JP2009259900A - 表層に貴金属を固定させた樹脂基板、その製造方法、回路基板、及びその製造方法 - Google Patents
表層に貴金属を固定させた樹脂基板、その製造方法、回路基板、及びその製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】シアネート系ビルトアップ樹脂を熱処理し樹脂中にトリアジン環を生成させる工程と、オゾン水により樹脂基体の表層を改質すると共に、貴金属錯イオンを含むキャタリスト液に浸漬し、樹脂マトリックス中に微細な金属粒子が均一に分散してなる樹脂−金属コンポジット層を一体的に形成し、貴金属をトリアジン環によって固定させる工程とによって樹脂基板を製造し、該貴金属を核として樹脂基板の表面に無電解めっきにより金属被膜を形成し、その後に該金属被膜を除去することを特徴とする回路基板の製造方法。
【選択図】図1
Description
(1)基板狭小配線間の200nm以上のコンポジット層は後工程のエッチンゲで除去されず、絶縁不良の原因となる。
(2)逆にコンポジット層が薄い(10〜200nm)と平滑樹脂上では十分な密着強度が得られにくい。
という問題が存在した。
1.表層のナノコンポジット層により平滑樹脂上のめっき密着力が向上する。
2.上記1により平滑樹脂上に高密着性を有するめっき配線を持つプリント配線基板を作製できる。
3.上記2の基板は高周波特性に優れ、かつL/S=10/10μm以下の微細配線形成が可能となる。
1.芳香族シアネート化合物と芳香族エポキシ樹脂とを含む樹脂、球状シリカおよびメチルエチルケトンからなる樹脂基板を用意した。芳香族シアネート化合物(A)としてロンザジャパン(株)PrimsetBA230S、芳香族エポキシ樹脂(B)としてジャパンエポキシレジン(株)#828、コバルト(II)アセチルアセトナートの1%N,N−ジメチルホルムアミド溶液(C)を、A:B:C=38:58:4(重量比)で混合したのち、ガラスエポキシ基板上に厚さ50μmになるように塗布し、110℃で10分乾燥させた。
[コンポジット層の形成]
1)化学銅めっきの触媒核となる貴金属はPdに限らず、例えばAg触媒なども可能である。
2)めっきの種類はCuめっきに限らず、例えばNiめっきなども可能である。
3)Pdのキャタリストの種類は特に限定はない。ただし、触媒の粒径が小さいアルカリ性キャタリストがコロイド状の酸性キャタリストに比べ、樹脂表層(オゾン水による改質層)への浸透性、分散性が良いため高い密着強度が発現しやすい。
4)オゾン水処理は処理対象物の浸漬方式には限定されず、例えばスプレー式の処理でも可能である。
5)オゾン水処理前に有機溶媒を溶かした溶媒に浸漬させる、または、極性溶媒中でオゾン処理しても良い。極性溶媒の作用で樹脂がエッチングされやすくなり、オゾン水処理が、より低濃度で効率的に実施できる。ただし溶媒はオゾンで分解されにくいものが良い。
6)樹脂中に貴金属固定化成分を予め持っていても良いし、反応により形成させても良い。固定化成分を分散させた薬液中に樹脂を浸漬させ、浸透により樹脂に付与させても良い。また、実施例で実施している熱処理は、オゾン水処理前に限定されず、化学銅めっき前ならば良い。
7)めっき前処理の薬液は特に限定されない。
8)めっき液についても特に限定されない。
9)化学銅めっきの前処理液であるキャタリスト液には、貴金属錯イオンでなくコロイドタイプの貴金属が含まれていても良い。
Claims (6)
- 樹脂基体と、該樹脂基体の表層に一体的に形成され樹脂マトリックス中に微細な金属粒子が均一に分散してなる樹脂−金属コンポジット層を有し、該樹脂マトリックス中にトリアジン環を有することを特徴とする樹脂基板。
- 前記樹脂−金属コンポジット層の厚さは10〜200nmであることを特徴とする請求項1に記載の樹脂基板。
- 前記トリアジン環に貴金属が固定されたことを特徴とする請求項1または2に記載の樹脂基板。
- シアネート系ビルトアップ樹脂を熱処理し樹脂中にトリアジン環を生成させる工程と、オゾン水により樹脂基体の表層を改質すると共に、貴金属錯イオン又はコロイドタイプの貴金属を含むキャタリスト液に浸漬し、樹脂マトリックス中に微細な金属粒子が均一に分散してなる樹脂−金属コンポジット層を樹脂基体と一体的に形成し、貴金属をトリアジン環によって固定させる工程とを有することを特徴とする樹脂基板の製造方法。
- 樹脂基体と、該樹脂基体の表面に一体的に形成され樹脂マトリックス中に微細な金属粒子が均一に分散してなる樹脂−金属コンポジット層とからなり、該樹脂マトリックス中にトリアジン環を有する樹脂−金属コンポジット層をもつ樹脂基板上に金属配線層が配置されたことを特徴とする回路基板。
- シアネート系ビルトアップ樹脂を熱処理し樹脂中にトリアジン環を生成させる工程と、オゾン水により樹脂基体の表層を改質すると共に、貴金属錯イオン又はコロイドタイプの貴金属を含むキャタリスト液に浸漬し、樹脂マトリックス中に微細な金属粒子が均一に分散してなる樹脂−金属コンポジット層を一体的に形成し、貴金属をトリアジン環によって固定させる工程とによって樹脂基板を製造し、該貴金属を核として樹脂基板の表面に無電解めっきにより金属被膜を形成し、その後に該金属被膜を除去することを特徴とする回路基板の製造方法。
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