JP2009295806A

JP2009295806A - Surface processing apparatus

Info

Publication number: JP2009295806A
Application number: JP2008148185A
Authority: JP
Inventors: Tetsuya Ishii; 徹哉石井; Takashi Sato; 崇佐藤
Original assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Current assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date: 2008-06-05
Filing date: 2008-06-05
Publication date: 2009-12-17
Anticipated expiration: 2028-06-05
Also published as: JP4860664B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent generation of excess or deficiency of process in an end part of a processed subject in the width direction and that in the moving direction, and to enhance the uniformity of the process, in an apparatus that moves the processed subject by a roller conveyer to carry out a surface process. <P>SOLUTION: A processed subject 9 is moved in a moving direction X by a roller conveyer 30. A processing gas is ejected from an ejecting opening 22 of a nozzle head 20, to carry out a surface spraying process to the processed subject 9. Shielding members 40 are respectively provided to both side of the roller conveyer 30 in the width direction Y. A shielding surface 41 of the shielding member 40 is such as to stride an edge in the width direction of a moving region R of the processed subject 9 in the width direction. A roller 31 is slightly projected from the shielding surface 41 to the nozzle head 20 side. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

この発明は、被処理物を表面処理する装置に関し、特にローラコンベアを被処理物の移動手段として有する表面処理装置に関する。 The present invention relates to an apparatus for surface-treating an object to be treated, and more particularly to a surface treatment apparatus having a roller conveyor as means for moving the object to be treated.

被処理物を移動させながら、ノズルヘッドの吹出し口から処理ガスを被処理物に吹き付け、表面処理を行なう表面処理装置は公知である（特許文献１等参照）。被処理物の移動手段として代表的なものにローラコンベアが挙げられる。周知の通り、ローラコンベアは、多数のローラを有し、これらローラの回転により被処理物を移動させるようになっている。隣り合うローラどうし間は隙間になっている。
特許文献２では、ローラコンベアをカバーで覆っている。これにより、ローラコンベアをプラズマガスから保護している。カバーには透孔が形成され、円盤状のローラの上端部が、透孔から処理ヘッド（ノズルヘッド）に向けて突出されている。
特開２００３−１６６０６５号公報特開２００５−０３８７５２号公報 2. Description of the Related Art A surface treatment apparatus that performs a surface treatment by spraying a treatment gas from an outlet of a nozzle head onto a treatment object while moving the treatment object is known (see Patent Document 1, etc.). A typical example of the means for moving the workpiece is a roller conveyor. As is well known, a roller conveyor has a large number of rollers, and a workpiece is moved by rotation of these rollers. There is a gap between adjacent rollers.
In Patent Document 2, the roller conveyor is covered with a cover. Thereby, the roller conveyor is protected from plasma gas. A through hole is formed in the cover, and the upper end portion of the disk-shaped roller protrudes from the through hole toward the processing head (nozzle head).
JP 2003-166605 A JP 2005-038752 A

通常、ローラコンベアの幅は、被処理物の幅より大きい。したがって、被処理物の幅方向の外側にローラどうし間の隙間が露出する。そのため、ノズルヘッドから吹き出された処理ガスの一部が、幅方向の外側へ流れ、上記の隙間を通って漏出しやすい。このような処理ガスの幅方向の流れがあると、被処理物の幅方向の端部が過処理になったり処理不足になったりする。
特許文献２では、処理ガスがノズルヘッドとカバーとの間に未反応高濃度の状態で滞留しやすい。この未反応高濃度の処理ガスが被処理物の移動方向の端部に接触すると、ローディング効果によって被処理物の移動方向の端部が過処理になる。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、被処理物の幅方向の端部及び移動方向の端部の処理の過不足が生じるのを防止し、処理の均一性を高めることを目的とする。 Usually, the width of the roller conveyor is larger than the width of the workpiece. Accordingly, a gap between the rollers is exposed outside the workpiece in the width direction. Therefore, a part of the processing gas blown from the nozzle head flows outward in the width direction and easily leaks through the gap. When there is such a flow of the processing gas in the width direction, the end in the width direction of the object to be processed becomes overprocessed or the process becomes insufficient.
In Patent Document 2, the processing gas tends to stay between the nozzle head and the cover in an unreacted high concentration state. When the unreacted high-concentration processing gas comes into contact with the end portion in the moving direction of the workpiece, the end portion in the moving direction of the workpiece is overprocessed due to the loading effect.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to prevent an excess or deficiency in processing of the end in the width direction and the end in the moving direction of the object to be processed. It aims at improving the uniformity of the.

