JP2009290193A - Rigid flexible multilayer printed wiring board and its production method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、部品実装が可能なリジッド部と屈曲可能なフレキシブル部からなるリジッドフレックス多層プリント配線板とその製造方法に関する。 The present invention relates to a rigid-flex multilayer printed wiring board comprising a rigid part that can be mounted with a component and a flexible part that can be bent, and a method of manufacturing the same.
従来のリジッドフレックス多層プリント配線板は、概ね図8に示した概略断面図のように構成されている。 A conventional rigid-flex multilayer printed wiring board is generally configured as shown in the schematic sectional view of FIG.
即ち、ポリイミドなどからなる可撓性ベース基板13、当該可撓性ベース基板13の表裏に形成された配線パターン2、当該配線パターン2を保護するカバーレイ16からなるフレキシブル基板14aと、フレキシブル基板14aの表裏に積層された後にフレキシブル部Fとなる部分に刳り貫き部12を有する層間絶縁層4と、当該層間絶縁層4上に形成された配線パターン2と、当該フレキシブル基板14a及び層間絶縁層4に設けられた配線パターン2を接続するベリードホール10(以降「ベリードホール」を「BH」と表記する)と、当該層間絶縁層4に積層された後にフレキシブル部Fとなる部分に刳り貫き部12を有するビルドアップ絶縁層4c(以降「ビルドアップ絶縁層」を「BU絶縁層」と表記する)と、当該BU絶縁層4c上に形成された配線パターン2と、各層の配線パターン2を接続するスルーホール10a(以降「スルーホール」を「TH」と表記する)と、上下に隣接する配線パターン2を接続するブラインドバイアホール10b(以降「ブラインドバイアホール」を「BVH」と表記する)と、外層の配線パターン2を保護するソルダーレジスト15とからなるものである(図中の「R」は「リジッド部」、「F」は「フレキシブル部」を示している)。 That is, a flexible base substrate 13 made of polyimide or the like, a wiring pattern 2 formed on the front and back of the flexible base substrate 13, a flexible substrate 14a made of a coverlay 16 that protects the wiring pattern 2, and a flexible substrate 14a The interlayer insulating layer 4 having the penetrating portion 12 in the portion that becomes the flexible portion F after being laminated on the front and back of the wiring pattern 2, the wiring pattern 2 formed on the interlayer insulating layer 4, the flexible substrate 14a and the interlayer insulating layer 4 And a lead hole 10 (hereinafter referred to as “BH”) connected to the wiring pattern 2 provided in the wiring pattern 2 and a portion that becomes the flexible portion F after being laminated on the interlayer insulating layer 4. Build-up insulating layer 4c having a portion 12 (hereinafter, “build-up insulating layer” is referred to as “BU insulating layer”), and the BU insulating layer c, a wiring pattern 2 formed on c, a through hole 10a for connecting the wiring pattern 2 of each layer (hereinafter referred to as "THL"), and a blind via for connecting the wiring pattern 2 adjacent in the vertical direction A hole 10b (hereinafter, “blind via hole” is expressed as “BVH”) and a solder resist 15 that protects the wiring pattern 2 on the outer layer (“R” in the figure is “rigid portion”, “ "F" indicates "flexible part").
このように、リジッドフレックス多層プリント配線板は、部分的に屈曲可能なフレキシブル部Fを備えているため、製品内への搭載自由度が求められる携帯電話のメイン及びサブ基板、各種モジュール基板などに多く採用されている。 As described above, the rigid-flex multilayer printed wiring board includes the flexible portion F that can be partially bent. Therefore, the rigid-flex multilayer printed wiring board can be used for mobile phone main and sub boards, various module boards, etc. Many have been adopted.
しかし、フレキシブル基板が中心部に配置される図8のようなリジッドフレックス多層プリント配線板は、総板厚が最大で1.2mmの仕様までしか一般的な信頼性{例えば、1000サイクルの冷熱衝撃試験(−65℃で30分、+125℃で30分を1サイクルとする)によるスルーホールの接続信頼性など}が確保されていなかったため、例えば、自動車関連機器のように、総板厚が1.2mmより厚い仕様で(例えば1.6mm)、更に過酷なスルーホール接続信頼性(例えば、冷熱衝撃試験による2000〜3000サイクルの確保)を要求される場合には対応できなかった。 However, the rigid-flex multilayer printed wiring board as shown in FIG. 8 in which the flexible substrate is disposed at the center has a general reliability up to a specification of a total board thickness of 1.2 mm at the maximum {for example, 1000 cycles of thermal shock Since the through-hole connection reliability by the test (30 minutes at −65 ° C. and 30 minutes at + 125 ° C. as one cycle) has not been secured, for example, the total plate thickness is 1 as in the case of automobile-related equipment. It was not possible to meet the requirements of thicker than 2 mm specifications (for example, 1.6 mm) and more severe through-hole connection reliability (for example, securing 2000 to 3000 cycles by a thermal shock test).
もう少し詳しく説明すると、図8の形態のリジッドフレックス多層プリント配線板Paでは、中心層が異なる3基材(可撓性ベース基板13、カバーレイ16、層間絶縁層4からなる3基材)で構成されているため、熱間時に発生する応力が中心層に集中し、結果、スルーホール10aの中心層に位置する部分(図中の○で囲んだ部分)に、クラックが発生してしまうというものであった。 More specifically, the rigid-flex multilayer printed wiring board Pa in the form of FIG. 8 is composed of three base materials (three base materials composed of the flexible base substrate 13, the cover lay 16, and the interlayer insulating layer 4) having different central layers. As a result, the stress generated during hot is concentrated in the central layer, and as a result, cracks occur in the portion (the portion surrounded by a circle in the figure) located in the central layer of the through hole 10a. Met.
そこで、このような問題を回避できるものとして、図9に示したようなリジッドフレックス多層プリント配線板Pbが報告されている(特許文献1参照)。 Accordingly, a rigid-flex multilayer printed wiring board Pb as shown in FIG. 9 has been reported as one that can avoid such a problem (see Patent Document 1).
即ち、4層の配線パターン層を有するコア基板11aと、当該コア基板11aの一方の面にBU絶縁層4cを介して積層されたフレキシブル基板14と、フレキシブル基板14の配線パターン2を保護する柔軟性ソルダーレジスト15bと、コア基板11aの他方の面の配線パターンを保護するソルダーレジスト15とからなるものである。 That is, the core substrate 11a having four wiring pattern layers, the flexible substrate 14 laminated on one surface of the core substrate 11a via the BU insulating layer 4c, and the flexible protection for protecting the wiring pattern 2 of the flexible substrate 14 The conductive solder resist 15b and the solder resist 15 that protects the wiring pattern on the other surface of the core substrate 11a.
このように、コア基板と線膨張係数の異なるフレキシブル基板を外層に配置すれば、冷熱衝撃試験によって発生する応力を緩和することができ、以って、スルーホールの接続信頼性を確保することができる。 In this way, if a flexible substrate having a coefficient of linear expansion different from that of the core substrate is disposed in the outer layer, the stress generated by the thermal shock test can be relaxed, thereby ensuring the connection reliability of the through hole. it can.
しかし、この手のリジッドフレックス多層プリント配線板は、コア基板の一方の面にしかビルドアップ層(該図においてはフレキシブル基板14からなるビルドアップ層)が積層されていないため(即ち、コア基板の表裏で厚さが異なるため)、積層時や部品実装時などの熱処理の際に、反りが発生しやすいという問題があった。 However, this type of rigid-flex multilayer printed wiring board has a build-up layer (a build-up layer made up of the flexible substrate 14 in the figure) laminated only on one side of the core substrate (that is, the core substrate) Since the thickness differs between the front and back surfaces, there has been a problem that warpage is likely to occur during heat treatment during lamination or component mounting.
