JP2009267113A - 基板支持装置およびこれを備えた閃光照射システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】各基板支持部4の上部面の一部が、基板載置部に載置される基板の平滑面(裏面)8と該平滑面8の外周に設けられた面取部(面取面)9との境界領域に形成される稜部10に当接して基板を保持するように基板載置部内に配置されている。つまり、本発明の装置では、基板支持部4は基板外周近傍の平滑面8には接することがない。従って、基板平滑面を傷つけることなく、また、パーティクルの発生も抑制される。
【選択図】図3
Description
2 ステージ
3 サセプタ
4 支持部
5 基板搬送部
6 石英基板
7 石英窓
Claims (10)
- 基板載置部内に複数の基板支持部を有し、該複数の基板支持部は、各基板支持部の上部面の一部が、前記基板載置部に載置される基板の平滑面と該平滑面の外周に設けられた面取部との境界領域に形成される稜部に当接して基板を保持するように前記基板載置部内に配置されていることを特徴とする基板支持装置。
- 前記基板支持部の上部面が平滑化処理されている請求項1に記載の基板支持装置。
- 前記基板支持部の上部の断面形状は略半円状であり、該上部の頂点は、前記基板載置部に載置される基板の稜部よりも外周側に位置している請求項1又は2に記載の基板支持装置。
- 前記基板支持部の上部面は、前記基板載置部に載置される基板の外周部から平滑面に向かって下り傾斜を有する略平坦面である請求項1又は2に記載の基板支持装置。
- 前記基板支持部の上部傾斜面の傾斜角度(α)は、前記基板の平滑面と面取部との成す角度(β)よりも小さい(α<β)請求項4に記載の基板支持装置。
- 前記基板支持部は、前記基板の稜部との当接面を有する上部が取外し可能である請求項1乃至5の何れか1項に記載の基板支持装置。
- 前記基板支持部には、該基板支持部の上部の前記頂点の位置または前記傾斜の方向を定める位置決め部が設けられている請求項3乃至6の何れか1項に記載の基板支持装置。
- 前記基板支持装置は、前記基板支持部の上部面の高さ調整部を備えている請求項1乃至7の何れか1項に記載の基板支持装置。
- 前記基板支持部の上部の材質は石英またはアルミニウムである請求項1乃至8の何れか1項に記載の基板支持装置。
- 請求項1乃至9の何れか1項に記載の基板支持装置を備えた閃光照射システム。
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JP2008115527A JP2009267113A (ja) | 2008-04-25 | 2008-04-25 | 基板支持装置およびこれを備えた閃光照射システム |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8967608B2 (en) | 2011-01-18 | 2015-03-03 | Asahi Glass Company, Limited | Glass substrate-holding tool and method for producing an EUV mask blank by employing the same |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002313874A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-25 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板支持部材、ならびにそれを用いた基板保持機構、基板搬送装置、基板搬送方法、基板処理装置および基板処理方法 |
JP2004119642A (ja) * | 2002-09-26 | 2004-04-15 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
JP2006005271A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-01-05 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 熱処理用治具及び半導体ウエーハの熱処理方法 |
-
2008
- 2008-04-25 JP JP2008115527A patent/JP2009267113A/ja active Pending
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