上記課題を解決するため、本発明は、被処理物に処理ガスを吹き付けて前記被処理物の表面を処理する装置であって、
前記被処理物を移動方向に移動させるローラコンベアと、
前記ローラコンベアを向く面を有し、この面に前記処理ガスを吹き出す吹出し口とガスを吸い込む吸込み口とが開口されたノズルヘッドと、
を備え、前記ローラコンベアの前記移動方向と直交する幅方向の両側部にはローラどうし間の隙間を覆う一対の遮蔽部材が設けられ、各遮蔽部材が、前記ノズルヘッドの側を向く遮蔽面を有し、この遮蔽面が、前記被処理物が移動される平面領域より前記ノズルヘッド側とは反対側に僅かに離れて前記平面領域と平行に配置され、かつ前記平面領域の前記幅方向の縁を前記幅方向に跨いでおり、前記一対の遮蔽部材どうしが前記幅方向に離れ、前記ローラコンベアの前記幅方向の中央部のローラどうし間の隙間は、何れの遮蔽部材にも覆われることなく開放されていることを特徴とする。
これによって、被処理物の幅方向の端部及び移動方向の端部の処理の過不足が生じるのを防止でき、処理の均一性を高めることができる。 In order to solve the above problems, the present invention is an apparatus for treating a surface of a workpiece by blowing a treatment gas on the workpiece,
A roller conveyor for moving the workpiece in the moving direction;
A nozzle head having a surface facing the roller conveyor, and a blowout port for blowing out the processing gas and a suction port for sucking in the gas on the surface;
A pair of shielding members that cover the gaps between the rollers are provided on both sides in the width direction orthogonal to the moving direction of the roller conveyor, and each shielding member has a shielding surface facing the nozzle head side. The shielding surface is arranged in parallel with the planar region slightly apart from the planar region where the workpiece is moved to the side opposite to the nozzle head side, and in the width direction of the planar region. It straddles the edge in the width direction, the pair of shielding members are separated from each other in the width direction, and the gap between the rollers in the center in the width direction of the roller conveyor is covered by any shielding member. It is characterized by being open.
Thereby, it is possible to prevent excessive or deficiency of processing at the end portion in the width direction and the end portion in the moving direction of the object to be processed, and it is possible to improve processing uniformity.

前記ローラが、軸線を前記幅方向に向けた長い円筒状になっている場合、前記遮蔽部材に前記ローラの端部を回転可能に収容する収容穴が形成され、前記収容穴が、前記遮蔽面に達して開口し、この開口を介して前記ローラが前記遮蔽面より前記ノズルヘッド側へ僅かに突出されていることが好ましい。 When the roller has a long cylindrical shape whose axis is directed in the width direction, an accommodation hole for rotatably accommodating the end of the roller is formed in the shielding member, and the accommodation hole is formed by the shielding surface. Preferably, the roller is slightly projected from the shielding surface toward the nozzle head through the opening.

前記ローラが、前記幅方向と直交する円盤状をなし、前記幅方向に延びるシャフトに前記ローラが前記遮蔽面より前記ノズルヘッド側へ僅かに突出されるように設けられている場合、前記遮蔽部材に前記シャフトを回転可能に挿通する挿通孔が形成されていることが好ましい。 When the roller has a disk shape perpendicular to the width direction, and the roller is provided on a shaft extending in the width direction so as to slightly protrude from the shielding surface toward the nozzle head, the shielding member It is preferable that an insertion hole through which the shaft is rotatably inserted is formed.

前記表面処理は、例えば大気圧近傍下でのプラズマエッチングである。この場合、前記処理ガスは、大気圧近傍下でプラズマ化されて被処理物に対するエッチング能を付与された状態で前記ノズルヘッドから吹き出されることが好ましい。
ここで、大気圧近傍とは、１．０１３×１０^４〜５０．６６３×１０^４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０^４〜１０．６６４×１０^４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０^４〜１０．３９７×１０^４Ｐａがより好ましい。 The surface treatment is, for example, plasma etching near atmospheric pressure. In this case, it is preferable that the processing gas is blown out of the nozzle head in a state in which the processing gas is turned into plasma under the vicinity of atmospheric pressure and has an etching ability with respect to an object to be processed.
Here, the vicinity of atmospheric pressure refers to a range of 1.013 × 10 ^{4 to} 50.663 × 10 ⁴ Pa, and considering the ease of pressure adjustment and the simplification of the apparatus configuration, 1.333 × 10 ⁴ to 10.664 × 10 ⁴ Pa is preferable, and 9.331 × 10 ^{4 to} 10.9797 × 10 ⁴ Pa is more preferable.

本発明によれば、被処理物の幅方向の端部及び移動方向の端部の処理の過不足が生じるのを防止でき、処理の均一性を高めることができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can prevent that the excess and deficiency of a process of the edge part of the width direction of a to-be-processed object and the edge part of a moving direction arises, and can improve the uniformity of a process.

以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。
図１〜図３は、第１実施形態に係る表面処理装置１を示したものである。被処理物９は、例えば液晶ディスプレイ用のガラス基板で構成され、四角形の薄い平板形状になっている。被処理物９は、長手方向をＸ方向へ向け、幅方向をＹ方向へ向けた状態で表面処理装置１に通され、表面処理される。被処理物９の幅（Ｙ方向の寸法）は、例えば約２ｍである。処理内容は、例えば大気圧近傍下でのプラズマエッチングである。図示は省略するが、被処理物９の表面（上面）にはエッチングされるべき酸化シリコンの膜が形成されている。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
1 to 3 show a surface treatment apparatus 1 according to the first embodiment. The workpiece 9 is made of, for example, a glass substrate for a liquid crystal display and has a rectangular thin flat plate shape. The workpiece 9 is passed through the surface treatment apparatus 1 with the longitudinal direction in the X direction and the width direction in the Y direction, and is subjected to surface treatment. The width (dimension in the Y direction) of the workpiece 9 is, for example, about 2 m. The processing content is, for example, plasma etching under atmospheric pressure. Although illustration is omitted, a silicon oxide film to be etched is formed on the surface (upper surface) of the workpiece 9.