このような問題に対して特許文献1では、コア基板11aの厚さを薄くすることによって反りを吸収するとしているが、厚さで対応する場合、製品仕様が限られてしまうため(例えば、コア基板の層数が多くなった場合や層間絶縁層を厚くしなければならない場合などは対応が難しい)、必ずしも有効的な手段とはいえなかった。 With respect to such a problem, Patent Document 1 describes that the warp is absorbed by reducing the thickness of the core substrate 11a. However, if the thickness is used, the product specifications are limited (for example, the core). When the number of layers of the substrate is increased or when the interlayer insulating layer has to be thickened, it is difficult to cope with it).
本発明は、総板厚が1.2mmよりも厚い場合においても、スルーホールの接続信頼性を確保することができ、且つ、反りや捩れの発生も併せて抑制することができるリジッドフレックス多層プリント配線板と、当該リジッドフレックス多層プリント配線板が容易に得られる製造方法を提供することを課題とする。 The present invention provides a rigid flex multilayer print that can ensure the connection reliability of through-holes and suppress the occurrence of warping and twisting even when the total plate thickness is thicker than 1.2 mm. It is an object of the present invention to provide a wiring board and a manufacturing method for easily obtaining the rigid-flex multilayer printed wiring board.
本発明は、部品実装が可能なリジッド部と屈曲可能なフレキシブル部とからなるリジッドフレックス多層プリント配線板であって、少なくとも、所望の層数の配線パターン層を有するコア基板と、当該コア基板の一方の面の外層に、少なくともビルドアップ絶縁層を介して積層されたフレキシブル基板を有する第一ビルドアップ層と、当該コア基板の他方の面の外層に積層されたビルドアップ絶縁層と配線パターンからなる第二ビルドアップ層と、上下方向の配線パターン間を接続するビアホールと、外層の配線パターンを保護するソルダーレジストと、外層の配線パターンのうちのフレキシブル部に形成された配線パターンを保護するカバーレイと、フレキシブル部に相当する部分に形成された刳り抜き部とを有し、且つ、当該第一ビルドアップ層と第二ビルドアップ層とが略同じ厚さに形成されていることを特徴とするリジッドフレックス多層プリント配線板により上記課題を解決したものである。 The present invention is a rigid-flex multilayer printed wiring board comprising a rigid part that can be mounted with a component and a flexible part that can be bent, and includes at least a core substrate having a desired number of wiring pattern layers, From a first buildup layer having a flexible substrate laminated on at least one outer layer via a buildup insulating layer, and a buildup insulating layer and wiring pattern laminated on the outer layer on the other surface of the core substrate A second buildup layer, a via hole that connects the wiring patterns in the vertical direction, a solder resist that protects the wiring pattern on the outer layer, and a cover that protects the wiring pattern formed on the flexible portion of the wiring pattern on the outer layer The first build has a lay and a punched portion formed in a portion corresponding to the flexible portion. The rigid-flex multilayer printed wiring board, characterized in that the-up layer and the second buildup layer is formed substantially in the same thickness is obtained by solving the above problems.
また、本発明は、部品実装が可能なリジッド部と屈曲可能なフレキシブル部とからなるリジッドフレックス多層プリント配線板であって、少なくとも、所望の層数の配線パターン層を有するコア基板と、当該コア基板の一方の面の外層に、少なくともビルドアップ絶縁層を介して積層されたフレキシブル基板を有する第一ビルドアップ層と、当該コア基板の他方の面の外層に積層されたビルドアップ絶縁層と配線パターンからなる第二ビルドアップ層と、上下方向の配線パターン間を接続するビアホールと、外層の配線パターンを保護するソルダーレジストと、フレキシブル部に相当する部分に形成された刳り抜き部とを有し、且つ、当該フレキシブル基板のフレキシブル部に相当する部分に形成される配線パターンが内層側にのみ形成されているとともに当該配線パターンを保護するカバーレイが当該配線パターン形成部に部分的に形成され、更に、当該第一ビルドアップ層と第二ビルドアップ層とが略同じ厚さに形成されていることを特徴とするリジッドフレックス多層プリント配線板により上記課題を解決したものである。 The present invention also provides a rigid-flex multilayer printed wiring board comprising a rigid part that can be mounted on a component and a flexible part that can be bent, the core substrate having at least a desired number of wiring pattern layers, and the core A first buildup layer having a flexible substrate laminated on at least one outer surface of the substrate via a buildup insulating layer, and a buildup insulating layer and wiring laminated on an outer layer on the other surface of the core substrate A second build-up layer made of a pattern, via holes connecting the wiring patterns in the vertical direction, a solder resist that protects the wiring pattern in the outer layer, and a hollow portion formed in a portion corresponding to the flexible portion And the wiring pattern formed in the portion corresponding to the flexible portion of the flexible substrate is formed only on the inner layer side. And a coverlay that protects the wiring pattern is partially formed in the wiring pattern forming portion, and that the first buildup layer and the second buildup layer are formed to have substantially the same thickness. The above-described problems are solved by the featured rigid-flex multilayer printed wiring board.
また、本発明は、部品実装が可能なリジッド部と屈曲可能なフレキシブル部とからなるリジッドフレックス多層プリント配線板の製造方法であって、少なくとも、所望の層数の配線パターン層を有するコア基板を形成する第一工程と、当該コア基板の一方の面の外層に、ビルドアップ絶縁層とフレキシブル基板を順次積層してなる第一ビルドアップ層を形成する第二工程と、当該コア基板の他方の面の外層にビルドアップ絶縁層と金属箔とからなる第二ビルドアップ層を形成する第三工程と、上下方向の配線パターンを接続するビアホールを形成する第四工程と、外層の配線パターンを形成する第五工程と、外層の配線パターンを保護するソルダーレジストを形成する第六工程と、外層の配線パターンのうちのフレキシブル部に形成された配線パターンを保護するカバーレイを形成する第七工程と、後にフレキシブル部となる部分に刳り抜き部を形成する第八工程とを有し、且つ、当該第一ビルドアップ層の厚さと第二ビルドアップ層の厚さを略同じ厚さに形成することを特徴とするリジッドフレックス多層プリント配線板の製造方法により上記課題を解決したものである。 The present invention also relates to a method of manufacturing a rigid-flex multilayer printed wiring board comprising a rigid part that can be mounted with a component and a flexible part that can be bent, and includes a core substrate having at least a desired number of wiring pattern layers. A first step of forming, a second step of forming a first buildup layer formed by sequentially laminating a buildup insulating layer and a flexible substrate on an outer layer of one surface of the core substrate, and the other of the core substrate Form a third step to form a second buildup layer consisting of a buildup insulating layer and metal foil on the outer layer of the surface, a fourth step to form a via hole to connect the wiring pattern in the vertical direction, and form a wiring pattern of the outer layer A fifth step of forming a solder resist that protects the outer layer wiring pattern, and a wiring formed in the flexible portion of the outer layer wiring pattern. A seventh step of forming a cover lay for protecting the pattern, and an eighth step of forming a cut-out portion in a portion that later becomes a flexible portion, and the thickness and the second build-up of the first build-up layer The above-described problems are solved by a method for manufacturing a rigid-flex multilayer printed wiring board, wherein the layers are formed to have substantially the same thickness.
