JP2009238938A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置1は、PVA(ポリビニルアルコール)製のスポンジブラシ16を備えている。スポンジブラシ16の外表面を含む範囲には、多数の砥粒が保持されている。基板処理装置1は、スピンチャック3により回転されるウエハWの周縁部にスポンジブラシ16を当接させることにより当該周縁部を洗浄することができる。スポンジブラシ16は、ウエハWの周縁部に強固に付着した汚染物資を砥粒によって剥離させることにより、ウエハWの周縁部から当該汚染物質を良好に除去することができる。
【選択図】図2
Description
ウエハの周縁部の洗浄に関する先行技術としては、たとえば、ウエハの周縁部にブラシを当接させるとともに、ウエハとブラシとの当接部分に純水などの処理液を供給しつつ、ウエハおよびブラシをそれぞれの中心軸線まわりに回転させることにより、ウエハの周縁部に付着している汚染物質を除去する構成が提案されている(たとえば、特許文献1参照)。
そこで、この発明の目的は、基板の周縁部から汚染物質を良好に除去することができる基板処理装置を提供することである。
この発明によれば、砥粒が保持されたPVA製のスポンジブラシを移動手段によって移動させることにより、基板保持手段に保持された基板の周縁部にスポンジブラシを当接させることができる。さらに、相対移動手段によって、基板の周縁部と当該周縁部に当接されたスポンジブラシとを互いに当接させた状態で相対移動させることができる。これにより、基板の周縁部を洗浄することができる。
この基板処理装置1は、基板の一例としての半導体ウエハW(以下、単に「ウエハW」という。)を1枚ずつ処理する枚葉型の装置である。基板処理装置1は、隔壁で区画された処理室2内に、ウエハWを水平に保持して回転させるスピンチャック3(基板保持手段)と、ウエハWの表面(本実施形態では上面)および裏面(本実施形態では下面)にそれぞれ処理液を供給するための表面ノズル4および裏面ノズル5と、ウエハWの周縁部を洗浄するためのブラシ機構6とを備えている。ウエハWの周縁部とは、表面の周縁領域7、裏面の周縁領域8および周端面9を含む部分をいう。また、周縁領域7,8とは、たとえば、ウエハWの周端縁から幅数ミリメートル程度の環状の領域をいう。
ブラシ機構6は、ウエハWの周縁部を洗浄するためのスポンジブラシ16と、スピンチャック3によるウエハWの保持位置よりも上方で水平に延びる揺動アーム17と、ウエハWの回転範囲外に配置され、揺動アーム17の基端部を下方から支持するアーム支持軸18とを備えている。
ホルダ取付部20は、円環状をなす板状の上壁部25と、この上壁部25に一体的に結合され、上壁部25の周縁から下方に向けて延びる円筒状の側壁部26とを備えている。回転軸19は、上壁部25を挿通しており、当該上壁部25に固定されている。また、側壁部26の内周面には、雌ねじ部27が形成されている。ブラシホルダ21には、その上端部に雄ねじ部28が形成されており、この雄ねじ部28が雌ねじ部27にねじ込まれることにより、ブラシホルダ21がホルダ取付部20に取り付けられている。
基板処理装置1は、マイクロコンピュータを含む制御部37を備えている。この制御部37には、使用者によって処理レシピ(ウエハWの処理のための各種条件)を入力するためのレシピ入力キー38が接続されている。さらに、制御部37には、スピンモータ12、ブラシ自転機構22、昇降駆動機構23および揺動駆動機構24などが制御対象として接続されている。処理液バルブ15の開閉は、制御部37によって制御される。
ウエハWの処理に先立ち、使用者によって、レシピ入力キー38が操作されて、ウエハWの周端面9に対するスポンジブラシ16の押し付け量が設定されている(ステップS1)。押し付け量とは、ウエハWの周端面9にスポンジブラシ16の洗浄面(第1洗浄面35または第2洗浄面36)を押し付けたときのスポンジブラシ16の弾性変形量をいう。
具体的には、まず、昇降駆動機構23が制御されて、スポンジブラシ16がレシピ入力キー38から設定された押し付け量に応じた高さの位置に移動され、スポンジブラシ16の第2洗浄面36がウエハWの周端面9に水平に対向する。次に、揺動駆動機構24が制御されて、揺動アーム17が旋回し、スポンジブラシ16が水平移動される。これにより、スポンジブラシ16の第2洗浄面36がウエハWの周縁部に押し付けられ、図6に示すように、ウエハWの周縁部がスポンジブラシ16の第2洗浄面36に食い込む。したがって、スポンジブラシ16の第2洗浄面36がウエハWの裏面の周縁領域8および周端面9に押し付けられる。スポンジブラシ16は、弾性変形することによりウエハWの周縁部に隙間なく密着するようになっている。
また、前述の実施形態では、処理対象となる基板としてウエハWを取り上げたが、ウエハWに限らず、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、FED用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板などの他の種類の基板が処理対象とされてもよい。
3 スピンチャック(基板保持手段)
16 スポンジブラシ
23 昇降駆動機構(移動手段)
24 揺動駆動機構(移動手段)
35 第1洗浄面
36 第2洗浄面
W ウエハ(基板)
Claims (2)
- 基板を保持する基板保持手段と、
この基板保持手段に保持された基板の周縁部を洗浄するための周縁洗浄ブラシであって、砥粒が保持されたPVA(ポリビニルアルコール)製のスポンジブラシと、
このスポンジブラシを移動させて、前記基板保持手段に保持された基板の周縁部に前記スポンジブラシを当接させる移動手段と、
前記基板保持手段に保持された基板の周縁部と当該基板の周縁部に当接された前記スポンジブラシとを当該当接状態を保持して相対移動させる相対移動手段とを含む、基板処理装置。 - 前記移動手段は、基板の一方表面に垂直な垂線方向に前記スポンジブラシを移動させることができるものであり、
前記スポンジブラシは、前記垂線方向の一方側に向けて狭まる形状の第1洗浄面、および、この第1洗浄面の前記一方側の端縁から前記垂線方向の前記一方側に向けて拡がる形状の第2洗浄面を有するものである、請求項1記載の基板処理装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI549177B (zh) * | 2011-03-22 | 2016-09-11 | 斯克林集團公司 | 基板處理裝置 |
JP2017069262A (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP2020027807A (ja) * | 2018-08-09 | 2020-02-20 | 株式会社荏原製作所 | 基板用洗浄具、基板洗浄装置、基板処理装置、基板処理方法および基板用洗浄具の製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06226602A (ja) * | 1993-01-26 | 1994-08-16 | Mazda Motor Corp | 研磨方法 |
JPH07303914A (ja) * | 1994-05-13 | 1995-11-21 | Nkk Corp | 金属板の調質圧延設備 |
JP2004349675A (ja) * | 2003-04-30 | 2004-12-09 | Nippei Toyama Corp | 鏡面仕上げ装置 |
JP2007273612A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Sony Corp | 基板処理装置および基板処理方法 |
-
2008
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06226602A (ja) * | 1993-01-26 | 1994-08-16 | Mazda Motor Corp | 研磨方法 |
JPH07303914A (ja) * | 1994-05-13 | 1995-11-21 | Nkk Corp | 金属板の調質圧延設備 |
JP2004349675A (ja) * | 2003-04-30 | 2004-12-09 | Nippei Toyama Corp | 鏡面仕上げ装置 |
JP2007273612A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Sony Corp | 基板処理装置および基板処理方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI549177B (zh) * | 2011-03-22 | 2016-09-11 | 斯克林集團公司 | 基板處理裝置 |
JP2017069262A (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
WO2017056540A1 (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
US10546763B2 (en) | 2015-09-28 | 2020-01-28 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate treatment method and substrate treatment device |
JP2020027807A (ja) * | 2018-08-09 | 2020-02-20 | 株式会社荏原製作所 | 基板用洗浄具、基板洗浄装置、基板処理装置、基板処理方法および基板用洗浄具の製造方法 |
JP7224128B2 (ja) | 2018-08-09 | 2023-02-17 | 株式会社荏原製作所 | 基板用洗浄具、基板洗浄装置、基板処理装置、基板処理方法および基板用洗浄具の製造方法 |
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