表面処理装置１は、チャンバー１０と、ノズルヘッド２０（処理ヘッド）と、ローラコンベア３０を備えている。図１に示すように、チャンバー１０は、被処理物９の全体を収容可能な大きさになっている。チャンバー１０の内部は、略大気圧になっている。チャンバー１０の内部空間のＹ方向の寸法は、被処理物９の幅より若干（例えば２０ｍｍ程度）大きい。図２に示すように、チャンバー１０のＸ方向の一端部（図１及び図２において左）には搬入口１１が形成されている。チャンバー１０のＸ方向の他端部（図１及び図２において右）には搬出口１２が形成されている。チャンバー１０の底部は、中央に向かうにしたがって下に傾斜している。チャンバー１０の底部の中央部に排気ライン８ａを介し排気ポンプ８が連なっている。排気ポンプ８は、後述する吸引手段３の吸引ポンプと共通の真空ポンプで構成してもよい。 The surface treatment apparatus 1 includes a chamber 10, a nozzle head 20 (treatment head), and a roller conveyor 30. As shown in FIG. 1, the chamber 10 is sized to accommodate the entire workpiece 9. The inside of the chamber 10 is at substantially atmospheric pressure. The dimension in the Y direction of the internal space of the chamber 10 is slightly larger (for example, about 20 mm) than the width of the workpiece 9. As shown in FIG. 2, a carry-in port 11 is formed at one end of the chamber 10 in the X direction (left in FIGS. 1 and 2). A carry-out port 12 is formed at the other end portion of the chamber 10 in the X direction (right side in FIGS. 1 and 2). The bottom of the chamber 10 is inclined downward toward the center. An exhaust pump 8 is connected to the center of the bottom of the chamber 10 via an exhaust line 8a. The exhaust pump 8 may be composed of a vacuum pump common to the suction pump of the suction means 3 described later.

チャンバー１０の上部にノズルヘッド２０が取り付けられている。図１の二点鎖線及び図３に示すように、ノズルヘッド２０は、Ｙ方向に長い大略直方体形状になっている。図２に示すように、ノズルヘッド２０の下面２１（ローラコンベア３０を向く面）は、チャンバー１０の天井面と面一になっているが、これに限定されるものではなく、ヘッド下面２１がチャンバー１０の天井面より下に突出していてもよく、上に引っ込んでいてもよい。 A nozzle head 20 is attached to the upper portion of the chamber 10. As shown in the two-dot chain line in FIG. 1 and FIG. 3, the nozzle head 20 has a substantially rectangular parallelepiped shape that is long in the Y direction. As shown in FIG. 2, the lower surface 21 of the nozzle head 20 (the surface facing the roller conveyor 30) is flush with the ceiling surface of the chamber 10, but is not limited to this. It may protrude below the ceiling surface of the chamber 10 or may be retracted upward.

図１の二点鎖線及び図２に示すように、ノズルヘッド２０には、吹出し口２２と吸込み口２３がヘッド下面２１に開口するように形成されている。吹出し口２２及び吸込み口２３は、Ｙ方向に延びるスリット状になっている。吹出し口２２及び吸込み口２３のＹ方向に沿う長さは、被処理物９の幅寸法と略同じか、それより若干大きい。吹出し口２２と吸込み口２３は、互いにＸ方向に離間している。 As shown in the two-dot chain line in FIG. 1 and FIG. 2, the nozzle head 20 is formed with a blowout port 22 and a suction port 23 that open to the head lower surface 21. The blowout port 22 and the suction port 23 are slit-shaped extending in the Y direction. The length along the Y direction of the blow-out port 22 and the suction port 23 is substantially the same as or slightly larger than the width dimension of the workpiece 9. The blowout port 22 and the suction port 23 are separated from each other in the X direction.

図２に示すように、吹出し口２２は処理ガス供給ライン２ａを介し処理ガス源２に連なっている。処理ガス源２は、処理内容に応じた処理ガスをノズルヘッド２０に供給する。ここでは、処理ガスの主成分として例えばＣＦ_４（ハロゲン系ガス）が用いられている。ＣＦ_４は、窒素はアルゴン等で希釈してもよい。処理ガスの主成分として、ＣＦ_４に代えて、ＣＨＦ_３、Ｃ_２Ｆ_６、Ｃ_３Ｆ_８、ＳＦ_６、ＮＦ_３、ＸｅＦ_２などを用いてもよい。供給ライン２ａ上で処理ガスに水（Ｈ_２Ｏ）が添加される。水添加後の処理ガスがノズルヘッド２０に導入される。図示は省略するが、ノズルヘッド２０内には、一対の電極が設けられており、これら電極間に大気圧近傍のプラズマ空間が形成されるようになっている。このプラズマ空間内で処理ガスがプラズマ化（分解、励起、活性化、イオン化を含む）され、ＨＦ等の反応成分が生成される。ＨＦは、酸化シリコンに対しエッチング能を有している。このプラズマ化された処理ガスｇが、吹出し口２２から下方へ吹き出される。 As shown in FIG. 2, the blow-out port 22 is connected to the processing gas source 2 through the processing gas supply line 2a. The processing gas source 2 supplies a processing gas corresponding to the processing content to the nozzle head 20. Here, for example, CF ₄ (halogen gas) is used as the main component of the processing gas. CF ₄ may be diluted with argon or the like. Instead of CF ₄ , CHF ₃ , C ₂ F ₆ , C ₃ F ₈ , SF ₆ , NF ₃ , XeF ₂ or the like may be used as the main component of the processing gas. Water (H ₂ O) is added to the processing gas on the supply line 2a. The processing gas after the addition of water is introduced into the nozzle head 20. Although illustration is omitted, a pair of electrodes is provided in the nozzle head 20, and a plasma space near atmospheric pressure is formed between these electrodes. In this plasma space, the processing gas is turned into plasma (including decomposition, excitation, activation, and ionization), and reaction components such as HF are generated. HF has an etching ability for silicon oxide. The plasma-ized processing gas g is blown downward from the blow-out port 22.