また、本発明は、部品実装が可能なリジッド部と屈曲可能なフレキシブル部とからなるリジッドフレックス多層プリント配線板の製造方法であって、少なくとも、所望の層数の配線パターン層を有するコア基板を形成する第一工程と、フレキシブル部の配線パターンが内層側にのみ形成されているフレキシブル基板を形成する第二工程と、当該フレキシブル部の内層側に形成された配線パターンを保護するカバーレイを形成する第三工程と、当該コア基板の一方の面の外層に、ビルドアップ絶縁層と第二、第三工程で得られたフレキシブル基板とを順次積層してなる第一ビルドアップ層を形成する第四工程と、当該コア基板の他方の面の外層にビルドアップ絶縁層と金属箔とからなる第二ビルドアップ層を形成する第五工程と、上下方向の配線パターンを接続するビアホールを形成する第六工程と、外層の配線パターンを形成する第七工程と、外層の配線パターンを保護するソルダーレジストを形成する第八工程と、後にフレキシブル部となる部分に刳り抜き部を形成する第九工程とを有し、且つ、当該第一ビルドアップ層の厚さと第二ビルドアップ層の厚さを略同じ厚さに形成することを特徴とするリジッドフレックス多層プリント配線板の製造方法により上記課題を解決したものである。 The present invention also relates to a method of manufacturing a rigid-flex multilayer printed wiring board comprising a rigid part that can be mounted with a component and a flexible part that can be bent, and includes a core substrate having at least a desired number of wiring pattern layers. A first step to form, a second step to form a flexible substrate in which the wiring pattern of the flexible part is formed only on the inner layer side, and a coverlay that protects the wiring pattern formed on the inner layer side of the flexible part Forming a first buildup layer formed by sequentially laminating a buildup insulating layer and a flexible substrate obtained in the second and third steps on the outer layer of one surface of the core substrate. Four steps, a fifth step of forming a second buildup layer made of a buildup insulating layer and a metal foil on the outer layer on the other side of the core substrate, and a vertical arrangement. The sixth step of forming via holes for connecting the patterns, the seventh step of forming the outer layer wiring pattern, the eighth step of forming the solder resist for protecting the outer layer wiring pattern, and the portion that will later become the flexible portion A rigid-flex multilayer printed wiring comprising: a ninth step of forming a cut-out portion; and forming the first buildup layer and the second buildup layer to have substantially the same thickness. The above-described problems are solved by a plate manufacturing method.
リジッドフレックス多層プリント配線板を本発明の構成とすることによって、製品仕様に制限されることなく、スルーホールの接続信頼性を確保することができるとともに反りや捩れの発生をも抑制することができる。また、本発明の製造方法により、当該リジッドフレックス多層プリント配線板を効率良く容易に得ることができる。 By adopting the rigid-flex multilayer printed wiring board according to the configuration of the present invention, it is possible to ensure the connection reliability of the through hole without being restricted by product specifications and to suppress the occurrence of warping and twisting. . In addition, the rigid flex multilayer printed wiring board can be obtained efficiently and easily by the production method of the present invention.
本発明の第一の実施の形態を、図1乃至図3に示した概略断面工程図を用いて説明する。尚、文中に出てくる「層間絶縁層」「BU絶縁層」は、実際には半硬化状態の「層間絶縁接着剤層」を、加熱・加圧プレスで硬化積層させたものを指すのであるが、説明の便宜上、加熱・加圧プレス工程の説明を省略し、初めから「層間絶縁層、BU絶縁層を積層する」という形で説明する。 A first embodiment of the present invention will be described with reference to schematic sectional process diagrams shown in FIGS. The “interlayer insulating layer” and “BU insulating layer” appearing in the text actually refer to a semi-cured “interlayer insulating adhesive layer” that is cured and laminated by heating and pressing. However, for convenience of explanation, explanation of the heating / pressing press process is omitted, and the explanation will be made in the form of “lamination of an interlayer insulating layer and a BU insulating layer” from the beginning.
まず、図1(a)に示したように、ガラスエポキシ基板などの絶縁基板1の表裏に配線パターン2を形成することによって、両面プリント配線板3を得る。 First, as shown to Fig.1 (a), the double-sided printed wiring board 3 is obtained by forming the wiring pattern 2 in the front and back of the insulating substrates 1, such as a glass epoxy board | substrate.
ここで、配線パターン2を形成する手段としては、金属箔をエッチングして形成するサブトラクティブ法やめっきを析出させて形成するアディティブ法などにより形成することができる。 Here, as a means for forming the wiring pattern 2, it can be formed by a subtractive method in which a metal foil is etched or an additive method in which plating is deposited.
次に、配線パターン2の表面を粗化処理(例えば、蟻酸やアミン系錯化剤を主成分とするソフトエッチング処理など)した後、両面プリント配線板3の表裏に、層間絶縁層4と銅箔などの金属箔5を順次積層する(あるいは金属箔5の片面に層間絶縁層4が予め積層された樹脂付き金属箔6を、層間絶縁層4が両面プリント配線板3と接するように積層する)ことによって、両面プリント配線板3の表裏に層間絶縁層4と金属箔5が積層された図1(b)の基板を得る。 Next, after roughening the surface of the wiring pattern 2 (for example, a soft etching process mainly composed of formic acid or an amine complexing agent), the interlayer insulating layer 4 and copper are formed on the front and back of the double-sided printed wiring board 3. A metal foil 5 such as a foil is sequentially laminated (or a metal foil with resin 6 in which an interlayer insulating layer 4 is previously laminated on one surface of the metal foil 5 is laminated so that the interlayer insulating layer 4 is in contact with the double-sided printed wiring board 3. Thus, the substrate of FIG. 1B in which the interlayer insulating layer 4 and the metal foil 5 are laminated on the front and back of the double-sided printed wiring board 3 is obtained.
次に、ドリル加工などによって、所望とする位置に貫通孔7を穿孔し、次いで、過マンガン酸ナトリウム系や過マンガン酸カリウム系などのデスミア処理を行うことによって、貫通孔7をクリーニングする(図1(c)参照)。 Next, the through hole 7 is drilled at a desired position by drilling or the like, and then the through hole 7 is cleaned by performing a desmear treatment such as sodium permanganate or potassium permanganate (FIG. 1 (c)).
次に、無電解めっき処理(例えば「無電解銅めっき処理」)、電解めっき処理(例えば「電解銅めっき処理」)を順次行うことによって、貫通孔7を含む基板全面にめっき8を析出させ、次いで、めっき8が形成された貫通孔7に孔埋め樹脂9を充填することによって、図1(d)の基板を得る。 Next, by sequentially performing an electroless plating process (for example, “electroless copper plating process”) and an electrolytic plating process (for example, “electrolytic copper plating process”), the plating 8 is deposited on the entire surface of the substrate including the through holes 7. Next, the through-hole 7 in which the plating 8 is formed is filled with a hole-filling resin 9 to obtain the substrate shown in FIG.
次に、サブトラクティブ法などの回路形成を行うことによって、配線パターン2a及び各層の配線パターン間を接続するBH10が形成された4層のコア基板11を得る(図1(e1)参照)。 Next, by forming a circuit such as a subtractive method, a four-layer core substrate 11 on which the wiring pattern 2a and the BH 10 that connects the wiring patterns of each layer are formed is obtained (see FIG. 1 (e1)).
次に、当該コア基板11の後にフレキシブル部Fとなる部分の第一座ぐり予定部12a(図1(e1)、(e2)の点線で囲んだ部分)を第一座ぐり加工によって除去し(図2(a1)、(a2)参照)、次いで、コア基板11の配線パターン2aを粗化した後、当該コア基板11の一方の面の外層に第一ビルドアップ層Cを、当該コア基板11の他方の面の外層に第二ビルドアップ層Dをそれぞれ積層する(図2(b)参照)。因みに、図1(e2)は「第一座ぐり予定部12a」を上から見た場合の要部拡大平面図、図2(a2)は「第一座ぐり予定部12a」を除去した後の「座ぐり部12b」を上から見た場合の要部拡大平面図を示したものである。 Next, the first counterbore planned portion 12a (the portion surrounded by the dotted line in FIGS. 1 (e1) and (e2)) of the portion that becomes the flexible portion F after the core substrate 11 is removed by the first counterbore processing ( Next, after roughening the wiring pattern 2a of the core substrate 11, the first buildup layer C is formed on the outer layer of one surface of the core substrate 11, and the core substrate 11 Each of the second buildup layers D is laminated on the outer layer on the other surface (see FIG. 2B). Incidentally, FIG. 1 (e2) is an enlarged plan view of the main part when the “first counterbore planned portion 12a” is viewed from above, and FIG. 2 (a2) is after the “first counterbore planned portion 12a” is removed. The principal part enlarged plan view at the time of seeing "the spot facing part 12b" from the top is shown.
