JP2009276313A - 基板表裏面パターン位置測定方法及びその方法を用いた測定装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、フォトマスク基板1の表面に形成されたパターンと、該フォトマスク基板1の裏面に形成されたパターンとの位置ずれを測定するフォトマスク基板1表裏面パターン位置測定方法において、回転可能な測定用ステージ10上で、該測定用ステージ10の180°回転前後の2回の測定により該フォトマスク基板1の表面のパターンと裏面のパターンの位置ずれ量を求める位置ずれ量測定ステップと、該フォトマスク基板1の法線と該測定用ステージ10の回転軸との角度差を求める角度差測定ステップと、前記位置ずれ量と前記角度差とから真の位置ずれ量を算出する真値位置ずれ量算出ステップと、からなることを特徴とするフォトマスク基板1表裏面パターン位置測定方法である。
【選択図】図1
Description
b0)とする。座標の添え字中、tはtopの略であり、bはbottomの略であり、0は0°の略である。
ΔXt=Xt0−Xt180=2・Xtr (1)
ΔYt=Yt0−Yt180=2・Ytr (2)
また、下面側対物レンズ3による点Qの観測において、測定用ステージ10を回転する前後のx軸方向の位置ずれをΔXb、y方向の位置ずれをΔYb、回転軸を原点とした時の位置を(Xbr,Ybr)とすると、次の(3)、(4)式が成立する。
ΔXb=Xb0−Xt180=2・Xbr (3)
ΔYb=Yb0−Yb180=2・Ybr (4)
この操作をする事により図15に示すように、表裏同一の回転中心からの位置ずれ量に置き換える事ができる。
ΔX=Xbr−Xtr (5)
ΔY=Ybr−Ytr (6)
本測定原理においては、(Xt0,Yt0)および(Xb0,Yb0)を厳密に測定する代わりに、(1)〜(4)の式を用いて、点Pと点Qの位置ずれ量を、ΔXt、ΔYt、ΔXb、ΔYbの測定結果を用いて次の(7)、(8)式のように計算する。
(点Pと点Qの位置ずれ量)
ΔX=Xbr−Xtr=(ΔXb−ΔXt)/2 (7)
ΔY=Ybr−Ytr=(ΔYb−ΔYt)/2 (8)
すなわち、本測定方法によれば、測定用ステージ10を回転する前後のx軸方向の位置ずれ量、y軸方向の位置ずれ量を用いることにより、光軸等の位置あわせ、精度あわせを不要として、フォトマスク基板1の両面の各ポイント間の位置ずれ量を測定することが可能となる。
10上のフォトマスク基板1の法線が測定用ステージ10回転軸(線O―O’)からずれた場合を示す図である。なお、図14において、図11における参照符号と同一の参照符号が付されているものは、図11と同一の構成であるので説明については省略する。
dX=(ΔXb−ΔXt)/2+Ttanθx
dY=(ΔYb−ΔYt)/2+Ttanθy
により算出するステップと、からなることを特徴とする。
トマスク基板1を載置したまま線O―O’を中心として回転可能に構成されている。また、図中、線T―T’は、上面側対物レンズ2の光軸、線B―B’は下面側対物レンズ3の光軸をそれぞれ示している。
図9は、フォトマスク基板1の表面を上面側対物レンズ2で、裏面を下面側対物レンズ3で観測した様子を示す図である。図9(A)は上面側対物レンズ2で点Pを測定してい
る様子であり、図9(B)は下面側対物レンズ3で点Qを測定している様子であり、上記のようにフォトマスク基板1に(θx,θy)の角度ずれが生じた場合の点Pおよび点Qの測定は図9に示すとおりである。
(dX,dY) (9)
上面側対物レンズ2による点Pの観測において、測定用ステージ10を回転する前後のx軸方向の位置ずれをΔXt、y方向の位置ずれをΔYt、回転軸を原点とした時の位置を(Xtr,Ytr)とすると、次の(1)、(2)式が成立する。
ΔXt=Xt0−Xt180=2・Xtr (1)
ΔYt=Yt0−Yt180=2・Ytr (2)