吸込み口２３は、吸引ライン３ａを介して吸引ポンプ等の吸引手段３に連なっている。 The suction port 23 is connected to suction means 3 such as a suction pump through a suction line 3a.

図１〜図３に示すように、ローラコンベア３０は、複数のローラ３１，３１…と、一対のサイドフレーム３２，３２を有している。図１及び図３に示すように、サイドフレーム３２は、チャンバー１０のＹ方向の両側部に配置され、それぞれＸ方向へ延びている。 As shown in FIGS. 1 to 3, the roller conveyor 30 has a plurality of rollers 31, 31... And a pair of side frames 32, 32. As shown in FIGS. 1 and 3, the side frames 32 are disposed on both sides in the Y direction of the chamber 10 and extend in the X direction.

ローラ３１，３１…は、ノズルヘッド２０より下側に配置され、チャンバー１０の内部に収容されている。各ローラ３１は、軸線をＹ方向に向けた長い円筒状をなし、一対のサイドフレーム３２，３２間に架け渡されている。図１及び図２に示すように、複数のローラ３１，３１…は、Ｘ方向に間隔を置いて平行に並べられている。Ｘ方向に隣り合うローラ３１，３１どうし間には隙間３３が形成されている。隙間３３はＹ方向に延びている。 The rollers 31 are disposed below the nozzle head 20 and are accommodated in the chamber 10. Each roller 31 has a long cylindrical shape with its axis oriented in the Y direction, and is spanned between a pair of side frames 32 and 32. As shown in FIGS. 1 and 2, the plurality of rollers 31, 31... Are arranged in parallel at intervals in the X direction. A gap 33 is formed between the rollers 31 adjacent to each other in the X direction. The gap 33 extends in the Y direction.

ローラ３１の軸長（Ｙ方向の寸法）は、被処理物９の幅より若干（例えば２０ｍｍ程度）大きい。ローラ３１の外直径は、例えば６０ｍｍ程度である。ローラ３１のＸ方向の配置ピッチは、例えば１２０ｍｍ程度である。 The axial length (dimension in the Y direction) of the roller 31 is slightly larger (for example, about 20 mm) than the width of the workpiece 9. The outer diameter of the roller 31 is, for example, about 60 mm. The arrangement pitch of the rollers 31 in the X direction is, for example, about 120 mm.

図示は省略するが、ローラコンベア３０には、複数のローラ３１を同期して回転させる回転駆動部が設けられている。図２に示すように、これらローラ３１の上に被処理物９が水平に配置される。被処理物９は、ローラ３１の回転によってＸ方向に移動され、ノズルヘッド２０の下方に通されるようになっている。被処理物９がノズルヘッド２０の真下に位置するとき、ヘッド下面２１と被処理物９の上面との間の距離は、例えば３ｍｍ程度である。 Although not shown, the roller conveyor 30 is provided with a rotation drive unit that rotates the plurality of rollers 31 synchronously. As shown in FIG. 2, the workpiece 9 is horizontally disposed on these rollers 31. The workpiece 9 is moved in the X direction by the rotation of the roller 31 and is passed under the nozzle head 20. When the workpiece 9 is located directly below the nozzle head 20, the distance between the head lower surface 21 and the upper surface of the workpiece 9 is, for example, about 3 mm.

この被処理物９の移動軌跡が、被処理物９が移動される平面領域Ｒになる。図２に示すように、平面領域Ｒは、ローラ３１の上端部の高さの水平な面内に位置している。図１に示すように、平面領域ＲのＹ方向の両縁は、チャンバー１０の内壁から若干（例えば１０ｍｍ程度）内側に離れている。ローラ３１の両端部が、平面領域ＲよりＹ方向の外側に延び出ている。 The movement trajectory of the workpiece 9 is a plane region R in which the workpiece 9 is moved. As shown in FIG. 2, the planar region R is located in a horizontal plane at the height of the upper end portion of the roller 31. As shown in FIG. 1, both edges in the Y direction of the planar region R are slightly away from the inner wall of the chamber 10 (for example, about 10 mm). Both end portions of the roller 31 extend outward in the Y direction from the plane region R.

図１〜図３に示すように、ローラコンベア３０の幅方向（Ｙ方向）の両側には、それぞれ遮蔽部材４０，４０が設けられている。各遮蔽部材４０は、幅方向をＹ方向に向けてＸ方向（被処理物９の移動方向）に延びるビーム状になっている。遮蔽部材４０は、ローラ３１の端部と交差している。遮蔽部材４０によって、ローラ３１，３１間の隙間３３のＹ方向の端部が塞がれている。遮蔽部材４０は、処理ガスに対する耐性が高い材質で構成されていることが好ましい。 As shown in FIGS. 1-3, the shielding members 40 and 40 are provided in the both sides of the width direction (Y direction) of the roller conveyor 30, respectively. Each shielding member 40 has a beam shape extending in the X direction (moving direction of the workpiece 9) with the width direction in the Y direction. The shielding member 40 intersects with the end of the roller 31. The shielding member 40 blocks the Y-direction end of the gap 33 between the rollers 31 and 31. The shielding member 40 is preferably made of a material having high resistance to the processing gas.