ここで、第一座ぐり加工がわ面Aに積層される第一ビルドアップ層Cは、BU絶縁層4aを介して積層されたフレキシブル基板14(可撓性ベース基板13と金属箔5とからなるフレキシブル基板14)からなり、また、後に加工される第二座ぐり加工がわ面Bに積層される第二ビルドアップ層Dは、BU絶縁層4bを介して積層された金属箔5(あるいは、金属箔5の片面にBU絶縁層4bが予め積層された樹脂付き金属箔6a)とからなるのであるが、当該第一ビルドアップ層C及び第二ビルドアップ層Dの厚さは、略同じ厚さとなっている。 Here, the first build-up layer C on which the first counterbore process is laminated on the side A is composed of the flexible substrate 14 (the flexible base substrate 13 and the metal foil 5) laminated via the BU insulating layer 4a. And a second build-up layer D on which the second counterbore process to be processed later is laminated on the side B is a metal foil 5 (or alternatively laminated) via a BU insulating layer 4b. , A resin-attached metal foil 6a in which a BU insulating layer 4b is laminated in advance on one side of the metal foil 5, but the thicknesses of the first buildup layer C and the second buildup layer D are substantially the same. It is thick.
また、BU絶縁層4a、4bとしては、特に限定されるものではないが、ガラス織布あるいはガラス不織布にエポキシ樹脂を含浸したプリプレグを用いるのが、配線パターン2aの樹脂埋めを良好に行う、あるいは反りや捩れを抑制する上で好ましい。 Further, the BU insulating layers 4a and 4b are not particularly limited, but using a prepreg in which a glass woven fabric or a glass nonwoven fabric is impregnated with an epoxy resin can satisfactorily fill the wiring pattern 2a, or It is preferable for suppressing warping and twisting.
更に、本実施の形態では、BU絶縁層4aのフレキシブル部Fに相当する部分に、予め刳り抜き部12dを形成する例を示したが、必ずしも設ける必要はない。しかし、当該刳り抜き部12dを設けるのが、完成品になった際のフレキシブル部Fの屈曲性を向上させる上で好ましい。 Furthermore, in the present embodiment, an example is shown in which the punched portion 12d is formed in advance in the portion corresponding to the flexible portion F of the BU insulating layer 4a, but it is not always necessary to provide it. However, it is preferable to provide the punched portion 12d in order to improve the flexibility of the flexible portion F when it is a finished product.
次に、層間接続用のビアホール(THやBVH)を形成する部分に、貫通孔7aや非貫通孔7bをドリル加工、レーザ加工などによって穿孔し(図2(c)参照)、次いで、デスミア処理、めっき処理を順次行うことによって、図2(d)の基板を得る。 Next, a through hole 7a and a non-through hole 7b are drilled by drilling, laser processing, or the like in a portion where a via hole (TH or BVH) for interlayer connection is formed (see FIG. 2C), and then desmear treatment The substrate shown in FIG. 2D is obtained by sequentially performing the plating process.
次に、図3(a)に示したように、サブトラクティブ法で外層の回路形成を行うことによって、配線パターン2b、TH10a、BVH10bを形成し、次いで、配線パターン2bを保護するソルダーレジスト15及びフレキシブル部Fに位置する配線パターン2bを保護するカバーレイ16を形成する(図3(b)参照)。 Next, as shown in FIG. 3A, by forming the circuit of the outer layer by the subtractive method, the wiring patterns 2b, TH10a, BVH10b are formed, and then the solder resist 15 for protecting the wiring pattern 2b and A cover lay 16 that protects the wiring pattern 2b located in the flexible portion F is formed (see FIG. 3B).
ここで、当該ソルダーレジスト15においては、第二座ぐり予定部12cを除去する際の座ぐり加工を良好に行うために(即ち、座ぐり加工によって、ソルダーレジストにクラックが発生するのを防止するために)、ソルダーレジスト抜き部15aを設けておくのが好ましい。 Here, in the solder resist 15, in order to satisfactorily perform the spot facing when removing the second spot facing portion 12c (that is, the cracking of the solder resist due to the spot facing is prevented). For this reason, it is preferable to provide a solder resist removal portion 15a.
また、フレキシブル部Fに位置する配線パターン2bを保護するカバーレイ16としては、接着層を備えた可撓性フィルム、硬化後においても柔軟性を有する柔軟性絶縁接着剤層(所謂「ボンディングシート」)や柔軟性ソルダーレジストなどが挙げられるが、何れを選択しても構わない。 Further, as the coverlay 16 that protects the wiring pattern 2b located in the flexible portion F, a flexible film having an adhesive layer, a flexible insulating adhesive layer having flexibility even after curing (a so-called “bonding sheet”). ) Or a flexible solder resist, and any of them may be selected.
次に、第二座ぐり加工で残りの第二座ぐり予定部12cを除去することによって、フレキシブル部Fに刳り抜き部12を形成し、次いで、金型による打ち抜き加工やルーター加工などの外形加工を行うことによって、図3(c)に示したリジッドフレックス多層プリント配線板Pを得る。 Next, the remaining second counterbore planned portion 12c is removed by the second counterbore processing to form the punched portion 12 in the flexible portion F, and then the outer shape processing such as punching by a die or router processing. To obtain the rigid-flex multilayer printed wiring board P shown in FIG.
本発明の注目すべき点は、コア基板の一方の外層にのみビルドアップ層としてのフレキシブル基板を積層し、当該フレキシブル基板が積層された一方のビルドアップ層とフレキシブル基板が積層されない他方のビルドアップ層の厚さを略同じ厚さに揃えた点にある。 The remarkable point of the present invention is that a flexible substrate as a build-up layer is laminated only on one outer layer of the core substrate, and one build-up layer on which the flexible substrate is laminated and the other build-up on which the flexible substrate is not laminated. The thickness of the layers is the same.
これにより、製品仕様(基板厚さなど)に制限されることなく、スルーホールの接続信頼性を確保できるとともに反りや捩れの発生も抑制することができる。 Thereby, the connection reliability of the through hole can be ensured and the occurrence of warping and twisting can be suppressed without being restricted by product specifications (substrate thickness or the like).
次に、図4を用いて第二の実施の形態を説明する。
図4は、フレキシブル基板14を積層する代わりに、硬化後においても柔軟性を有する柔軟性絶縁接着層18(例えば、ポリイミドなどからなるボンディングシート等が挙げられる)を介して金属箔5を積層するようにしたものである。
Next, a second embodiment will be described with reference to FIG.
In FIG. 4, instead of laminating the flexible substrate 14, the metal foil 5 is laminated via a flexible insulating adhesive layer 18 (for example, a bonding sheet made of polyimide or the like) that has flexibility even after curing. It is what I did.
本実施の形態によれば、BU絶縁層4aを介してフレキシブル基板14を積層するといった第一の実施の形態のような手間がかからないため、容易に、且つ低コストでフレキシブル部Fを形成することができる。 According to the present embodiment, the flexible portion F can be formed easily and at a low cost because it does not require the effort as in the first embodiment in which the flexible substrate 14 is laminated via the BU insulating layer 4a. Can do.
因みに、図4(a)では、片側のみ柔軟性絶縁接着剤層18を設ける例を示したが、製造工程の容易性、反りや捩れを更に抑制できるという点で、上下の材料を揃えた図4(b)の構成とするのが好ましい。 4A shows an example in which the flexible insulating adhesive layer 18 is provided only on one side. However, it is a diagram in which the upper and lower materials are aligned in that the manufacturing process is easy and warpage and twisting can be further suppressed. The configuration of 4 (b) is preferable.
次に、図5を用いて第三の実施の形態を説明する。尚、図5(a1)は、図1(e1)と同じものなので、それまでの製造工程については説明を省略する。また、図5(a2)は、「第一スリット加工予定部17a」を上から見た場合の要部拡大平面図、図5(b2)は、「第一スリット加工予定部17a」にスリット加工を行った後の「スリット部17」を上から見た場合の要部拡大平面図を示したものである。 Next, a third embodiment will be described with reference to FIG. Since FIG. 5A1 is the same as FIG. 1E1, the description of the manufacturing process up to that point is omitted. 5 (a2) is an enlarged plan view of a main part when the “first slit machining scheduled portion 17a” is viewed from above, and FIG. 5 (b2) is a slit machining on the “first slit machining scheduled portion 17a”. The principal part enlarged plan view at the time of seeing the "slit part 17" after performing this from the top is shown.
