP1のドレイン端子、PMOSトランジスタP2のゲート端子は、差動増幅回路OP12の非反転入力端子VINMに接続されており、NMOSトランジスタN2及びPMOSトランジスタP3のドレイン端子、PMOSトランジスタP4のゲート端子は、差動増幅回路OP12の反転入力端子VINNに接続されている。
また、PMOSトランジスタP3とPMOSトランジスタP4との間の端子VREFPは、PMOSトランジスタP7のソース端子が接続されており、PMOSトランジスタP5とPMOSトランジスタP6との間の端子VSPOには、PMOSトランジスタP8のソース端子が接続されている。
PMOSトランジスタP7のドレイン端子は、抵抗R11を介して接地されており、PMOSトランジスタP8のドレイン端子は、出力端子OUTPに接続されている。なお、PMOSトランジスタP7のドレイン端子の電圧が、PMOSトランジスタP7が飽和領域で動作するような電圧となるように、抵抗R11の抵抗値が設定される。また、PMOSトランジスタP7、P8のゲート端子は、差動増幅回路OP12の出力端子VGPOに接続されている。
また、NMOSトランジスタN1、N2、N3はトランジスタサイズが同一である。また、これらのNMOSトランジスタが飽和領域で動作するように、バイアス電圧VBIASNやNMOSトランジスタN1、N2、N3の特性が調整されている。
同様に、PMOSトランジスタP1、P3、P5もトランジスタサイズが同一である。また、これらのPMOSトランジスタが飽和領域で動作するように、バイアス電圧VBIASPやPMOSトランジスタP1、P3、P5の特性が調整されている。
また、PMOSトランジスタP2、P4、P6もトランジスタサイズが同一である。従って、第1回路C11、第2回路C12、第3回路C13は、入出力信号を除いて同一の回路を構成する。
なお、PMOSトランジスタP7、P8が飽和領域で動作するように、差動増幅回路OP12の出力端子VGPOに出力される出力電圧、PMOSトランジスタP7、P8の特性が調整されている。また、以下では、PMOSトランジスタP7に流れる参照電流をIREFP、PMOSトランジスタP8に流れる出力電流をIOUTPとする。
次に、電流ミラー回路60の回路動作について説明する。
第1回路C11、第2回路C12の動作は第5実施形態で説明したのと同様である。次に、第3回路C13は、第2回路C12と同一の回路構成であり、NMOSトランジスタN3、P5は飽和領域で動作する。この場合、IOUTPの増減に応じて端子VSPOの電圧は僅かに増減する。PMOSトランジスタP5はゲート接地増幅回路として機能し、IOUTPの増減に応じて端子VDPNの電圧は端子VSPOの電圧より大きく増減する。この回路動作は、第2回路C12の回路動作と同一であり、PMOSトランジスタP8のソース端子の動作条件をPMOSトランジスタP7のソース端子の動作条件と同一とする役割を果たす。
差動増幅回路OP12の非反転入力端子VINM、反転入力端子VINNが同一電圧となる場合、第1回路C11と第2回路C12は動作条件が完全に一致し、IREF=IREFPとなる。差動増幅回路OP12は、非反転入力端子VINM、反転入力端子VINNに入力される電圧が同一電圧となるように出力電圧VGPOを調整するため、IREF=IREFPとなる。
PMOSトランジスタP7、P8は電流ミラー回路を構成しているため、PMOSトランジスタP7とP8のトランジスタサイズを等しくした場合、IOUTP=IREFPとなる。 PMOSトランジスタP7とP8のゲート長を同一にすると共にゲート幅を1:Nとし、第2回路C12、第3回路C13の対応する各トランジスタのゲート長を同一にすると共にゲート幅を1:Nとした場合、IOUTP=IREFP×Nとなる。また、IREF=IREFP、IOUTP=IREFP×Nであるから、IOUTP=IREF×Nである。ただし、出力電圧OUTPはPMOSトランジスタP8が飽和領域で動作する電圧でなければならない。
PMOSトランジスタP2がオンするための非反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、次式で表わされる。
CC−VINM>|VTP| ・・・(10)
また、PMOSトランジスタP1が飽和領域で動作するための非反転入力端子VINMの入力電圧VINMの条件は、次式で表わされる。
CC−VINM>VCC−VBIASP−|VTP| ・・・(11)
従って、VBIASP>VCC−2×|VTP|の場合は上記(10)式、VBIASP<VCC−2×|VTP|の場合は上記(11)式でVINMの条件が制限を受ける。
また、NMOSトランジスタN1が飽和領域で動作するための非反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、上記(8)式で表わされる。
上記(10)、(11)、(8)式により、バイアス電圧の条件は、なるべく電圧が高い方が好ましいことから、VBIASP>VCC−2×|VTP|とすることが好ましい。
また、PMOSトランジスタP1が飽和領域で動作するための端子VREFの電圧VREFの条件は、上記(9)式で表わされる。
なお、PMOSトランジスタP2に関しては基本的に制限はない。上記(9)式により、電圧VREFが低い場合にはバイアス電圧VBIASPの電圧も低くする必要があるが、非反転入力端子VINMの電圧条件である上記(10)、(11)、(8)式を満たすようにバイアス電圧VBIASPを設定する。
