JP2009266656A - プラズマイオン源質量分析装置 - Google Patents
プラズマイオン源質量分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009266656A JP2009266656A JP2008115529A JP2008115529A JP2009266656A JP 2009266656 A JP2009266656 A JP 2009266656A JP 2008115529 A JP2008115529 A JP 2008115529A JP 2008115529 A JP2008115529 A JP 2008115529A JP 2009266656 A JP2009266656 A JP 2009266656A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- ion
- side plate
- mass spectrometer
- deflection lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 132
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 15
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 11
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 claims description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 15
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 abstract description 14
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 5
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 20
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 8
- 230000005405 multipole Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000011045 prefiltration Methods 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical group [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/004—Combinations of spectrometers, tandem spectrometers, e.g. MS/MS, MSn
- H01J49/0045—Combinations of spectrometers, tandem spectrometers, e.g. MS/MS, MSn characterised by the fragmentation or other specific reaction
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/06—Electron- or ion-optical arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/06—Electron- or ion-optical arrangements
- H01J49/067—Ion lenses, apertures, skimmers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/10—Lenses
- H01J2237/14—Lenses magnetic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
- H01J2237/152—Magnetic means
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
【解決手段】イオン偏向レンズは、入射側プレート状電極と出射側プレート状電極と、入射側プレート状電極と出射側プレート状電極との間に配置される筒状電極とを具備する。筒状電極は、非点対称形状を成す。また、筒状電極は、筒状電極の中心軸が出射側プレート状電極後のイオンの進行軸よりも入射側プレート状電極前のイオンの進行軸に近いように配置される。
【選択図】図1
Description
20 プラズマトーチ
21 コイル
30 高周波誘導結合プラズマ
40 インターフェース部
41 サンプリングコーン
42,44,75 アパーチャ
43 スキマーコーン
51,52,53 真空槽
54,55,56 排気口
60 引出電極部
61 アパーチャ
71,74 隔壁
72 ゲートバルブ
73 絶縁体
80 セル
81 多重極電極
82 導入口
91 質量分離部
92 検出器
100,400,500,600 イオン偏向レンズ
110,410,510,610 プレート状電極
120,420,520,620 筒状電極
130,430,530,630 プレート状電極
140,150 アパーチャ
160,170 軸
180,480,580,680 中心軸
RP 油回転ポンプ
TMP1,TMP2 ターボ分子ポンプ
Claims (9)
- プラズマをイオン源として用いる質量分析装置であって、イオン偏向レンズを備える質量分析装置において、
前記イオン偏向レンズが、
1つのアパーチャを有する入射側プレート状電極と、
1つのアパーチャを有する出射側プレート状電極と、
前記入射側プレート状電極と前記出射側プレート状電極との間に配置される少なくとも1つの筒状電極とを具備し、
前記入射側プレート状電極および前記出射側プレート状電極が、それぞれの前記アパーチャの軸がずれるように、互いに対向し、
前記筒状電極が、非点対称形状を成し、前記筒状電極の中心軸が前記出射側プレート状電極後のイオンの進行軸よりも前記入射側プレート状電極前のイオンの進行軸に近いように配置される、
ことを特徴とする質量分析装置。 - 前記筒状電極が、前記出射側プレート状電極後のイオンの進行軸が前記入射側プレート状電極前のイオンの進行軸と実質的に平行となるような電位および形状を成す、
ことを特徴とする請求項1に記載の質量分析装置。 - 前記筒状電極が、完全な筒から前記筒の入射側端の少なくとも一部を含む部分を取り除いた形状を成す、
ことを特徴とする請求項1または請求項2に質量分析装置。 - 前記筒状電極が、完全な筒から前記筒の入射側端の少なくとも一部を含む部分のみを取り除いた形状を成す、
ことを特徴とする請求項3に質量分析装置。 - 前記筒状電極が、完全な筒から、前記完全筒の中心軸を含む仮想平面と前記中心軸に垂直な仮想平面とで前記完全筒を4等分したうちの入射側の1つを取り除いた形状を成すことを特徴とする請求項4に記載の質量分析装置。
- 前記筒状電極が、円筒形状を成すことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の質量分析装置。