まず、図5(a1)、(a2)に示したコア基板11の第一スリット加工予定部17aに(図中の点線で示した部分)、ルータ加工やレーザ加工などによる第一スリット加工を行うことによって、図5(b1)、(b2)に示したスリット部17を形成する。 First, the first slit processing by router processing, laser processing, or the like is performed on the first slit processing scheduled portion 17a of the core substrate 11 shown in FIGS. 5A1 and 5A2 (the portion indicated by the dotted line in the drawing). As a result, the slit portion 17 shown in FIGS. 5B1 and 5B2 is formed.
ここで、当該スリット部17は、後にフレキシブル部Fとなる部分に形成される刳り抜き部12の輪郭に沿って加工し、また、コア基板11の途中までで加工をやめて(例えば、コア基板11の厚さの1/3〜1/2程度の深さまで加工を行う)、スリット残部17cを残すようにする。 Here, the slit portion 17 is processed along the outline of the punched portion 12 to be formed later in the portion that becomes the flexible portion F, and the processing is stopped halfway through the core substrate 11 (for example, the core substrate 11). The remaining portion of the slit 17c is left.
次に、第一の実施の形態と同様に、第一スリット加工がわ面A1に第一ビルドアップ層Cを、第二スリット加工がわ面B1に第二ビルドアップ層Dをそれぞれ積層し(図5(c)参照)、次いで、TH及びBVHの形成、外層の配線パターン形成、ソルダーレジスト及びカバーレイの形成を順次行う。 Next, as in the first embodiment, the first build-up layer C is laminated on the side A1 of the first slit process, and the second build-up layer D is laminated on the side B1 of the second slit process ( Next, the formation of TH and BVH, the formation of the outer layer wiring pattern, the formation of the solder resist and the coverlay are sequentially performed.
次に、スリット部17に達する第二スリット加工(図中の符号「17b」は、「第二スリット加工」で加工する「第二スリット加工予定部」を示している)でフレキシブル部Fに相当する部分に刳り抜き部12を形成し、次いで、金型による打ち抜き加工やルーター加工などの外形加工を行うことによって、図5(d)に示したリジッドフレックス多層プリント配線板Pを得るというものである。 Next, it corresponds to the flexible part F in the second slit processing (symbol “17b” in the figure indicates the “second slit processing scheduled portion” processed by “second slit processing”) reaching the slit portion 17. A rigid-flex multilayer printed wiring board P shown in FIG. 5 (d) is obtained by forming a punched portion 12 in the portion to be cut and then performing external processing such as punching with a die or router processing. is there.
本実施の形態の注目すべき点は、第一の実施の形態で除去していた第一座ぐり予定部12aを除去する代わりに、スリット部17を形成し、スリット残部17cを残すようにした点にある。 What should be noted in this embodiment is that, instead of removing the first counterbore planned portion 12a removed in the first embodiment, the slit portion 17 is formed and the remaining slit portion 17c is left. In the point.
これにより、フレキシブル部Fに位置する部分(図5(c)の丸で囲んだ部分)の配線パターン形成の際に、スリット残部17cが支えとなるため、フレキシブル部Fの長さL(図5(d)参照)が長い仕様(例えば10mm以上)でも、当該フレキシブル基板14の撓みを抑制することができる(図6(a)に示した図5(c)の要部拡大断面図参照)。 As a result, when the wiring pattern is formed in the portion located in the flexible portion F (the portion surrounded by a circle in FIG. 5C), the slit remaining portion 17c is supported, and therefore the length L of the flexible portion F (FIG. 5). Even if the specification (see (d)) is long (for example, 10 mm or more), the bending of the flexible substrate 14 can be suppressed (see the enlarged cross-sectional view of the main part in FIG. 5C shown in FIG. 6A).
従って、第一の実施の形態では、この支えがない分、フレキシブル部Fの撓みが大きくなるため、フレキシブル部Fの長さLが長い仕様(例えば10mm以上)になると、回路形成用のドライフィルム(エッチングレジストフィルム)が追従できず、結果、良好な配線パターンを形成するのが難しかったが(即ち、第一の実施の形態では、フレキシブル部Fが短い仕様(例えば5mm以下)でないと対応が難しかった)、第三の実施の形態では、このような撓みを抑制できるため、フレキシブル部Fの長さLが長い仕様にも容易に対応することができる。 Accordingly, in the first embodiment, since the flexure of the flexible portion F increases due to this lack of support, if the length L of the flexible portion F is long (for example, 10 mm or more), a dry film for forming a circuit (Etching resist film) could not follow, and as a result, it was difficult to form a good wiring pattern (that is, in the first embodiment, if the flexible portion F is not a short specification (for example, 5 mm or less), it can be handled. However, in the third embodiment, since such bending can be suppressed, it is possible to easily cope with a specification in which the length L of the flexible portion F is long.
また、本実施の形態では、スリット残部17cに、ダミーパターン21を形成した例を示したが、当該ダミーパターン21がなくても、フレキシブル部Fの撓みは抑制できるため、必ずしも設ける必要はない。しかし、コア基板11とのギャップを小さくし、フレキシブル部Fの撓みをより抑制できることから、当該ダミーパターン21を残すのが、良好な配線パターンを形成する上で好ましい(図6(a)参照)。 Moreover, although the example which formed the dummy pattern 21 in the slit remaining part 17c was shown in this Embodiment, since the bending of the flexible part F can be suppressed even if the said dummy pattern 21 is not provided, it does not necessarily need to provide. However, since the gap with the core substrate 11 can be reduced and the bending of the flexible portion F can be further suppressed, it is preferable to leave the dummy pattern 21 in order to form a good wiring pattern (see FIG. 6A). .
更に本実施の形態では、フレキシブル基板14のスリット部17に相当する部分(即ち、フレキシブル基板14のフレキシブル部Fとリジッド部Rの境界部分)に、当該スリット部17に依存する凹み部19が形成されることも特徴の一つである(図6(a)参照)。 Further, in the present embodiment, a recessed portion 19 depending on the slit portion 17 is formed in a portion corresponding to the slit portion 17 of the flexible substrate 14 (that is, a boundary portion between the flexible portion F and the rigid portion R of the flexible substrate 14). This is one of the characteristics (see FIG. 6A).
即ち、第一の実施の形態と第三の実施の形態は、いずれもフレキシブル基板14を積層する際に流出するBU絶縁層4aの樹脂(図6(a)、(b)に示した「樹脂補強部20」に相当)により、当該フレキシブル基板14とBU絶縁層4aとの接着強度を上げられる点で共通している(図6(a)は、第三の実施の形態のフレキシブル部Fの拡大断面図、図6(b)は、第一の実施の形態のフレキシブル部Fの拡大断面図を示したものである。尚、図6(a)のスリット残部17cとダミーパターン21は、最終的には除去されるものであるが、これらが除去された後も、フレキシブル部Fの形状は変わらず、凹み部19が形成されたままとなる。)。 That is, in both the first embodiment and the third embodiment, the resin of the BU insulating layer 4a that flows out when the flexible substrate 14 is laminated (the “resin shown in FIGS. 6A and 6B). (Corresponding to the reinforced portion 20 "), which is common in that the adhesive strength between the flexible substrate 14 and the BU insulating layer 4a can be increased (FIG. 6 (a) shows the flexible portion F of the third embodiment. 6B is an enlarged cross-sectional view of the flexible portion F of the first embodiment, wherein the slit remaining portion 17c and the dummy pattern 21 in FIG. Although they are removed, the shape of the flexible portion F does not change after the removal, and the recessed portion 19 remains formed.)
しかし、図6(a)、(b)を見ても分かるように、両者のフレキシブル部Fの長さを同じ長さとした場合、第三の実施の形態の方が、第一の実施の形態と比較して、フレキシブル基板14の撓み部分を短くすることができる(当該「撓み部分」は、図6(a)の「凹み部19」の長さ「LL」と図6(b)の「フレキシブル部F」の長さ「L」に相当する)。 However, as can be seen from FIGS. 6A and 6B, when the lengths of the flexible portions F are the same, the third embodiment is the first embodiment. As compared with the above, the bent portion of the flexible substrate 14 can be shortened (the “flexible portion” is the length “LL” of the “dent 19” in FIG. 6A and “ This corresponds to the length “L” of the flexible part F).
従って、BU絶縁層4aとフレキシブル基板14とのなす角度θ(図6(b)参照)を第一の実施の形態よりも小さくできるため、当該BU絶縁層4aの樹脂(図中の「樹脂補強部20」に相当)が、フレキシブル部Fの中央側へ流れ込む量を抑制でき、以って、第一の実施の形態と比較してフレキシブル部Fの屈曲性の低下を抑制することができる。 Therefore, since the angle θ (see FIG. 6B) formed by the BU insulating layer 4a and the flexible substrate 14 can be made smaller than that in the first embodiment, the resin of the BU insulating layer 4a (“resin reinforcement” in the figure). Portion 20 ”) can be suppressed from flowing into the central side of the flexible portion F, and therefore, a decrease in the flexibility of the flexible portion F can be suppressed as compared with the first embodiment.
第一、第三の実施の形態を説明するに当たって、外層に形成される配線パターンの保護手段として、リジッド部Rとフレキシブル部Fとで異なるものを形成する例を説明したが、図7に示したように、硬化後においても柔軟性を有する柔軟性ソルダーレジスト15bに統一して、製造工程を短縮化することもできる(即ち、ソルダーレジストを一括形成できる)。 In describing the first and third embodiments, an example in which different parts are formed in the rigid portion R and the flexible portion F as the protective means for the wiring pattern formed in the outer layer has been described. As described above, the manufacturing process can be shortened by integrating the flexible solder resist 15b having flexibility even after curing (that is, the solder resist can be collectively formed).
次に、図10、図11を用いて第四の実施の形態を説明する。 Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIGS.
まず、絶縁基板1の表裏に配線パターン2を有し、且つ、図5(b1)と同様のスリット17が形成されたコア基板11bを用意する(図10(a)参照)。 First, the core substrate 11b having the wiring pattern 2 on the front and back of the insulating substrate 1 and having the slits 17 similar to those shown in FIG. 5B1 is prepared (see FIG. 10A).
次に、コア基板11bの配線パターン2を粗化した後、当該コア基板11bの一方の面の外層に第一ビルドアップ層Cを、当該コア基板11bの他方の面の外層に第二ビルドアップ層Dをそれぞれ積層する(図10(c)参照)。尚、ビルドアップ層C、Dの厚さは第一〜第三の実施の形態と同様に略同じであり、以降の実施の形態においても両者は略同じ厚さであるため、これについての説明は省略する。 Next, after roughening the wiring pattern 2 of the core substrate 11b, the first buildup layer C is formed on the outer layer on one surface of the core substrate 11b, and the second buildup is performed on the outer layer on the other surface of the core substrate 11b. Each layer D is stacked (see FIG. 10C). The thicknesses of the build-up layers C and D are substantially the same as in the first to third embodiments, and in the following embodiments, both are substantially the same thickness. Is omitted.
ここで、第一スリット加工がわ面A1に積層される第一ビルドアップ層Cは、フレキシブル部Fに相当する部分に刳り抜き部12dを有するBU絶縁層4aを介して積層されたフレキシブル基板14(可撓性ベース基板13と金属箔5とからなるフレキシブル基板14)からなり、また、後に加工される第二座ぐり加工がわ面B1に積層される第二ビルドアップ層Dは、BU絶縁層4bを介して積層された金属箔5(あるいは、金属箔5の片面にBU絶縁層4bが予め積層された樹脂付き金属箔6a)とからなる(図10(b)、(c)参照)。 Here, the first buildup layer C on which the first slit processing is laminated on the front surface A1 is a flexible substrate 14 laminated via a BU insulating layer 4a having a hollow portion 12d in a portion corresponding to the flexible portion F. The second build-up layer D, which is made of (the flexible substrate 14 composed of the flexible base substrate 13 and the metal foil 5) and laminated on the side B1 of the second counterbore processed later, is BU insulating. The metal foil 5 is laminated via the layer 4b (or the metal foil 6a with resin in which the BU insulating layer 4b is laminated in advance on one side of the metal foil 5) (see FIGS. 10B and 10C). .
次に、ドリル加工などによって、所望とする位置に貫通孔7を穿孔した後、過マンガン酸ナトリウム系や過マンガン酸カリウム系などのデスミア処理を行い(図10(d)参照)、次いで、当該貫通孔7を含む全面にめっき8を析出させた後、めっき8が形成された貫通孔7に孔埋め樹脂9を充填する(図10(e)参照)。 Next, after drilling the through-hole 7 at a desired position by drilling or the like, desmear treatment such as sodium permanganate or potassium permanganate is performed (see FIG. 10 (d)), then After the plating 8 is deposited on the entire surface including the through holes 7, the filling resin 9 is filled into the through holes 7 in which the plating 8 is formed (see FIG. 10E).
次に、図10(e)の基板にサブトラクティブ法などの回路形成を施すことによって、配線パターン2bと、表裏の配線パターン2b間を接続するベリードホール10を有する中間多層プリント配線板MPを作製し、次いで、配線パターン2bの粗化処理(例えば、蟻酸やアミン系錯化剤を主成分とするソフトエッチング処理など)を行なった後、当該中間多層プリント配線板MPの表裏に柔軟性絶縁接着剤層18と金属箔5を順次積層させる(図11(a)参照)。 Next, by forming a circuit such as a subtractive method on the substrate of FIG. 10 (e), an intermediate multilayer printed wiring board MP having a lead hole 10 connecting the wiring pattern 2b and the wiring pattern 2b on the front and back sides is formed. Then, after roughening the wiring pattern 2b (for example, soft etching processing mainly composed of formic acid or amine complexing agent), flexible insulation is provided on the front and back of the intermediate multilayer printed wiring board MP. The adhesive layer 18 and the metal foil 5 are sequentially laminated (see FIG. 11A).
次に、層間接続用のビアホール(THやBVH)を形成する部分に、貫通孔7aや非貫通孔7bをドリル加工、レーザ加工などによって穿孔し、次いで、過マンガン酸ナトリウム系や過マンガン酸カリウム系などのデスミア処理、めっき処理を順次行うことによって、図11(b)の基板を得る。 Next, through-holes 7a and non-through-holes 7b are drilled by drilling, laser processing, or the like in portions where via holes (TH or BVH) for interlayer connection are formed, and then sodium permanganate or potassium permanganate The substrate shown in FIG. 11B is obtained by sequentially performing a desmear process such as a system and a plating process.
次に、図11(c)に示したように、サブトラクティブ法で外層の回路形成を行うことによって、配線パターン2d、TH10a、BVH10bを形成し、次いで、配線パターン2dを保護するソルダーレジスト15を形成する。 Next, as shown in FIG. 11C, by forming the circuit of the outer layer by the subtractive method, the wiring patterns 2d, TH10a, and BVH10b are formed, and then the solder resist 15 that protects the wiring pattern 2d is formed. Form.
次に、第二スリット加工予定部17bに第二スリット加工を行なうことによって、フレキシブル部Fに相当する部分に刳り抜き部12を形成し、次いで、金型による打ち抜き加工やルーター加工などの外形加工を行うことによって、図11(d)に示したリジッドフレックス多層プリント配線板Pを得る。 Next, the second slit processing is performed on the second slit processing scheduled portion 17b to form the punched portion 12 in the portion corresponding to the flexible portion F, and then the outer shape processing such as punching by a die or router processing. To obtain the rigid flex multilayer printed wiring board P shown in FIG.
