JP2009247983A - セラミックフィルタの再生方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 排ガス中のダストを乾式で捕集する外面ろ過方式の円筒状のセラミックフィルタ1に於いて、ダストの付着により圧力損失が上昇したセラミックフィルタ1の外表面1aへ向って高圧気体噴射ノズル2から高圧気体Gを噴射し、セラミックフィルタ1の表面及び表面近傍の内部に付着したダストを吹き飛ばす。
【選択図】 図1
Description
しかし、この方法では、ノズルから吹き込まれた高圧空気がクリーン側のセルの壁面やダーティ側のセルの壁面に沿って流れるため、各セルの壁面内部に進入したダストを除去し難く、ハニカム型セラミックフィルタの再生を確実且つ良好に行えないと云う問題があった。
しかし、この方法では、セラミックフィルタの数十μmの微小な細孔部に付着しているダストを除去できないと云う問題があった。
しかし、特許文献3及び特許文献5の方法では、何れも薬剤を使用するために取り扱いが大変でランニングコストがかかると云う問題があった。
その結果、本発明は、高圧気体噴射ノズルから噴射された高圧気体がセラミックフィルタの外表面に衝突し、通常のブラシが入らないような小さなセラミックフィルタの細孔(数十μm)表面及び表面近傍の内部に付着したダストを吹き飛ばすことができ、ダストの付着により上昇した圧力損失を大幅に低減することができる。
特に、高圧気体噴射ノズルから高圧気体を噴射する際に、セラミックフィルタの外表面と高圧気体噴射ノズルとの距離を高圧気体噴射ノズルの噴出口の最小径に対して5倍以内にすると、ノズル出口の流速・動圧・運動エネルギーが保存されるポテンシャルコアが形成されることになる。その結果、この場合には、セラミックフィルタに付着したダストを吹き飛ばすための圧力が保存され、セラミックフィルタに付着したダストをより確実且つ良好に吹き飛ばすことができる。
又、高圧気体噴射ノズルから噴射される高圧気体の噴射直前の圧力を0.3MPa以上とすると、ノズル出口近傍では衝撃波の発生により超音速と亜音速を繰り返すので圧力が振動的に一定レベルを保つことになり、ダストをより一層確実且つ良好に吹き飛ばすことができる。
このように、本発明の請求項1乃至請求項3の発明は、水のような液体を使用することなく、セラミックフィルタに付着したダストを確実且つ良好に除去することができ、ダストの付着により上昇したセラミックフィルタの圧力損失を大幅に低減することができ、セラミックフィルタの再生を確実且つ良好に行える。
又、本発明の請求項1乃至請求項3の発明は、セラミックフィルタを装置に設置したままでも、セラミックフィルタを再生することができるため、セラミックフィルタの取り外しや取り付けを行う必要がなく、メンテナンス費用を大幅に低減することができると共に、作業も楽に行えて作業性に優れたものとなる。
又、本発明の請求項4の発明は、セラミックフィルタを再生するのに水を使用しているため、薬剤を使用した場合に比較して取り扱いが簡単になると共に、コストの低減を図ることができる。
図1及び図2は本発明の方法を実施するための概略説明図であり、1はセラミックフィルタ、2は高圧気体噴射ノズル、3は高圧気体の制御バルブ、4は高圧気体の供給ホースである。
セラミックフィルタ1を再生するには、高圧気体噴射ノズル2の噴出口からセラミックフィルタ1の外表面1aに向って高圧気体Gを噴射する。
又、高圧気体噴射ノズル2から噴射される高圧気体Gの噴射直前の圧力は、0.05MPa以上、好ましくは、0.3MPa以上とする。
又、高圧気体噴射ノズル2から噴射される高圧気体Gの噴射直前の圧力を0.05MPa以上とするのは、直前圧0.3MPaの噴射流体の噴射位置からノズルの最小径の10倍離れた位置に於ける圧力が、0.05MPa程度であるため、セラミックフィルタ1近傍に高圧気体噴射ノズル2を設置し、直前圧0.05MPaで流体を噴射すれば、直前圧0.3MPaでノズルの最小径の10倍離れた位置から噴射した場合と同等の効果が得られるためである。
特に、高圧気体噴射ノズル2から高圧気体Gを噴射する際に、セラミックフィルタ1の外表面1aと高圧気体噴射ノズル2との距離Lを高圧気体噴射ノズル2の噴出口の最小径Dに対して5倍以内にすると、ノズル出口の流速・動圧・運動エネルギーが保存)されるポテンシャルコアが形成され、又、高圧気体噴射ノズル2から噴射される高圧気体Gの噴射直前の圧力を0.3MPa以上とすると、ノズル出口近傍では衝撃波の発生により超音速と亜音速を繰り返すので圧力が振動的に一定レベルを保つことになる。その結果、この場合には、セラミックフィルタ1に付着したダストを吹き飛ばすための圧力が保存され、セラミックフィルタ1に付着したダストをより確実且つ良好に吹き飛ばすことができる。
