JP2009294682A5 - - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 4
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910016006 MoSi Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims 1
- UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N chromium carbide Chemical compound [Cr]#C[Cr]C#[Cr] UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 claims 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 1
- 229910003470 tongbaite Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009218490A JP2009294682A (ja) | 2009-09-24 | 2009-09-24 | マスクブランク及びフォトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009218490A JP2009294682A (ja) | 2009-09-24 | 2009-09-24 | マスクブランク及びフォトマスク |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006037461A Division JP2007219038A (ja) | 2006-02-15 | 2006-02-15 | マスクブランク及びフォトマスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009294682A JP2009294682A (ja) | 2009-12-17 |
| JP2009294682A5 true JP2009294682A5 (https=) | 2011-07-21 |
Family
ID=41542866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009218490A Pending JP2009294682A (ja) | 2009-09-24 | 2009-09-24 | マスクブランク及びフォトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2009294682A (https=) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101993322B1 (ko) * | 2011-09-28 | 2019-06-26 | 호야 가부시키가이샤 | 마스크블랭크용 유리기판, 다층 반사막 부착 기판, 마스크블랭크 및 마스크, 그리고 그것들의 제조방법 |
| JP7154626B2 (ja) * | 2019-11-26 | 2022-10-18 | Hoya株式会社 | マスクブランク、転写用マスク、及び半導体デバイスの製造方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08286359A (ja) * | 1995-04-18 | 1996-11-01 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスクブランクおよびフォトマスク |
| JP4088742B2 (ja) * | 2000-12-26 | 2008-05-21 | 信越化学工業株式会社 | フォトマスクブランクス、フォトマスク及びフォトマスクブランクスの製造方法 |
| JP2003195483A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-09 | Hoya Corp | フォトマスクブランク、フォトマスク、及びそれらの製造方法 |
| JP2005092241A (ja) * | 2002-03-01 | 2005-04-07 | Hoya Corp | ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法 |
| JP4521694B2 (ja) * | 2004-03-09 | 2010-08-11 | Ｈｏｙａ株式会社 | グレートーンマスク及び薄膜トランジスタの製造方法 |
| JP2005317929A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-11-10 | Hoya Corp | ポジ型レジスト膜の剥離方法及び露光用マスクの製造方法、並びにレジスト剥離装置 |
| WO2005124455A1 (ja) * | 2004-06-22 | 2005-12-29 | Hoya Corporation | マスクブランク用透光性基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、半導体装置の製造方法及び液晶表示装置の製造方法、並びに露光用マスクの欠陥修正方法 |
| JP2006030319A (ja) * | 2004-07-12 | 2006-02-02 | Hoya Corp | グレートーンマスク及びグレートーンマスクの製造方法 |
-
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- 2009-09-24 JP JP2009218490A patent/JP2009294682A/ja active Pending
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