図１、図２、図４に示すように、遮蔽部材４０には、長手方向（Ｘ方向）に間隔を置いて複数のローラ収容穴４２が形成されている。収容穴４２は、遮蔽部材４０を幅方向（Ｙ方向）に貫通している。収容穴４２の上側部分は、遮蔽部材上面４１に達して開口されている。収容穴４２の遮蔽部材上面４１への開口４２ａは、Ｙ方向に延びるスリット状になっている。 As shown in FIGS. 1, 2, and 4, the shielding member 40 is formed with a plurality of roller accommodation holes 42 at intervals in the longitudinal direction (X direction). The accommodation hole 42 penetrates the shielding member 40 in the width direction (Y direction). The upper portion of the accommodation hole 42 reaches the shielding member upper surface 41 and is opened. The opening 42a to the shielding member upper surface 41 of the accommodation hole 42 has a slit shape extending in the Y direction.

図４の二点鎖線に示すように、各収容穴４２にローラ３１の端部が回転可能に収容されている。ローラ３１の一部が、開口４２ａを介して遮蔽部材上面４１より上（ヘッド下面２１の側）へ僅かに突出されている。ローラ３１の遮蔽部材上面４１からの突出量は、例えば０．５ｍｍ程度である。 As shown by a two-dot chain line in FIG. 4, the end of the roller 31 is rotatably accommodated in each accommodation hole 42. A part of the roller 31 slightly protrudes above the shielding member upper surface 41 (the head lower surface 21 side) through the opening 42a. The protrusion amount of the roller 31 from the upper surface 41 of the shielding member is, for example, about 0.5 mm.

図２及び図３に示すように、遮蔽部材４０の上面４１（遮蔽面）は、ノズルヘッド２０の下面２１と対向している。遮蔽部材上面４１は、平面領域Ｒ（被処理物９の移動軌跡）より下側（ノズルヘッド２０側とは反対側）に僅かに離れて平面領域Ｒと平行に配置されている。平面領域Ｒと遮蔽部材上面４１との間の上下方向の離間距離は、例えば０．５ｍｍ程度である。 As shown in FIGS. 2 and 3, the upper surface 41 (shielding surface) of the shielding member 40 faces the lower surface 21 of the nozzle head 20. The shielding member upper surface 41 is arranged slightly parallel to the planar region R, slightly below the planar region R (movement locus of the workpiece 9) (on the opposite side to the nozzle head 20 side). The vertical distance between the planar region R and the shielding member upper surface 41 is, for example, about 0.5 mm.

図１〜図３に示すように、遮蔽部材４０の幅方向の外側面は、平面領域ＲよりＹ方向の外側に位置し、チャンバー１０の内壁又はサイドフレーム３２に接している。遮蔽部材４０の幅方向の内側面は、平面領域Ｒの幅方向の縁より内側に位置している。遮蔽部材上面４１は、平面領域Ｒの幅方向（Ｙ方向）の縁を幅方向に跨ぐように配置されている。言い換えると、平面領域Ｒの幅方向の縁が、平面視で遮蔽部材４０の幅方向の中間に位置されている。遮蔽部材４０の幅（Ｙ方向の寸法）は、例えば１００ｍｍ程度である。遮蔽部材上面４１の幅方向の外側の縁と平面領域Ｒの幅方向の縁とのＹ方向の距離は、例えば１０ｍｍ程度である。遮蔽部材上面４１の幅方向の内側の縁と平面領域Ｒの幅方向の縁とのＹ方向の距離は、例えば９０ｍｍ程度である。 As shown in FIGS. 1 to 3, the outer side surface in the width direction of the shielding member 40 is located on the outer side in the Y direction from the plane region R and is in contact with the inner wall of the chamber 10 or the side frame 32. The inner side surface in the width direction of the shielding member 40 is located inside the edge in the width direction of the planar region R. The shielding member upper surface 41 is disposed so as to straddle the edge in the width direction (Y direction) of the planar region R in the width direction. In other words, the edge in the width direction of the planar region R is located in the middle of the shielding member 40 in the width direction in plan view. The width (dimension in the Y direction) of the shielding member 40 is, for example, about 100 mm. The distance in the Y direction between the outer edge in the width direction of the shielding member upper surface 41 and the edge in the width direction of the planar region R is, for example, about 10 mm. The distance in the Y direction between the inner edge in the width direction of the shielding member upper surface 41 and the edge in the width direction of the planar region R is, for example, about 90 mm.

各遮蔽部材３０の幅（Ｙ方向の寸法）は、チャンバー１０及びローラコンベア３０の同方向寸法に比べると十分に小さい。したがって、一対の遮蔽部材４０，４０は、Ｙ方向に大きく離間されている。ローラ３１，３１間の隙間３３の両端部を除く中間部は、何れの遮蔽部材４０にも覆われることなく開放されている。 The width (dimension in the Y direction) of each shielding member 30 is sufficiently smaller than the same dimension in the chamber 10 and the roller conveyor 30. Therefore, the pair of shielding members 40, 40 are greatly separated in the Y direction. An intermediate portion excluding both ends of the gap 33 between the rollers 31 and 31 is opened without being covered by any shielding member 40.