- 前記イオン偏向レンズが、質量分離部よりも前に配置され、且つ、負電位となる他のイオン光学系よりも後に配置されることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の質量分析装置。
- 前記イオン偏向レンズが、前記質量分離部の直前に配置されていることを特徴とする請求項7に記載の分析装置。
- 前記プラズマが、高周波誘導結合プラズマであることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の質量分析装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008115529A JP5469823B2 (ja) | 2008-04-25 | 2008-04-25 | プラズマイオン源質量分析装置 |
US12/405,378 US7977649B2 (en) | 2008-04-25 | 2009-03-17 | Plasma ion source mass spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008115529A JP5469823B2 (ja) | 2008-04-25 | 2008-04-25 | プラズマイオン源質量分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009266656A true JP2009266656A (ja) | 2009-11-12 |
JP5469823B2 JP5469823B2 (ja) | 2014-04-16 |
Family
ID=41214073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008115529A Active JP5469823B2 (ja) | 2008-04-25 | 2008-04-25 | プラズマイオン源質量分析装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7977649B2 (ja) |
JP (1) | JP5469823B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014203305A1 (ja) * | 2013-06-17 | 2014-12-24 | 株式会社島津製作所 | イオン輸送装置及び該装置を用いた質量分析装置 |
JP2015128032A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-09 | アジレント・テクノロジーズ・インクAgilent Technologies, Inc. | プラズマ質量分析装置用イオン光学システム |
WO2016067373A1 (ja) * | 2014-10-29 | 2016-05-06 | 株式会社日立製作所 | 質量分析装置 |
JP2017015676A (ja) * | 2015-06-29 | 2017-01-19 | アジレント・テクノロジーズ・インクAgilent Technologies, Inc. | プラズマイオン源質量分析方法及び装置 |
JP2018032641A (ja) * | 2013-01-30 | 2018-03-01 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | ガス混合物の質量分析試験のための方法および質量分析計 |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5308641B2 (ja) * | 2007-08-09 | 2013-10-09 | アジレント・テクノロジーズ・インク | プラズマ質量分析装置 |
US7986484B2 (en) * | 2007-11-30 | 2011-07-26 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Method and system for fabricating a data storage medium |
US7982187B2 (en) * | 2008-10-14 | 2011-07-19 | De Gorordo Alvaro Garcia | Method and apparatus for photon-assisted evaluation of a plasma |
US8431887B2 (en) * | 2009-03-31 | 2013-04-30 | Agilent Technologies, Inc. | Central lens for cylindrical geometry time-of-flight mass spectrometer |
EP2341525B1 (en) | 2009-12-30 | 2013-10-23 | FEI Company | Plasma source for charged particle beam system |
US8642974B2 (en) | 2009-12-30 | 2014-02-04 | Fei Company | Encapsulation of electrodes in solid media for use in conjunction with fluid high voltage isolation |
US8330099B2 (en) * | 2011-01-31 | 2012-12-11 | Agilent Technologies, Inc. | Mass spectrometer and mass analyzer comprising pulser |
AU2012225760A1 (en) * | 2011-03-04 | 2013-09-19 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Electrostatic lenses and systems including the same |
US8461524B2 (en) * | 2011-03-28 | 2013-06-11 | Thermo Finnigan Llc | Ion guide with improved gas dynamics and combined noise reduction device |
US8796620B2 (en) * | 2011-06-08 | 2014-08-05 | Mks Instruments, Inc. | Mass spectrometry for gas analysis with a one-stage charged particle deflector lens between a charged particle source and a charged particle analyzer both offset from a central axis of the deflector lens |
US8796638B2 (en) * | 2011-06-08 | 2014-08-05 | Mks Instruments, Inc. | Mass spectrometry for a gas analysis with a two-stage charged particle deflector lens between a charged particle source and a charged particle analyzer both offset from a central axis of the deflector lens |
