JP2009279473A - タール分解システムの立ち下げ方法およびタール分解システム - Google Patents
タール分解システムの立ち下げ方法およびタール分解システム Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】ガス化ガス中に含まれるタール分を分解する触媒層を備えた反応器2aを有するタール分解システム2の立ち下げ方法であって、触媒層を不活性ガス雰囲気の状態で当該触媒層を冷却し、当該触媒を酸化処理して立ち下げることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
前記触媒層を不活性ガス雰囲気の状態で当該触媒層を冷却し、当該触媒を酸化処理して立ち下げることを特徴とする。
ガス化ガス中に含まれるタール分を分解する触媒層を備えた反応器を有するタール分解システムであって、
前記触媒層に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
前記触媒層に当該触媒を酸化するための触媒酸化処理用ガスを供給する触媒酸化用ガス供給手段と、
前記触媒層の温度を測定する温度測定手段と、
前記触媒酸化用ガス供給手段によって供給される触媒酸化用ガスの酸素濃度を測定する酸素濃度測定手段と、
タール分解システムの立ち下げに際し、前記不活性ガス供給手段による不活性ガスの供給によって、前記触媒層を不活性ガス雰囲気とし、前記温度測定手段で測定された温度を700℃以下になるように温度制御し、次いで、前記触媒酸化用ガス供給手段によって触媒酸化用ガスを供給制御して、触媒を酸化処理する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記触媒の酸化処理に際し、当該触媒酸化用ガスの酸素濃度を前記酸素濃度測定手段で測定し1%以下になるように制御すると共に、前記温度測定手段で測定された温度を800℃を越えないように温度制御することを特徴とする。
図2の実施形態のタール分解システム2の立ち下り方法は、不活性ガスとして窒素ガスを利用する構成である。
上記図2のシステムにおいて、酸素濃度の設定値を変動させた場合のニッケル系金属触媒の温度変化について評価した。冷却した窒素ガスを触媒層に流入して、その温度を600℃とした後、以下の条件で高濃度酸素ガスを流入した。循環ガスの酸素濃度を、循環ガスに対し0.8%(条件1)、1%(条件2)、1.2%(条件3)、2%(条件4)、3.5%(条件5)に変動させた場合の触媒の温度変化について評価したところ、条件1および2においては、触媒の温度変動を700℃以内に抑えつつ触媒の酸化処理を実行できた。一方、条件3、4、5の場合には、酸素濃度が高い条件ほど触媒の温度上昇が急激に起こり、触媒温度を800℃未満に制御することができなかった。
ガス化ガス中に晒して還元状態にあるニッケル触媒を窒素ガスでパージし、酸素濃度1%の条件で酸化処理した後の触媒活性K/K0(酸化処理後の総括反応速度比(K)と使用前触媒の総括反応速度(K0)の比)について評価した。窒素ガスの水分濃度と酸化処理温度を変えた場合について評価した。その結果、水分濃度0%の条件では、酸化処理中の触媒の温度が500℃以上700℃以下の温度範囲において、触媒活性K/K0は、0.9程度でありほとんど変化はなかった。水分濃度5%の条件では、酸化処理中の触媒の温度が500℃以上700℃以下の温度範囲において、触媒活性K/K0は、それぞれ0.85から0.75程度に減少した。また、水分濃度20%の条件では、酸化処理中の触媒の温度が500℃以上700℃以下の温度範囲において、触媒活性K/K0は、それぞれ0.75から0.6程度に減少した。以上の結果から、酸化処理温度が高く、パージする不活性ガス中の水分濃度が高いほど触媒活性が低下する傾向が見られた。これは高温域での熱的劣化と水蒸気によるシンタリング促進が原因であると考えられる。
(1)上記実施形態において、ガス化設備としては、ガス化溶融炉や炭化・乾留設備などであってもよく、特に限定されない。
(2)上記実施形態において、図1,2では温度測定器21を触媒層のガス流れ方向に対しほぼ中間位置に設けた例を示して説明したが、これに代えて温度測定器21を、触媒層の出口側に設けてもよい。もっとも、触媒層の中だけでなく触媒層の出口側にも温度測定器21を設けると、ガス化ガス中に含まれるエタンやエチレンなどの炭化水素ガスが触媒により吸熱反応で分解されて触媒温度の低下が生じた際に、触媒温度を高める処置をすることができて好ましい。
(3)本発明に適用できるガス化ガスとしては、各種有機系廃棄物の他、各種固形燃料、産業廃棄物などを燃焼して生成されたガス化ガスなどが挙げられる。
2 タール分解システム
2a 反応器
3 ガス利用設備
20 制御装置
21 温度測定器
22 酸素濃度測定器
23 バルブ
31、32、33 弁
40 ガス冷却設備
50 押込みファン
P 循環パスライン
Claims (8)
- ガス化ガス中に含まれるタール分を分解する触媒層を備えた反応器を有するタール分解システムの立ち下げ方法であって、
前記触媒層を不活性ガス雰囲気の状態で当該触媒層を冷却し、当該触媒を酸化処理して立ち下げることを特徴とするタール分解システムの立ち下げ方法。 - 前記反応器の触媒層に供給される不活性ガスは、不活性ガスを冷却する冷却手段を介して前記反応器に循環されることを特徴とする請求項1に記載のタール分解システムの立ち下げ方法。
- 前記触媒層を不活性ガス雰囲気の状態で当該触媒層を、700℃以下に冷却することを特徴とする請求項1または2に記載のタール分解システムの立ち下げ方法。
- 前記触媒の酸化処理として、酸素濃度が1%以下の触媒酸化用ガスを用いて当該触媒の酸化処理を行うことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のタール分解システムの立ち下げ方法。
- 前記触媒の酸化処理に際し、前記触媒層の温度が800℃を超えないように酸化処理することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のタール分解システムの立ち下げ方法。
- 前記不活性ガスの水分濃度を5%以下にすることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のタール分解システムの立ち下げ方法。
- ガス化ガス中に含まれるタール分を分解する触媒層を備えた反応器を有するタール分解システムであって、
前記触媒層に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
前記触媒層に当該触媒を酸化するための触媒酸化処理用ガスを供給する触媒酸化用ガス供給手段と、
前記触媒層の温度を測定する温度測定手段と、
前記触媒酸化用ガス供給手段によって供給される触媒酸化用ガスの酸素濃度を測定する酸素濃度測定手段と、
タール分解システムの立ち下げに際し、前記不活性ガス供給手段による不活性ガスの供給によって、前記触媒層を不活性ガス雰囲気とし、前記温度測定手段で測定された温度を700℃以下になるように温度制御し、次いで、前記触媒酸化用ガス供給手段によって触媒酸化用ガスを供給制御して、触媒を酸化処理する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記触媒の酸化処理に際し、当該触媒酸化用ガスの酸素濃度を前記酸素濃度測定手段で測定し1%以下になるように制御すると共に、前記温度測定手段で測定された温度を800℃を越えないように温度制御することを特徴とするタール分解システム。 - 前記反応器の触媒層に供給される不活性ガスは、不活性ガスを冷却する冷却手段を介して前記反応器に循環されることを特徴とする請求項7に記載のタール分解システム。
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