本実施の形態の注目すべき点は、フレキシブル部Fに形成される配線パターン2bの保護手段として、フレキシブル基板14の外層全面に形成した硬化後においても柔軟性を有する柔軟性絶縁接着剤層18を用いた点にある。 The remarkable point of this embodiment is that the flexible insulating adhesive layer 18 having flexibility even after curing formed on the entire outer layer of the flexible substrate 14 as a protection means for the wiring pattern 2b formed in the flexible portion F. It is in the point using.
これにより、フレキシブル部Fに形成される配線パターン2bを保護する手段として、部分的なカバーレイを設ける手間を省くことができるとともに、外層に形成されたフレキシブル基板14の上層に、更に一層、配線パターン(図11(c)の「配線パターン2d」に相当)を形成することが可能となる。
因みに、本実施の形態では柔軟性絶縁接着剤層18上に配線パターン2dを設ける例を示したが、必ずしも当該配線パターン2dを設ける必要はなく、この場合は、レーザなどで必要な箇所の配線パターン2bを露出させ、ソルダーレジスト的な機能として利用することができる。
Thereby, as a means for protecting the wiring pattern 2b formed in the flexible portion F, it is possible to save the trouble of providing a partial cover lay, and further to the upper layer of the flexible substrate 14 formed in the outer layer. A pattern (corresponding to “wiring pattern 2d” in FIG. 11C) can be formed.
Incidentally, although the example in which the wiring pattern 2d is provided on the flexible insulating adhesive layer 18 is shown in the present embodiment, it is not always necessary to provide the wiring pattern 2d. The pattern 2b can be exposed and used as a solder resist function.
また、本実施の形態では、第三の実施の形態と同様に、スリット残部17cを残した状態のコア基板11bを用いて説明を行なったが、第一の実施の形態と同様に、予め刳り抜き部12bが形成されたコア基板11cを用いることももちろん可能である(図12(a)参照)。 Further, in the present embodiment, as in the third embodiment, the description has been given by using the core substrate 11b in a state where the remaining slit portion 17c is left. Of course, it is also possible to use the core substrate 11c in which the cutout part 12b is formed (see FIG. 12A).
更に、本実施の形態では、外層に形成される配線パターンをフレキシブル部Fにも形成することができる(図12(b)参照)。従って、図示しないグラウンド層に接続されたベタ状の配線パターン2eをフレキシブル部Fに形成し、当該ベタ状の配線パターン2eにニッケルめっき等を析出させれば、フレキシブル部Fの配線パターン2bの上層に、電磁波シールド層22を形成することも可能である(この場合は、シールド層22を保護するために、カバーレイ16等を形成する必要がある)。 Furthermore, in the present embodiment, the wiring pattern formed on the outer layer can also be formed on the flexible portion F (see FIG. 12B). Therefore, if a solid wiring pattern 2e connected to a ground layer (not shown) is formed in the flexible portion F and nickel plating or the like is deposited on the solid wiring pattern 2e, the upper layer of the wiring pattern 2b of the flexible portion F It is also possible to form the electromagnetic wave shielding layer 22 (in this case, it is necessary to form the cover lay 16 or the like in order to protect the shielding layer 22).
次に、図13を用いて第五の実施の形態を説明する。 Next, a fifth embodiment will be described with reference to FIG.
本実施の形態は、第一、第三、第四の実施の形態において、配線パターン2bが外層側にのみ形成されているフレキシブル基板を積層していたのに対し、フレキシブル部Fの内層側にも配線パターン2cが形成されているフレキシブル基板14bを積層した構成となっている。 In the present embodiment, in the first, third, and fourth embodiments, the flexible substrate in which the wiring pattern 2b is formed only on the outer layer side is laminated, but on the inner layer side of the flexible portion F. Also, a flexible substrate 14b on which the wiring pattern 2c is formed is laminated.
従って、第四の実施の形態と同様に、配線パターンを増やしたい場合(本実施の形態ではフレキシブル部Fのみでの増加となる)や、フレキシブル部Fに電磁波シールド層を形成したい場合に容易に対応することができるのであるが、本実施の形態では、フレキシブル部Fの内層側に形成される配線パターン2cには、ビアホールを形成する際のめっき8が形成されない構成となるため、内外層ともビアホール形成用のめっき8が形成される第四の実施の形態と比較して、フレキシブル部Fの屈曲性を向上することができる。 Therefore, similarly to the fourth embodiment, it is easy to increase the wiring pattern (in this embodiment, only the flexible portion F increases) or to form an electromagnetic wave shielding layer on the flexible portion F. In the present embodiment, the wiring pattern 2c formed on the inner layer side of the flexible portion F has a configuration in which the plating 8 for forming the via hole is not formed. Compared with the fourth embodiment in which the plating 8 for forming the via hole is formed, the flexibility of the flexible portion F can be improved.
因みに、図13(a)では、配線パターン2cの保護層として、カバーレイ16を設ける例を示したが、第二の実施の形態に倣って、カバーレイ16とBU絶縁層4aの代わりに、硬化後においても柔軟性を有する柔軟性絶縁接着剤層18を設けたり(図13(b)参照)表裏のBU絶縁層4a、4bを柔軟性絶縁接着剤層18に揃えることも可能である(図13(c)参照)。 Incidentally, FIG. 13A shows an example in which the cover lay 16 is provided as a protective layer of the wiring pattern 2c, but instead of the cover lay 16 and the BU insulating layer 4a according to the second embodiment, It is also possible to provide a flexible insulating adhesive layer 18 having flexibility even after curing (see FIG. 13B) and align the BU insulating layers 4a and 4b on the front and back with the flexible insulating adhesive layer 18 ( (Refer FIG.13 (c)).
尚、本実施の形態のリジッドフレックス多層プリント配線板の製造方法としては、例えば、可撓性ベース基板13の表裏に銅箔などの金属箔が積層されたフレキシブル基板14bを用意し、フレキシブル部Fの内層側に位置する部分にのみ配線パターン2cを形成したものを(必要によりカバーレイも形成する)、図2(b)、図5(c)の工程のフレキシブル基板の積層工程に当てはめれば、容易に本実施の形態のリジッドフレックス多層プリント配線板を得ることができる。 In addition, as a manufacturing method of the rigid flex multilayer printed wiring board of the present embodiment, for example, a flexible substrate 14b in which a metal foil such as a copper foil is laminated on the front and back of the flexible base substrate 13 is prepared, and the flexible portion F If the wiring pattern 2c is formed only on the portion located on the inner layer side (a coverlay is also formed if necessary), it is applied to the flexible substrate laminating step in the steps of FIGS. 2B and 5C. Thus, the rigid flex multilayer printed wiring board of the present embodiment can be easily obtained.
次に、図14、図15を用いて第六の実施の形態を説明する。尚、図14(a)は、図2(a1)と同じ構成なので、それまでの製造工程については説明を省略する。 Next, a sixth embodiment will be described with reference to FIGS. Since FIG. 14A has the same configuration as FIG. 2A1, the description of the manufacturing steps up to that point is omitted.
まず、図2(b)と同様に、座ぐり部12bが加工された図14(a)のコア基板11の第一座ぐり加工がわ面Aに第一ビルドアップ層Cを積層するとともに、当該コア基板11の第二座ぐり加工がわ面Bに第二ビルドアップ層Dを積層する(図14(c)参照)。 First, as in FIG. 2 (b), the first counterbore processing of the core substrate 11 of FIG. 14 (a) in which the counterbore portion 12b is processed is laminated with the first buildup layer C on the side A, A second buildup layer D is laminated on the second counterbore surface B of the core substrate 11 (see FIG. 14C).
次に、層間接続用のビアホール(THやBVH)を形成する部分に、貫通孔7aや非貫通孔7bをドリル加工、レーザ加工などによって穿孔し、次いで、過マンガン酸ナトリウム系や過マンガン酸カリウム系などのデスミア処理、めっき処理を順次行うことによって、図14(d)の基板を得る。 Next, through-holes 7a and non-through-holes 7b are drilled by drilling, laser processing, or the like in portions where via holes (TH or BVH) for interlayer connection are formed, and then sodium permanganate or potassium permanganate The substrate shown in FIG. 14D is obtained by sequentially performing a desmear process such as a system and a plating process.
次に、図15(a)に示したように、サブトラクティブ法で外層の回路形成を行うことによって、配線パターン2b、TH10a、BVH10bを形成し、次いで、配線パターン2bを保護するソルダーレジスト15を形成する(図15(b)参照)。 Next, as shown in FIG. 15A, by forming the circuit of the outer layer by the subtractive method, the wiring patterns 2b, TH10a, and BVH10b are formed, and then the solder resist 15 that protects the wiring pattern 2b is formed. It forms (refer FIG.15 (b)).
次に、第二座ぐり加工で残りの第二座ぐり予定部12cを除去することによって、フレキシブル部Fに刳り抜き部12を形成し、次いで、金型による打ち抜き加工やルーター加工などの外形加工を行うことによって、図15(c)に示したリジッドフレックス多層プリント配線板Pを得る。 Next, the remaining second counterbore planned portion 12c is removed by the second counterbore processing to form the punched portion 12 in the flexible portion F, and then the outer shape processing such as punching by a die or router processing. To obtain the rigid flex multilayer printed wiring board P shown in FIG.
本実施の形態の注目すべき点は、フレキシブル部Fに形成される配線パターン(図15(c)の配線パターン2cに相当)を、内層側(即ち、図14(a)の第一座ぐり加工がわ面Aと向き合う側)にのみ形成するようにした点にある。 What should be noted in the present embodiment is that the wiring pattern (corresponding to the wiring pattern 2c in FIG. 15C) formed in the flexible portion F is set to the inner layer side (that is, the first spot facing in FIG. 14A). The processing is formed only on the side facing the flange surface A).
これにより、フレキシブル部Fの配線パターン2cには、ビアホールを形成する際のめっき8が析出されず、当該フレキシブル部Fの配線パターン厚が厚くならないため、第一〜第五の実施の形態と比較して、当該フレキシブル部Fの屈曲性を向上することができる。 Thereby, since the plating 8 at the time of forming the via hole is not deposited on the wiring pattern 2c of the flexible part F, and the wiring pattern thickness of the flexible part F does not increase, it is compared with the first to fifth embodiments. And the flexibility of the said flexible part F can be improved.
また、本実施の形態では、予め刳り抜き部12bが形成されたコア基板11を用いて説明をしたが、第三の実施の形態と同様に、スリット残部17c(或いはダミーパターン21も含む)を残した状態でフレキシブル基板14bを積層することももちろん可能である(図16(a)参照)。この場合も、フレキシブル部Fの外層側に形成される配線パターンを良好に形成できるなどの効果が得られる。 Further, in the present embodiment, the description has been given using the core substrate 11 on which the hollow portion 12b is formed in advance, but the slit remaining portion 17c (or the dummy pattern 21 is also included) as in the third embodiment. Of course, it is also possible to laminate the flexible substrate 14b in the state of remaining (see FIG. 16A). Also in this case, the effect that the wiring pattern formed on the outer layer side of the flexible part F can be satisfactorily formed is obtained.
更に、第二の実施の形態と同様に、BU絶縁層4aの代わりに硬化後においても柔軟性を有する柔軟性絶縁接着層18を介してフレキシブル基板14bを積層すれば、フレキシブル部Fに形成される配線パターン2cを保護する部分的なカバーレイ16の形成工程を省くことができ、更にまた、反対面側(即ち、図14(a)の第二座ぐり加工がわ面Bと向き合う側)の絶縁層も柔軟性絶縁接着剤層18とすれば、反りや捩れを更に抑制することができる(図16(b)参照)。 Further, as in the second embodiment, if the flexible substrate 14b is laminated through the flexible insulating adhesive layer 18 having flexibility even after curing instead of the BU insulating layer 4a, the flexible portion F is formed. The step of forming the partial coverlay 16 that protects the wiring pattern 2c to be protected can be omitted, and the opposite surface side (that is, the side facing the counterbore surface B in FIG. 14A). If the insulating layer is also a flexible insulating adhesive layer 18, warping and twisting can be further suppressed (see FIG. 16B).
本発明を説明するに当たって、6層のリジッドフレックス多層プリント配線板を用いて説明をしたが、構成としてはこの限りでなく、本発明の許す範囲で変更することはもちろん可能である。 In describing the present invention, a six-layer rigid-flex multilayer printed wiring board has been described. However, the configuration is not limited to this, and it is of course possible to change within the scope allowed by the present invention.
例えば、第一ビルドアップ層が、本発明の実施の形態よりも多い層数であっても、最外層にBU絶縁層4aとフレキシブル基板14を積層する前の段階で、第一座ぐり加工及び第一スリット加工を行えば、本発明の実施の形態で示したのと同様のリジッドフレックス多層プリント配線板を容易に得ることがきる。 For example, even if the first buildup layer has a larger number of layers than in the embodiment of the present invention, the first counterbore processing and the step are performed before the BU insulating layer 4a and the flexible substrate 14 are laminated on the outermost layer. If the first slit processing is performed, a rigid-flex multilayer printed wiring board similar to that shown in the embodiment of the present invention can be easily obtained.
1:絶縁基板
2、2a、2b、2c、2d:配線パターン
2e:ベタの配線パターン
3:両面プリント配線板
4:層間絶縁層
4a、4b、4c:BU(ビルドアップ)絶縁層
5:金属箔
6、6a:樹脂付き金属箔
7、7a:貫通孔
7b:非貫通孔
8:めっき
9:孔埋め樹脂
10:ベリードホール
10a:TH(スルーホール)
10b:BVH(ブラインドバイアホール)
11、11a、11b:コア基板
12、12d:刳り抜き部
12a:第一座ぐり予定部
12b:座ぐり部
12c:第二座ぐり予定部
13:可撓性ベース基板
14、14a、14b:フレキシブル基板
15:ソルダーレジスト
15a:SR(ソルダーレジスト)抜き部
15b柔軟性SR(ソルダーレジスト)
16:カバーレイ
17:スリット部
17a:第一スリット加工予定部
17b:第二スリット加工予定部
17c:スリット残部
18:柔軟性絶縁接着剤層
19:凹み部
20:樹脂補強部
21:ダミーパターン
P、Pa、Pb:リジッドフレックス多層プリント配線板
MP:中間多層プリント配線板
R:リジッド部
F:フレキシブル部
A:第一座ぐり加工がわ面
B:第二座ぐり加工がわ面
A1:第一スリット加工がわ面
B1:第二スリット加工がわ面
C:第一ビルドアップ層
D:第二ビルドアップ層
L:フレキシブル部の長さ
LL:凹み部の長さ
1: Insulating substrate 2, 2a, 2b, 2c, 2d: Wiring pattern 2e: Solid wiring pattern 3: Double-sided printed wiring board 4: Interlayer insulating layers 4a, 4b, 4c: BU (build-up) insulating layer 5: Metal foil 6, 6a: Metal foil 7 with resin, 7a: Through hole 7b: Non-through hole 8: Plating 9: Filling resin 10: Belle hole 10a: TH (through hole)
10b: BVH (blind via hole)
11, 11a, 11b: Core substrate 12, 12d: Bored portion 12a: First counterbore planned portion 12b: Counterbore portion 12c: Second counterbore planned portion 13: Flexible base substrates 14, 14a, 14b: Flexible Substrate 15: Solder resist 15a: SR (solder resist) extraction part 15b Flexible SR (solder resist)
16: Coverlay 17: Slit portion 17a: First slit processing scheduled portion 17b: Second slit processing planned portion 17c: Slit remaining portion 18: Flexible insulating adhesive layer 19: Recessed portion 20: Resin reinforcing portion 21: Dummy pattern P , Pa, Pb: Rigid flex multilayer printed wiring board MP: Intermediate multilayer printed wiring board R: Rigid part F: Flexible part A: First counterbore side B: Second counterbore side A1: first Slit processing side B1: Second slit processing side C: First buildup layer D: Second buildup layer L: Length of flexible portion LL: Length of recess
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