US20130098871A1 (en) | 2011-10-19 | 2013-04-25 | Fei Company | Internal Split Faraday Shield for an Inductively Coupled Plasma Source |
CA2932371A1 (en) * | 2013-12-31 | 2015-07-09 | Dh Technologies Development Pte. Ltd. | Ion guide for mass spectrometry |
US9558925B2 (en) * | 2014-04-18 | 2017-01-31 | Battelle Memorial Institute | Device for separating non-ions from ions |
EP3598477B1 (en) * | 2014-05-01 | 2020-12-30 | PerkinElmer Health Sciences, Inc. | Methods for detection and quantification of silicon in samples |
CN105784675B (zh) * | 2015-01-13 | 2020-01-07 | 爱科来株式会社 | 等离子体分光分析方法和等离子体分光分析装置 |
GB2545670B (en) * | 2015-12-21 | 2018-05-09 | Nu Instruments Ltd | Mass spectrometers |
GB2549248B (en) * | 2016-01-12 | 2020-07-22 | Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh | IRMS sample introduction system and method |
CN112201560B (zh) * | 2020-09-25 | 2021-07-13 | 中国地质大学(北京) | 一种离子偏转装置及方法 |
EP4268261A1 (en) | 2020-12-23 | 2023-11-01 | MKS Instruments, Inc. | Monitoring radical particle concentration using mass spectrometry |
KR102614315B1 (ko) * | 2021-12-02 | 2023-12-19 | 영인에이스 주식회사 | 질량 분석기 |
JP2024064706A (ja) * | 2022-10-28 | 2024-05-14 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置および分析条件の設定方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH087829A (ja) * | 1994-06-16 | 1996-01-12 | Shimadzu Corp | プラズマ質量分析装置 |
JPH08138620A (ja) * | 1994-11-07 | 1996-05-31 | Shimadzu Corp | 質量分析装置 |
JPH09306418A (ja) * | 1996-05-15 | 1997-11-28 | Seiko Instr Inc | プラズマイオン源質量分析装置 |
JPH1140098A (ja) * | 1997-07-24 | 1999-02-12 | Yokogawa Analytical Syst Kk | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
JP2001084954A (ja) * | 1999-09-14 | 2001-03-30 | Hitachi Ltd | 質量分析計 |
JP2004071470A (ja) * | 2002-08-08 | 2004-03-04 | Yokogawa Analytical Systems Inc | 大気圧プラズマイオン化源質量分析装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4481415A (en) * | 1982-10-27 | 1984-11-06 | Shimadzu Corporation | Quadrupole mass spectrometer |
JPS61107650A (ja) | 1984-10-29 | 1986-05-26 | Shimadzu Corp | 四重極型質量分析装置 |
JP3367719B2 (ja) * | 1993-09-20 | 2003-01-20 | 株式会社日立製作所 | 質量分析計および静電レンズ |
JPH09115476A (ja) * | 1995-10-19 | 1997-05-02 | Seiko Instr Inc | プラズマイオン質量分析装置 |
JPH1097838A (ja) | 1996-07-30 | 1998-04-14 | Yokogawa Analytical Syst Kk | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
US5838003A (en) * | 1996-09-27 | 1998-11-17 | Hewlett-Packard Company | Ionization chamber and mass spectrometry system containing an asymmetric electrode |
JP2000067805A (ja) | 1998-08-24 | 2000-03-03 | Hitachi Ltd | 質量分析装置 |
EP1116258B1 (en) | 1998-09-23 | 2015-12-09 | Analytik Jena AG | Ion optical system for a mass spectrometer |
JP3559736B2 (ja) | 1999-10-22 | 2004-09-02 | 株式会社日立製作所 | 質量分析計 |
TWI484529B (zh) * | 2006-11-13 | 2015-05-11 | Mks Instr Inc | 離子阱質譜儀、利用其得到質譜之方法、離子阱、捕捉離子阱內之離子之方法和設備 |
-
2008
- 2008-04-25 JP JP2008115529A patent/JP5469823B2/ja active Active
-
2009
- 2009-03-17 US US12/405,378 patent/US7977649B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH087829A (ja) * | 1994-06-16 | 1996-01-12 | Shimadzu Corp | プラズマ質量分析装置 |
JPH08138620A (ja) * | 1994-11-07 | 1996-05-31 | Shimadzu Corp | 質量分析装置 |