電流ミラー回路60では、参照電流IREFが流出するVREFの必要電圧条件は上記(11)式、(9)式より、VREF>VBIASP+|VTP|>VINMである。この電圧条件は、当然にVREF≧VINM+|VTP|を含んでいる。換言すれば、参照電流IREFが流出するPMOSトランジスタP2のドレイン端子の電圧条件は、VSDP≦VSGP−|VTP|を許容する。すなわち、PMOSトランジスタP2が線形領域で動作することを許容する。
このように、電流ミラー回路60は、PMOSトランジスタP2のドレイン端子に流入する参照電流が、PMOSトランジスタP2が線形領域で動作するような小さい電流であっても、電流ミラー回路としての通常の機能を発揮させることができる。
なお、電流ミラー回路60は、参照電流IREFに応じた出力電流IOUTPが出力される端子をPMOSトランジスタのドレイン端子としたい場合に有用である。
(第7実施形態)
次に、本発明の第7実施形態について説明する。なお、第5実施形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図7には、本実施形態に係る電流ミラー回路70を示した。以下、電流ミラー回路70の回路構成について、図5の電流ミラー回路50と異なる部分を中心に説明する。
電流ミラー回路70が図5の電流ミラー回路50と異なるのは、電流ミラー回路70では、PMOSトランジスタP1、P3のゲート端子が短絡されると共に、差動増幅回路OP11の反転入力端子VINMに接続されている点である。
PMOSトランジスタP2がオンするための反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、上記(10)式で表される。
また、PMOSトランジスタP1が飽和領域で動作するための反転入力端子VINMの入力電圧VINMの条件は、次式で表わされる。
INM<VREF−|VTP| ・・・(12)
また、NMOSトランジスタN1が飽和領域で動作するための反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、上記(1)式で表わされる。
ただし、電流ミラー回路70では、PMOSトランジスタP1のドレイン端子とゲート端子を短絡して、上記(10)、(12)式を常に満たすように保障しているが、上記(12)式によりVREFの電圧が低いとVINMの電圧も低くなるため、上記(1)式を満たすようにする必要がある。
このように、電流ミラー回路70は、PMOSトランジスタP2のドレイン端子に流入する参照電流が、PMOSトランジスタP2が線形領域で動作するような小さい電流であっても、電流ミラー回路としての通常の機能を発揮させることができる。
また、電流ミラー回路50と比較して、バイアス電圧VBIASPを供給する必要がないため、回路構成を簡略化することができる。また、VREFの電圧条件の制限が緩和されるため、より柔軟な回路構成が可能となる。
(第8実施形態)
次に、本発明の第8実施形態について説明する。なお、第6実施形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図8には、本実施形態に係る電流ミラー回路80を示した。以下、電流ミラー回路80の回路構成について、図6の電流ミラー回路60と異なる部分を中心に説明する。
電流ミラー回路80が図6の電流ミラー回路60と異なるのは、電流ミラー回路80では、PMOSトランジスタP1、P3、P5のゲート端子が短絡されると共に、差動増幅回路OP2の非反転入力端子VINMに接続されている点である。
PMOSトランジスタP2がオンするための非反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、上記(10)式で表わされる。
また、PMOSトランジスタP1が飽和領域で動作するための非反転入力端子VINMの入力電圧VINMの条件は、上記(12)式で表わされる。
また、NMOSトランジスタN1が飽和領域で動作するための非反転入力端子VINMの入力電圧の条件は、上記(1)式で表わされる。
ただし、電流ミラー回路80では、PMOSトランジスタP1のドレイン端子とゲート端子を短絡して、上記(10)、(12)式を常に満たすように保障しているが、上記(12)式によりVREFの電圧が低いとVINMの電圧も低くなるため、上記(1)式を満たすようにする必要がある。
このように、電流ミラー回路80は、PMOSトランジスタP2のドレイン端子に流入する参照電流が、PMOSトランジスタP2が線形領域で動作するような小さい電流であっても、電流ミラー回路としての通常の機能を発揮させることができる。
また、電流ミラー回路60と比較して、バイアス電圧VBIASPを供給する必要がないため、回路構成を簡略化することができる。また、VREFの電圧条件の制限が緩和されるため、より柔軟な回路構成が可能となる。
上記のように、第1〜第4実施形態では、線形領域で動作するNMOSトランジスタのドレイン端子を参照電流の入力として利用できる。例えば、センスアンプにセル電流が流入する半導体メモリ回路において、セル電流を参照したい場合に有効である。
また、第5〜第8実施形態では、線形領域で動作するPMOSトランジスタのドレイン端子を参照電流の入力として利用できる。例えば、センスアンプからセル電流が流出する半導体メモリ回路において、セル電流を参照したい場合に有効である。
第1実施形態に係る電流ミラー回路の回路図である。 第2実施形態に係る電流ミラー回路の回路図である。 第3実施形態に係る電流ミラー回路の回路図である。 第4実施形態に係る電流ミラー回路の回路図である。 第5実施形態に係る電流ミラー回路の回路図である。 第6実施形態に係る電流ミラー回路の回路図である。 第7実施形態に係る電流ミラー回路の回路図である。 第8実施形態に係る電流ミラー回路の回路図である。 従来例に係る電流ミラー回路の回路図である。 従来例に係る電流ミラー回路の回路図である。
符号の説明
10、20、30、40、50、60、70、80 電流ミラー回路
C1、C11 第1回路
C2、C12 第2回路
C3、C13 第3回路
M1、M2、M11、M12 ミラー回路
N1〜N8、N11、N12 NMOSトランジスタ
OP1、OP2、OP11、OP12 差動増幅回路
P1〜P8、P11、P12 PMOSトランジスタ
R1、R11 抵抗

Claims (4)

  1. 第1端子に第1所定電圧が供給され且つ制御端子に所定バイアス電圧が供給される第1チャネル型の第1トランジスタ、第2チャネル型の第2トランジスタ、及び第1端子に第2所定電圧が供給され且つ第2端子に参照電流が入力又は出力される前記第2チャネル型の第3トランジスタが直列接続され、前記第1トランジスタ及び前記第2トランジスタが飽和領域で動作し、前記第3トランジスタが線形領域で動作する第1回路と、
    第1端子に前記第1所定電圧が供給され且つ制御端子に前記所定バイアス電圧が供給される第1チャネル型の第4トランジスタ、制御端子が前記第2トランジスタの制御端子に接続された第2チャネル型の第5トランジスタ、及び第1端子に前記第2所定電圧が供給される前記第2チャネル型の第6トランジスタが直列接続され、前記第4トランジスタ及び前記第5トランジスタが飽和領域で動作する第2回路と、
    第1入力端子が、前記第4トランジスタと前記第5トランジスタとの間、及び、前記第6トランジスタの制御端子に接続され、第2入力端子が、前記第1トランジスタと前記第2トランジスタとの間、及び、前記第3トランジスタの制御端子に接続された差動増幅回路と、
    第1端子に前記第1所定電圧が供給されると共に、制御端子が前記差動増幅回路に接続され且つ第2端子が前記第5トランジスタと前記第6トランジスタとの間に接続された前記第1チャネル型の第7トランジスタと、第1端子に前記第1所定電圧が供給されると共に、制御端子が前記差動増幅回路に接続された前記第1チャネル型の第8トランジスタと、から成るミラー回路と、
    を備えた電流ミラー回路。
  2. 前記第2トランジスタ及び前記第5トランジスタの制御端子に前記差動増幅回路の前記第2入力端子が接続された
    請求項1記載の電流ミラー回路。
  3. 第1端子に第1所定電圧が供給され且つ制御端子に所定バイアス電圧が供給される第1チャネル型の第1トランジスタ、第2チャネル型の第2トランジスタ、及び第1端子に第2所定電圧が供給され且つ第2端子に参照電流が入力又は出力される前記第2チャネル型の第3トランジスタが直列接続され、前記第1トランジスタ及び前記第2トランジスタが飽和領域で動作し、前記第3トランジスタが線形領域で動作する第1回路と、
    第1端子に前記第1所定電圧が供給され且つ制御端子に前記所定バイアス電圧が供給される第1チャネル型の第4トランジスタ、制御端子が前記第2トランジスタの制御端子に接続された第2チャネル型の第5トランジスタ、及び第1端子に前記第2所定電圧が供給される前記第2チャネル型の第6トランジスタが直列接続され、前記第4トランジスタ及び前記第5トランジスタが飽和領域で動作する第2回路と、
    第1端子に前記第1所定電圧が供給され且つ制御端子に前記所定バイアス電圧が供給される第1チャネル型の第7トランジスタ、制御端子が前記第2トランジスタ及び前記第5トランジスタの制御端子に接続された第2チャネル型の第8トランジスタ、及び第1端子に前記第2所定電圧が供給され且つ制御端子が前記第7トランジスタと前記第8トランジスタとの間に接続された前記第2チャネル型の第9トランジスタが直列接続され、前記第7トランジスタ及び前記第8トランジスタが飽和領域で動作する第3回路と、
    第1入力端子が、前記第1トランジスタと前記第2トランジスタとの間、及び、前記第3トランジスタの制御端子に接続され、第2入力端子が、前記第4トランジスタと前記第5トランジスタとの間、及び、前記第6トランジスタの制御端子に接続された差動増幅回路と、
    第2端子に前記第1所定電圧が供給されると共に、制御端子が前記差動増幅回路に接続され且つ第1端子が前記第5トランジスタと前記第6トランジスタとの間に接続された前記第2チャネル型の第10トランジスタと、第1端子が前記第8トランジスタと前記第9トランジスタとの間に接続された前記第2チャネル型の第11トランジスタと、から成るミラー回路と、
    を備えた電流ミラー回路。
  4. 前記第2トランジスタ、前記第5トランジスタ、及び前記第8トランジスタの制御端子に前記差動増幅回路の前記第1入力端子が接続された
    請求項3記載の電流ミラー回路。
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