上記構成の表面処理装置１によれば、被処理物９が、搬入口１１からチャンバー１０内に搬入され、ローラ３１上に載せられ、Ｘ方向に移動され、ノズルヘッド２０の下方を通過する。併行して、処理ガス源２からの処理ガスが、ノズルヘッド２０に供給されてプラズマ化されてエッチング能を付与され、吹出し口２２から吹き出される。この処理ガスｇが、被処理物９に接触し、これにより、被処理物９の表面の酸化シリコン膜がエッチングされる。処理済みのガスは、吸込み口２３から吸い込まれ、吸引手段３から排気される。 According to the surface treatment apparatus 1 configured as described above, the workpiece 9 is carried into the chamber 10 from the carry-in port 11, placed on the roller 31, moved in the X direction, and passes below the nozzle head 20. At the same time, the processing gas from the processing gas source 2 is supplied to the nozzle head 20 to be turned into plasma, imparted with an etching ability, and blown out from the blowout port 22. This processing gas g comes into contact with the object 9 to be processed, whereby the silicon oxide film on the surface of the object 9 is etched. The treated gas is sucked from the suction port 23 and exhausted from the suction means 3.

ローラコンベア３０で搬送中の被処理物９の幅方向（Ｙ方向）の両端部の下側には遮蔽部材４０が近接して位置する。遮蔽部材４０は、被処理物９の幅方向の外側のローラ間隙間３３を塞いでいる。さらに、被処理物９の下面と遮蔽部材上面４１との間には、間隙４０ａが形成される。間隙４０ａの上下方向の厚さは、極めて小さく（例えば０．５ｍｍ程度）、この厚さに比べ間隙４０ａの幅（Ｙ方向の寸法）は十分に大きい（例えば９０ｍｍ程度）。したがって、間隙４０ａのガスコンダクタンスは極めて小さい。よって、処理ガスｇが、被処理物９の幅方向の外側から間隙４０ａを通ってローラコンベア３０の下方へ漏出するのを十分に防止できる。これにより、被処理物９の幅方向の両端部が処理不足になったり過処理になったりするのを防止することができる。
遮蔽部材４０は、間隙４０ａを介して被処理物９より下方に離れているため、被処理物９と干渉することはない。 The shielding member 40 is located close to the lower side of both end portions in the width direction (Y direction) of the workpiece 9 being conveyed by the roller conveyor 30. The shielding member 40 closes the inter-roller gap 33 on the outer side of the workpiece 9 in the width direction. Further, a gap 40 a is formed between the lower surface of the workpiece 9 and the shielding member upper surface 41. The thickness of the gap 40a in the vertical direction is extremely small (for example, about 0.5 mm), and the width (dimension in the Y direction) of the gap 40a is sufficiently large (for example, about 90 mm). Therefore, the gas conductance of the gap 40a is extremely small. Therefore, it is possible to sufficiently prevent the processing gas g from leaking from the outside in the width direction of the workpiece 9 to the lower side of the roller conveyor 30 through the gap 40a. Thereby, it can prevent that the both ends of the width direction of the to-be-processed object 9 become processing inadequate or overprocessing.
Since the shielding member 40 is separated below the workpiece 9 via the gap 40a, the shielding member 40 does not interfere with the workpiece 9.

遮蔽部材４０は、被処理物９の幅方向の両端部に対応する位置に配置されているだけであり、被処理物９の幅方向の中間部に対応する位置には配置されていない。したがって、図５に示すように、被処理物９の移動方向（Ｘ方向）の後端部が吹出し口２２と吸込み口２３の間に位置しているとき、吹出し口２２から吹き出された処理ガスｇは、ローラ間隙間３３を通ってローラコンベア３０の下方へ流れる。これにより、処理ガスが未反応高濃度のまま被処理物９の移動方向の後端部に接触するのを防止でき、ローディング効果が起きるのを防止できる。
この結果、被処理物９の表面の全体を均一にエッチング処理でき、処理の均一性を十分に高めることができる。
ローラコンベア３０の下方へ流れた処理ガスｇは、チャンバー１０の底部から排気ライン８ａを経て排出される。 The shielding member 40 is only disposed at positions corresponding to both ends of the workpiece 9 in the width direction, and is not disposed at a position corresponding to the intermediate portion of the workpiece 9 in the width direction. Therefore, as shown in FIG. 5, when the rear end portion in the moving direction (X direction) of the workpiece 9 is located between the blowout port 22 and the suction port 23, the process gas blown out from the blowout port 22. g flows through the inter-roller gap 33 and below the roller conveyor 30. Thereby, it can prevent that process gas contacts the rear-end part of the moving direction of the to-be-processed object 9 with unreacted high concentration, and can prevent that a loading effect arises.
As a result, the entire surface of the workpiece 9 can be etched uniformly, and the processing uniformity can be sufficiently enhanced.
The processing gas g flowing downward of the roller conveyor 30 is discharged from the bottom of the chamber 10 through the exhaust line 8a.

次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の形態と重複する構成に関しては図面に同一符号を付して説明を省略する。
図６〜図９は、第２実施形態を示したものである。第２実施形態のローラコンベア３０は、長い円筒状のローラ３１に代えて、円盤状のローラ３４と、ローラシャフト３５を有している。シャフト３５は、Ｙ方向に直線状に延び、ローラコンベア３０の両サイドフレーム３２，３２どうしの間に架け渡されている。シャフト３５は、Ｘ方向（被処理物９の移動方向）に間隔を置いて複数並設されている。シャフト３５の並設ピッチは、例えば１２０ｍｍ程度である。 Next, another embodiment of the present invention will be described. In the following embodiments, the same reference numerals are given to the drawings for the same configurations as those already described, and the description thereof is omitted.
6 to 9 show a second embodiment. The roller conveyor 30 according to the second embodiment includes a disk-shaped roller 34 and a roller shaft 35 instead of the long cylindrical roller 31. The shaft 35 extends linearly in the Y direction, and is spanned between the side frames 32 and 32 of the roller conveyor 30. A plurality of shafts 35 are arranged in parallel at intervals in the X direction (the moving direction of the workpiece 9). The parallel pitch of the shafts 35 is, for example, about 120 mm.

各シャフト３５に複数の円盤状ローラ３４が間隔を置いて取り付けられている。ローラ３４の外直径は、例えば６０ｍｍ程度である。ローラ３４は、遮蔽部材４０の遮蔽部材上面４１より上に僅かに（例えば０．５ｍｍ程度）突出されている。シャフト３５どうし間及び円盤状ローラ３４どうし間に隙間３３が形成されている。 A plurality of disc-shaped rollers 34 are attached to each shaft 35 at intervals. The outer diameter of the roller 34 is, for example, about 60 mm. The roller 34 protrudes slightly (for example, about 0.5 mm) above the shielding member upper surface 41 of the shielding member 40. A gap 33 is formed between the shafts 35 and between the disk-shaped rollers 34.

第２実施形態の遮蔽部材４０には、第１実施形態の収容穴４２より小径のシャフト挿通穴４３が複数形成されている。各挿通穴４３は、遮蔽部材４０を幅方向（Ｙ方向）に貫通している。複数の挿通穴４３は、遮蔽部材４０の長手方向（Ｘ方向）に間隔を置いて配置されている。挿通穴４３にシャフト３５の端部が回転可能に挿通されている。 The shielding member 40 of the second embodiment is formed with a plurality of shaft insertion holes 43 having a smaller diameter than the accommodation hole 42 of the first embodiment. Each insertion hole 43 penetrates the shielding member 40 in the width direction (Y direction). The plurality of insertion holes 43 are arranged at intervals in the longitudinal direction (X direction) of the shielding member 40. The end of the shaft 35 is rotatably inserted into the insertion hole 43.

第２実施形態においも、遮蔽部材４０によって、処理ガスｇが被処理物９の幅方向（Ｙ方向）の外側からローラコンベア３０の下方へ漏出するのを防止でき、被処理物９の幅方向の両端部が処理不足になったり過処理になったりするのを防止できる。しかも、処理ガスｇが未反応高濃度のまま被処理物９の移動方向（Ｘ方向）の端部に接触するのを防止でき、ローディング効果が起きるのを防止できる。この結果、被処理物９の表面の全体を均一にエッチング処理でき、処理の均一性を十分に高めることができる。 Also in the second embodiment, the shielding member 40 can prevent the processing gas g from leaking from the outside in the width direction (Y direction) of the workpiece 9 to the lower side of the roller conveyor 30, and the width direction of the workpiece 9. It is possible to prevent both ends of the substrate from being insufficiently processed or excessively processed. In addition, it is possible to prevent the processing gas g from coming into contact with the end of the workpiece 9 in the moving direction (X direction) with the unreacted high concentration, and to prevent the loading effect from occurring. As a result, the entire surface of the workpiece 9 can be etched uniformly, and the processing uniformity can be sufficiently enhanced.

この発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の改変をなすことができる。
例えば、遮蔽部材４０は、少なくとも遮蔽面４１（平面領域Ｒよりノズルヘッド２０側とは反対側に僅かに離れて平面領域Ｒと平行に配置され、かつ前面領域Ｒの幅方向の縁を幅方向に跨ぐ面）を有し、ローラ間隙間３３の両端部を塞ぐものであればよく、その断面形状は実施形態のものに限定されない。
一対の遮蔽部材４０，４０どうしは、互いに離間していればよく、各遮蔽部材４０の幅が被処理物９の幅の２分の１近くあってもよい。
実施形態に示した寸法は例示であって、本発明が上記寸法に限定されるものではない。
第２実施形態では、すべての円盤状ローラ３４が遮蔽部材４０よりＹ方向の内側に配置されていたが、一部の円盤状ローラ３４が遮蔽部材４０の内部に配置されていてもよく、その場合、遮蔽部材４０には、当該一部の円盤状ローラ３４を収容する収容穴が形成されているのが好ましく、この収容穴が遮蔽面４１に達して開口し、この開口から当該一部の円盤状ローラ３４がノズルヘッド２０の側に僅かに突出されていることが好ましい。
エッチングすべき膜は、酸化シリコンに限られず、アモルファスシリコンやポリシリコン等のシリコンでもよい。その場合、処理ガスにオゾン等の酸化性成分を混合するとよい。
さらに、本発明の処理内容は、エッチングに限定されず、成膜、洗浄、表面改質等の種々の表面処理に適用できる。 The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made.
For example, the shielding member 40 is arranged at least at the shielding surface 41 (slightly separated from the plane region R on the side opposite to the nozzle head 20 side and parallel to the plane region R, and the widthwise edge of the front surface region R is arranged in the width direction. And the cross-sectional shape is not limited to that of the embodiment.
The pair of shielding members 40, 40 only need to be separated from each other, and the width of each shielding member 40 may be close to half the width of the workpiece 9.
The dimensions shown in the embodiments are examples, and the present invention is not limited to the above dimensions.
In the second embodiment, all the disk-shaped rollers 34 are arranged on the inner side in the Y direction from the shielding member 40. However, some of the disk-shaped rollers 34 may be arranged inside the shielding member 40. In this case, the shielding member 40 is preferably formed with an accommodation hole for accommodating the part of the disk-shaped roller 34, and the accommodation hole reaches the shielding surface 41 and opens from the opening to the part of the part. It is preferable that the disk-shaped roller 34 protrudes slightly toward the nozzle head 20.
The film to be etched is not limited to silicon oxide, and may be silicon such as amorphous silicon or polysilicon. In that case, an oxidizing component such as ozone may be mixed with the processing gas.
Furthermore, the treatment content of the present invention is not limited to etching, and can be applied to various surface treatments such as film formation, cleaning, and surface modification.

本発明は、例えば半導体装置の製造分野においてシリコンや酸化シリコンのエッチング等に適用可能である。 The present invention is applicable to, for example, etching of silicon or silicon oxide in the field of manufacturing semiconductor devices.

本発明の第１実施形態に係る表面処理装置を示し、図２のＩ−Ｉ線に沿う平面図である。It is a top view which shows the surface treatment apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention, and follows the II line | wire of FIG. 図１のＩＩ−ＩＩ線に沿う、上記表面処理装置の側面断面図である。It is side surface sectional drawing of the said surface treatment apparatus which follows the II-II line | wire of FIG. 図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う、上記表面処理装置の正面断面図である。It is front sectional drawing of the said surface treatment apparatus which follows the III-III line of FIG. 上記表面処理装置の遮蔽部材の斜視図である。It is a perspective view of the shielding member of the said surface treatment apparatus. 上記表面処理装置において、被処理物の移動方向の後端部がノズルヘッドの吹出し口より移動方向の前方に位置している状態の側面断面図である。In the said surface treatment apparatus, it is side surface sectional drawing of the state in which the rear-end part of the moving direction of a to-be-processed object is located ahead of the blowing direction of the nozzle head in the moving direction. 本発明の第２実施形態に係る表面処理装置を示し、図７のＶＩ−ＶＩ線に沿う平面図である。It is a top view which shows the surface treatment apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention, and follows the VI-VI line of FIG. 図６のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿う、上記第２実施形態に係る表面処理装置の側面断面図である。It is side surface sectional drawing of the surface treatment apparatus which concerns on the said 2nd Embodiment which follows the VII-VII line of FIG. 図７のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線に沿う、上記第２実施形態に係る表面処理装置の正面断面図である。It is front sectional drawing of the surface treatment apparatus which concerns on the said 2nd Embodiment which follows the VIII-VIII line of FIG. 上記第２実施形態に係る表面処理装置の遮蔽部材の斜視図である。It is a perspective view of the shielding member of the surface treatment apparatus according to the second embodiment.

Explanation of symbols

Ｒ被処理物が移動される平面領域
１表面処理装置
２処理ガス源
３吸引手段
９被処理物
８排気ポンプ
１０チャンバー
１１搬入口
１２搬出口
２０ノズルヘッド
２１ノズルヘッド下面（ローラコンベアを向く面）
２２吹出し口
２３吸込み口
３０ローラコンベア
３１ローラ
３２サイドフレーム
３３隙間
３４円盤状ローラ
３５シャフト
４０遮蔽部材
４０ａ間隙
４１遮蔽部材上面（遮蔽面）
４２ローラ収容穴
４２ａ開口
４３シャフト挿通穴 R Plane area 1 to which the object is moved 1 Surface treatment device 2 Process gas source 3 Suction means 9 Object to be treated 8 Exhaust pump 10 Chamber 11 Carry-in port 12 Carry-out port 20 Nozzle head 21 Nozzle head lower surface (surface facing roller conveyor)
22 Outlet 23 Suction Port 30 Roller Conveyor 31 Roller 32 Side Frame 33 Gap 34 Disc-shaped Roller 35 Shaft 40 Shielding Member 40a Gap 41 Shielding Member Upper Surface (Shielding Surface)
42 Roller receiving hole 42a Opening 43 Shaft insertion hole

Claims

An apparatus for processing a surface of the object to be processed by spraying a processing gas on the object to be processed,
A roller conveyor for moving the workpiece in the moving direction;
A nozzle head having a surface facing the roller conveyor, and a blowout port for blowing out the processing gas and a suction port for sucking in the gas on the surface;
A pair of shielding members that cover the gaps between the rollers are provided on both sides in the width direction orthogonal to the moving direction of the roller conveyor, and each shielding member has a shielding surface facing the nozzle head side. The shielding surface is arranged in parallel with the planar region slightly apart from the planar region where the workpiece is moved to the side opposite to the nozzle head side, and in the width direction of the planar region. It straddles the edge in the width direction, the pair of shielding members are separated from each other in the width direction, and the gap between the rollers in the center in the width direction of the roller conveyor is covered by any shielding member. A surface treatment apparatus characterized by being open without any problems.

The roller has a long cylindrical shape whose axis is directed in the width direction, and a receiving hole is formed in the shielding member for rotatably receiving an end of the roller, and the receiving hole is formed in the shielding surface. The surface treatment apparatus according to claim 1, wherein the roller is slightly opened to reach the nozzle head side through the opening.

The roller has a disk shape orthogonal to the width direction, and the roller is provided on a shaft extending in the width direction so that the roller slightly protrudes from the shielding surface toward the nozzle head side. The surface treatment apparatus according to claim 1, wherein an insertion hole through which the shaft is rotatably inserted is formed.

The surface treatment apparatus according to claim 1, wherein the surface treatment is plasma etching under atmospheric pressure.