JPH09306418A (ja) * | 1996-05-15 | 1997-11-28 | Seiko Instr Inc | プラズマイオン源質量分析装置 |
JPH1140098A (ja) * | 1997-07-24 | 1999-02-12 | Yokogawa Analytical Syst Kk | 誘導結合プラズマ質量分析装置 |
JP2001084954A (ja) * | 1999-09-14 | 2001-03-30 | Hitachi Ltd | 質量分析計 |
JP2004071470A (ja) * | 2002-08-08 | 2004-03-04 | Yokogawa Analytical Systems Inc | 大気圧プラズマイオン化源質量分析装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018032641A (ja) * | 2013-01-30 | 2018-03-01 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | ガス混合物の質量分析試験のための方法および質量分析計 |
WO2014203305A1 (ja) * | 2013-06-17 | 2014-12-24 | 株式会社島津製作所 | イオン輸送装置及び該装置を用いた質量分析装置 |
JPWO2014203305A1 (ja) * | 2013-06-17 | 2017-02-23 | 株式会社島津製作所 | イオン輸送装置及び該装置を用いた質量分析装置 |
US9601323B2 (en) | 2013-06-17 | 2017-03-21 | Shimadzu Corporation | Ion transport apparatus and mass spectrometer using the same |
JP2015128032A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-09 | アジレント・テクノロジーズ・インクAgilent Technologies, Inc. | プラズマ質量分析装置用イオン光学システム |
WO2016067373A1 (ja) * | 2014-10-29 | 2016-05-06 | 株式会社日立製作所 | 質量分析装置 |
JP2017015676A (ja) * | 2015-06-29 | 2017-01-19 | アジレント・テクノロジーズ・インクAgilent Technologies, Inc. | プラズマイオン源質量分析方法及び装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5469823B2 (ja) | 2014-04-16 |
US7977649B2 (en) | 2011-07-12 |
US20090266984A1 (en) | 2009-10-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5469823B2 (ja) | プラズマイオン源質量分析装置 | |
JP5152320B2 (ja) | 質量分析装置 | |
JP4830450B2 (ja) | 質量分析装置 | |
CA2687965C (en) | Multipole ion guide interface for reduced background noise in mass spectrometry | |
EP3540758B1 (en) | Tandem collision/reaction cell for inductively coupled plasma-mass spectrometry (icp-ms) | |
EP2808888B1 (en) | Mass analysis device | |
US9773656B2 (en) | Ion transport apparatus and mass spectrometer using the same | |
WO2016135810A1 (ja) | イオンガイド及びそれを用いた質量分析装置 | |
JP6544430B2 (ja) | 質量分析装置 | |
US8803086B2 (en) | Triple quadrupole mass spectrometer | |
JP5673848B2 (ja) | 質量分析装置 | |
JP4940977B2 (ja) | イオン偏向装置及び質量分析装置 | |
WO2018211611A1 (ja) | イオン検出装置及び質量分析装置 | |
US11848184B2 (en) | Mass spectrometer | |
JP7347680B2 (ja) | 質量分析装置 | |
JP2024035903A (ja) | 質量分析装置 | |
EP2718960B1 (en) | Mass spectrometry for a gas analysis with a two-stage charged particle deflector lens between a charged particle source and a charged particle analyzer both offset from a central axis of the deflector lens | |
AU2013224762B2 (en) | Multipole ion guide interface for reduced background noise in mass spectrometry |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110418 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20110512 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121122 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121127 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130227 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130304 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130326 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130806 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131105 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140107 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140203 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5469823 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |