JP2009271253A - 液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - Google Patents
液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009271253A JP2009271253A JP2008120530A JP2008120530A JP2009271253A JP 2009271253 A JP2009271253 A JP 2009271253A JP 2008120530 A JP2008120530 A JP 2008120530A JP 2008120530 A JP2008120530 A JP 2008120530A JP 2009271253 A JP2009271253 A JP 2009271253A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- resin
- acid
- resist composition
- immersion exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 0 CCC(C)(*)C(OC1(C)CCCC1)=O Chemical compound CCC(C)(*)C(OC1(C)CCCC1)=O 0.000 description 32
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N c1ccccc1 Chemical compound c1ccccc1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDARFTNEVVIQJR-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C(C1)C2)C1(C[S](C)(O)(=O)=O)C2=O Chemical compound CC(C)(C(C1)C2)C1(C[S](C)(O)(=O)=O)C2=O BDARFTNEVVIQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCVNMVPFJFEZRZ-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)OC(C#N)=O Chemical compound CC(C)(C)OC(C#N)=O QCVNMVPFJFEZRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQUXMLKOKHJNFT-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C1CCCCC1)SI Chemical compound CC(C)(C1CCCCC1)SI AQUXMLKOKHJNFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCRGZZFRXWWEOH-UHFFFAOYSA-N CC(CC(C)(C)C)CF Chemical compound CC(CC(C)(C)C)CF JCRGZZFRXWWEOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N CC1CCCCC1 Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVRHDZIWUUIBJU-UHFFFAOYSA-N CCC(C)(C)C(CC1)=C=CC1I Chemical compound CCC(C)(C)C(CC1)=C=CC1I BVRHDZIWUUIBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUJMOYDUXDYPQX-UHFFFAOYSA-N CCCC1(CCCCC1)S(C1CCCCC1)(C(CC1)CCC1C1CCCCC1)I Chemical compound CCCC1(CCCCC1)S(C1CCCCC1)(C(CC1)CCC1C1CCCCC1)I DUJMOYDUXDYPQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJBYDJXQQBITMA-UHFFFAOYSA-N CS(C1CCCCC1)C1CC=CCC1 Chemical compound CS(C1CCCCC1)C1CC=CCC1 FJBYDJXQQBITMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N Sc1ccccc1 Chemical compound Sc1ccccc1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008120530A JP2009271253A (ja) | 2008-05-02 | 2008-05-02 | 液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008120530A JP2009271253A (ja) | 2008-05-02 | 2008-05-02 | 液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009271253A true JP2009271253A (ja) | 2009-11-19 |
| JP2009271253A5 JP2009271253A5 (enExample) | 2011-04-21 |
Family
ID=41437867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008120530A Pending JP2009271253A (ja) | 2008-05-02 | 2008-05-02 | 液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2009271253A (enExample) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011168691A (ja) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Jsr Corp | 重合体の製造方法 |
| WO2011115217A1 (ja) * | 2010-03-17 | 2011-09-22 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 |
| KR20220077877A (ko) | 2020-12-02 | 2022-06-09 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006098733A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| JP2006227608A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| JP2007017889A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Fujifilm Corp | レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 |
| JP2007093909A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Fujifilm Corp | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| JP2007140188A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Fujifilm Corp | ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| JP2007272194A (ja) * | 2006-01-24 | 2007-10-18 | Fujifilm Corp | ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
-
2008
- 2008-05-02 JP JP2008120530A patent/JP2009271253A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006098733A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| JP2006227608A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| JP2007017889A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Fujifilm Corp | レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 |
| JP2007093909A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Fujifilm Corp | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| JP2007140188A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Fujifilm Corp | ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| JP2007272194A (ja) * | 2006-01-24 | 2007-10-18 | Fujifilm Corp | ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011168691A (ja) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Jsr Corp | 重合体の製造方法 |
| WO2011115217A1 (ja) * | 2010-03-17 | 2011-09-22 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 |
| JP2015111294A (ja) * | 2010-03-17 | 2015-06-18 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 |
| JP5761175B2 (ja) * | 2010-03-17 | 2015-08-12 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 |
| KR20220077877A (ko) | 2020-12-02 | 2022-06-09 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5186255B2 (ja) | レジスト表面疎水化用樹脂、その製造方法及び該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物 | |
| JP5449675B2 (ja) | 感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物 | |
| JP5401046B2 (ja) | レジスト表面疎水化用樹脂の製造方法、その製造方法及び該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物の調整方法、レジスト膜の形成方法、及び、パターン形成方法 | |
| JP4839253B2 (ja) | ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法 | |
| JP5358107B2 (ja) | ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法 | |
| JP5140329B2 (ja) | レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 | |
| JP4966886B2 (ja) | 感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物 | |
| JP2009192618A (ja) | 感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物 | |
| JP2010044358A (ja) | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法 | |
| JP2008311474A (ja) | パターン形成方法 | |
| JP2009086646A (ja) | ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法、及び、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂 | |
| JP2008046582A (ja) | ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物に用いられる樹脂、該樹脂の合成に用いられる化合物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 | |
| JP5331358B2 (ja) | ポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物、およびパターン形成方法 | |
| JP5037402B2 (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | |
| JP5314944B2 (ja) | 液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | |
| JP4961374B2 (ja) | ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法 | |
| JP5806800B2 (ja) | ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | |
| JP2009229773A (ja) | ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物 | |
| JP5826231B2 (ja) | 感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び感光性膜 | |
| JP2009075430A (ja) | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | |
| JP5469820B2 (ja) | ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | |
| JP2009244396A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | |
| JP2009271253A (ja) | 液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | |
| JP2007199709A (ja) | ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | |
| JP5222981B2 (ja) | ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110309 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110309 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111216 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120904 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20120907 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20121004 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121023 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130423 |