セラミックフィルタ1を再生するには、水槽5内に水Wを張り、集塵装置から取り外したセラミックフィルタ1を水槽5内に設けたセラミックフィルタ置き台6に水平姿勢で置き、セラミックフィルタ1を一定時間完全に浸漬する。セラミックフィルタ1を水Wに浸漬すると、セラミックフィルタ1の外表面1a及び内部に付着した水溶性の塩類(塩化ナトリウムや塩化カリウム等)が水槽5内の水Wに溶けると共に、付着したまわりのダストも剥離する。セラッミクフィルタ1を一定時間完全に浸漬させた後、水槽5内でセラミックフィルタ1の外表面1aを拭って剥離したダストを取り除き、最後にセラミックフィルタ1を水槽5から取り出し、セラミックフィルタ1の細孔内に含まれる水分を蒸発させるためにセラミックフィルタ1の細孔内に常温の空気又は熱風等を流してセラミックフィルタ1を乾燥させる。
又、セラミックフィルタ1は、水槽5内に横向きにして浸漬しているが、セラミックフィルタ1の内部に水Wが浸漬するようにすれば、水槽5内に縦向きに浸漬しても良い。
更に、セラミックフィルタ1を浸漬するのに使用する水Wは、工水又は市水レベルで良く、又、水槽5内の水Wがダスト等で汚れた場合には水槽5内の水Wを入れ替えれば良い。
又、セラミックフィルタ1を再生するのに水Wを使用しているため、薬剤を使用した場合に比較して取り扱いが簡単になると共に、コストの低減を図ることができる。
このとき、セラミックフィルタ1の外表面1aと高圧気体噴射ノズル2との距離Lは、高圧気体噴射ノズル2の噴射口の最小径Dに対して5〜6倍とし、高圧気体噴射ノズル2から噴射される高圧気体Gの噴射直前の圧力を0.3MPaとした。
その結果、セラミックフィルタ1の圧力損失を0.8kPaまで低減させることができ、セラミックフィルタ1を確実且つ良好に再生することができた。
その結果、セラミックフィルタ1の圧力損失を0.5kPaまで低減させることができ、セラミックフィルタ1をより確実且つ良好に再生することができた。
Claims (4)
- 排ガス中のダストを乾式で捕集する外面ろ過方式の円筒状のセラミックフィルタに於いて、ダストの付着により圧力損失が上昇したセラミックフィルタの外表面へ向って高圧気体噴射ノズルから高圧気体を噴射し、セラミックフィルタに付着したダストを吹き飛ばすようにしたことを特徴とするセラミックフィルタの再生方法。
- セラミックフィルタの外表面と高圧気体噴射ノズルとの距離を高圧気体噴射ノズルの噴出口の最小径に対して約10倍以内として、高圧気体噴射ノズルからセラミックフィルタの外表面へ向って高圧気体を噴射するようにしたことを特徴とする請求項1に記載のセラミックフィルタの再生方法。
- 高圧気体噴射ノズルから噴射される高圧気体の噴射直前の圧力を0.05MPa以上としたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のセラミックフィルタの再生方法。
- 排ガス中のダストを乾式で捕集する外面ろ過方式の円筒状のセラミックフィルタに於いて、ダストの付着により圧力損失が上昇したセラミックフィルタを水槽内に一定時間完全に浸漬させた後、水槽内でセラミックフィルタの外表面を拭い、当該セラミックフィルタを水槽から取り出して乾燥させるようにしたことを特徴とするセラミックフィルタの再生方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013010094A (ja) * | 2011-06-03 | 2013-01-17 | Hosokawa Micron Corp | 集塵機 |
CN112999757A (zh) * | 2021-01-29 | 2021-06-22 | 新巴尔虎右旗荣达矿业有限责任公司 | 一种陶瓷滤板清洗机 |
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JPH0647225A (ja) * | 1992-07-28 | 1994-02-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 脱塵フィルタの洗滌装置 |
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2008
- 2008-04-07 JP JP2008098845A patent/JP2009247983A/ja active Pending
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