また、下面側対物レンズ3による点Qの観測において、測定用ステージ10を回転する前後のx軸方向の位置ずれをΔXb、y方向の位置ずれをΔYb、回転軸を原点とした時の位置を(Xbr,Ybr)とすると、次の(3)、(4)式が成立する。
ΔXb=Xb0−Xt180=2・Xbr (3)
ΔYb=Yb0−Yb180=2・Ybr (4)
この操作をする事により図15に示すように、表裏同一の回転中心からの位置ずれ量に置き換える事ができる。
ΔX=Xbr−Xtr (5)
ΔY=Ybr−Ytr (6)
本測定原理においては、(Xt0,Yt0)および(Xb0,Yb0)を厳密に測定する代わりに、(1)〜(4)の式を用いて、点Pと点Qの位置ずれ量を、ΔXt、ΔYt、ΔXb、ΔYbの測定結果を用いて次の(7)、(8)式のように計算する。
(点Pと点Qの位置ずれ量)
ΔX=Xbr−Xtr=(ΔXb−ΔXt)/2 (7)
ΔY=Ybr−Ytr=(ΔYb−ΔYt)/2 (8)
また、フォトマスク基板1の角度ずれを(θx,θy)とすると、角度ずれによって生じるx軸、y軸方向へのシフト量は(α,β)となる。この(α,β)は次式(10)によって求めることができる。
(α,β)=(Ttanθx,Ttanθy) (10)
このx軸、y軸方向へのシフト量を(5)、(6)式に加味することによって、点Pと点Qの位置ずれ量の真値である(dX,dY)を、次式(11)、(12)によって求めることできる。
dX=ΔX+α=Xbr−Xtr+Ttanθx=(ΔXb−ΔXt)/2+Ttanθx (11)
dY=ΔY+β=Ybr−Ytr+Ttanθy=(ΔYb−ΔYt)/2+Ttanθy (12)
このような本発明の実施の形態に係る基板表裏面パターン位置測定方法によれば、フォトマスク基板の法線が、測定用ステージの回転軸(線O―O’)に対してずれているような場合においても、精度よくフォトマスク基板の表面および裏面のマークやパターン等の位置ずれの真値である(dX,dY)を測定することができる。
Claims (3)
- 基板の表面に形成されたパターンと、該基板の裏面に形成されたパターンとの位置ずれを測定する基板表裏面パターン位置測定方法において、
回転可能なステージ上で、該ステージの180°回転前後の2回の測定により該基板の表面のパターンと裏面のパターンの位置ずれ量を求める位置ずれ量測定ステップと、
該基板の法線と該ステージの回転軸との角度差を求める角度差測定ステップと、
前記位置ずれ量と前記角度差とから真の位置ずれ量を算出する真値位置ずれ量算出ステップと、からなることを特徴とする基板表裏面パターン位置測定方法。 - 厚さTの基板の表面に形成された表面パターンと、該基板の裏面に形成された裏面パターンとの位置ずれを測定する基板表裏面パターン位置測定方法において、
回転可能なステージ上で、該ステージの180°回転前後の表面パターンのx軸方向の位置ずれΔXt、y方向の位置ずれΔYtを測定するステップと、
回転可能なステージ上で、該ステージの180°回転前後の裏面パターンのx軸方向の位置ずれΔXb、y方向の位置ずれΔYbを測定するステップと、
該基板の法線と該ステージの回転軸との角度差(θx,θy)を測定するステップと、
真の位置ずれ量(dX,dY)を
dX=(ΔXb−ΔXt)/2+Ttanθx
dY=(ΔYb−ΔYt)/2+Ttanθy
により算出するステップと、からなることを特徴とする基板表裏面パターン位置測定方法。 - 請求項1又は請求項2に記載の基板表裏面パターン位置測定方法を用いた測定装置。
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US9464884B2 (en) | 2010-10-26 | 2016-10-11 | Ev Group E. Thallner Gmbh | Method for determining the position of a rotation axis |
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