JP2009278035A - エピタキシャルウエーハの製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims abstract description 47
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 15
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 35
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 31
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 27
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 25
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 claims description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 15
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 123
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 235000012771 pancakes Nutrition 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】被処理ウエーハ上に原料ガスおよびキャリアガスを供給してエピタキシャル層を気相成長させることによりエピタキシャルウエーハを製造する方法において、
前記供給するキャリアガスの流量を制御することにより、前記被処理ウエーハの周辺部に形成されるエピタキシャル層の厚さを制御するエピタキシャルウエーハの製造方法。
【選択図】図2
Description
しかしながら、ウエーハの外縁(エッジ)に近い最外周付近における膜厚均一性についてはあまり着目されてなかった。
例えば、図4に示したようにウエーハの周辺部における表面変位量の2階微分の分布を算出し、表面変位量の2階微分が負の値になる位置(ロールオフ開始点)から、ウエーハの中心から149mm、すなわち外縁より1mm内側の位置までの表面変位量(図5のA)をロールオフとして評価する。この場合、ロールオフ開始点の高さを0とし、外縁1mm内側までダレた形状であれば、その変位量(ロールオフ)は−の値となり、逆に跳ね上げた形状であれば+の値となる。そしてロールオフの絶対値が小さいほど最外周付近でも平坦度が高いと評価することができる。また、変位量(ロールオフ)の大きさをROA(Roll Off Amount)という。
しかし、このような方法では、エピタキシャル成長後の縮径面取りや溶断によって発塵やワレが生じるおそれがあるほか、エピタキシャル成長後、ウエーハを縮径あるいは溶断する分、ウエーハが小さくなり、実質的に生産性や歩留りが著しく低下してしまうという問題がある。
このZDDは、ウエーハ半径に対するウエーハの表面変位量の2階微分を意味する。ZDDが+の値の場合は、加速度的に跳ね方向に表面が変位していることを指し、反対に−の値の場合は、加速度的にダレ方向に表面が変位していることを指す。
外縁に向かってダレている場合、ロールオフを上記のような範囲における表面変位量として制御すれば、エピタキシャル層の外周形状をより確実に制御することができ、所望の値のロールオフを有するエピタキシャルウエーハを製造することができる。
外縁に向かってダレている場合、ZDDを上記のようなものとして制御すれば、エピタキシャル層の外周形状をより確実に制御することができ、所望の値のZDDを有するエピタキシャルウエーハを製造することができる。
このように原料ガスをトリクロロシランとし、キャリアガスを水素とすれば、被処理ウエーハ上に高品質のシリコン単結晶層を積層することができる。
本発明は、特に近年要求される300mm以上の大直径のシリコン単結晶ウエーハに対して有効である。エピタキシャル成長後、縮径加工等を行う必要がないため、300mm以上の大直径であって、ロールオフが所望の値のエピタキシャルウエーハを提供することができる。
本発明者は、シリコン単結晶ウエーハを用いてエピタキシャルウエーハを製造する場合において、エピタキシャル成長条件とエピタキシャル層の外周形状について調査及び研究を重ねた。その結果、エピタキシャル層を気相成長させるときに供給するキャリアガスの流量と、ロールオフまたはZDD(周辺部のエピタキシャル層の厚さ)との間に良好な相関関係があることを見出した。
この相関関係を求めるにあたって、まず、被処理ウエーハとして用意した直径300mmのシリコン単結晶ウエーハの周辺部の表面の変位量を測定した。この測定にはDynasearch(Raytex社製)を用いた。
そして、上記のようなエピタキシャル成長装置を用い、原料ガスをトリクロロシラン、キャリアガスを水素ガスとし、この水素ガスを、異なる流量で、用意したシリコン単結晶ウエーハ上にそれぞれシリコン単結晶層を気相成長させた。キャリアガスの流量は、35slm、40slm、45slm、48slm、55slm、60slmの6パターンとした。このとき使用したエピタキシャル成長装置をCH−Aとする。
エピタキシャル成長後、エピタキシャルウエーハの周辺部の表面の変位量を測定した。
図2のCH−Aのデータが、このときのキャリアガス(水素ガス)の各流量に対するΔROAである。
また図2に示すように、使用するエピタキシャル成長装置によって上記のキャリアガスおよびΔROAとの相関関係には差が見られるので、使用するエピタキシャル成長装置ごとに相関関係を予め調べておく。
このときキャリアガスの流量をどのような値に制御するかは、目標とするエピタキシャル層の成長後におけるロールオフの値に応じてその都度決定することができる。
まず、製品となる被処理ウエーハ(直径300mmのシリコンウエーハ)を用意し、その周辺部の表面の変位量を測定してロールオフを求める。
この求めたロールオフと、目標とするエピタキシャル層の成長後のロールオフとを比べ、ウエーハ周辺部の形状変化の方向(エピタキシャル成長によって跳ね上げるのか、ダレさせるのか)と必要な変化量(すなわち、ΔROA)を見積もる。
この見積もりのようにエピタキシャル層を成長させるために、予め求めておいた図2のような相関関係に基づいて、キャリアガスである水素ガスの必要な流量を決定する。
そして、実際に、エピタキシャル成長時に水素ガスを決定された流量で制御することで、ウエーハ周辺部において成長するエピタキシャル層の厚さを制御し、エピタキシャル層成長後のロールオフを制御する。
(実施例1)
直径300mmのシリコン単結晶ウエーハを用意し、平坦度・ナノトポグラフィー測定装置としてDynasearch(Raytex社製)を用いてウエーハ周辺部における表面の高さ変位量(図5のA)を測定し、ロールオフを求めた。
エピタキシャル成長装置を用い、原料ガスをトリクロロシラン、キャリアガスを水素ガスとして、このウエーハにエピタキシャル成長を行った。
そして、エピタキシャル成長後、エピタキシャルウエーハの周辺部の表面の変位量を測定した。
これを、35slm、40slm、45slm、48slm、55slm、60slmの水素ガスの流量でそれぞれ実施し、使用したエピタキシャル成長装置における、水素ガスの流量とエピタキシャル層の成長前後におけるロールオフの差との相関関係を求めた。
この結果、図2のCH−Aと同様の相関関係が得られた。
そして、ウエーハ周辺部における表面の高さ変位量のデータから、ロールオフ開始点からウエーハの外縁から1mm内側までのロールオフの量を求めたところ、外縁に向かってダレており273nmであった。
実施例1とは逆に、ロールオフの量を大きくして、エピタキシャル成長後のロールオフを320nm(ダレ)とすることを目標(ロールオフの変化量は負の方向に約50nmで絶対値が大きくなる)とし、図2のCH−Aの相関関係に基づいて、水素ガスの流量を、ΔROAが−50nm程度となる40nmに設定してエピタキシャル成長を行った。
直径300mmのシリコン単結晶ウエーハを用意して、WaferSight(KLA−Tencor社製)を用いてウエーハ周辺部(ウエーハの中心から148mm)における表面変位量の2階微分(ZDD)を求めた。
エピタキシャル成長装置を用い、原料ガスをトリクロロシラン、キャリアガスを水素ガスとして、このウエーハにエピタキシャル成長を行った。
そして、エピタキシャル成長後に、成長前と同様に、エピタキシャルウエーハの周辺部(ウエーハ中心から148mm)におけるZDDを求めた。ZDDが正の側は、エピタキシャル成長によってウエーハ周辺部の形状が跳ねあがったことを示しており、逆に、負の側は、エピタキシャル成長によってウエーハ周辺部の形状がダレたことを示している。
これを、35slm、40slm、50slm、60slm、72slm、80slmの水素ガスの流量でそれぞれ実施し、使用したエピタキシャル成長装置における、水素ガスの流量とエピタキシャル層の成長前後におけるZDDの差との相関関係を求めた。
この結果、図3に示す相関関係が得られた。
特には、使用するエピタキシャル成長装置ごとに、予め、キャリアガスの流量と、エピタキシャル層の成長前後のロールオフまたはZDDの差との相関関係を求めておき、この相関関係に基づいてキャリアガスの流量を設定することにより、所望の値のロールオフまたはZDDを有するエピタキシャルウエーハを得ることができる。
すなわち、本発明によって、エピタキシャルウエーハのロールオフやZDDの品質を安定化させることができる。
また、被処理ウエーハの大きさも300mmのものに限定されず、ウエーハの大きさは要求に応じて適宜選択すれば良い。
さらには、キャリアガスや原料ガスも、当然、目的に合わせて適宜適切なものを選択できる。
Claims (6)
- 被処理ウエーハ上に原料ガスおよびキャリアガスを供給してエピタキシャル層を気相成長させることによりエピタキシャルウエーハを製造する方法において、
前記供給するキャリアガスの流量を制御することにより、前記被処理ウエーハの周辺部に形成されるエピタキシャル層の厚さを制御することを特徴とするエピタキシャルウエーハの製造方法。 - 被処理ウエーハ上に原料ガスおよびキャリアガスを供給してエピタキシャル層を気相成長させることによりエピタキシャルウエーハを製造する方法において、
前記供給するキャリアガスの流量と、前記エピタキシャル層の成長前後におけるロールオフまたはZDDの差との相関関係を予め求め、
該相関関係に基づいて、製品となる被処理ウエーハ上にエピタキシャル層を成長させるときに供給するキャリアガスの流量を制御することにより、該エピタキシャル層の成長後におけるロールオフまたはZDDを制御することを特徴とするエピタキシャルウエーハの製造方法。 - 前記ロールオフを、前記被処理ウエーハ又はエピタキシャルウエーハの表面変位量の2階微分が負の値になる位置から該被処理ウエーハ又はエピタキシャルウエーハの外縁より1mm内側の位置までの表面変位量とすることを特徴とする請求項2に記載のエピタキシャルウエーハの製造方法。
- 前記ZDDを、前記被処理ウエーハ又はエピタキシャルウエーハのウエーハ半径に対する表面変位量の2階微分とすることを特徴とする請求項2に記載のエピタキシャルウエーハの製造方法。
- 前記原料ガスをトリクロロシランとし、前記キャリアガスを水素とすることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のエピタキシャルウエーハの製造方法。
- 前記被処理ウエーハとして、直径が300mm以上のシリコン単結晶ウエーハを用いることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか一項に記載のエピタキシャルウエーハの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008130519A JP5151674B2 (ja) | 2008-05-19 | 2008-05-19 | エピタキシャルウエーハの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008130519A JP5151674B2 (ja) | 2008-05-19 | 2008-05-19 | エピタキシャルウエーハの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009278035A true JP2009278035A (ja) | 2009-11-26 |
JP5151674B2 JP5151674B2 (ja) | 2013-02-27 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008130519A Active JP5151674B2 (ja) | 2008-05-19 | 2008-05-19 | エピタキシャルウエーハの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5151674B2 (ja) |
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