JP2009228048A - 物品の水切り方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】物品をアルコールに接触させるアルコール接触工程3、物品を、1,1,2,2−テトラフルオロエチル−2,2,2−トリフルオロエチルエーテル等の含フッ素エーテルに接触させるエーテル置換工程4、エーテル置換工程4から、アルコールを含んだ含フッ素エーテルを取り出す取出し工程、取出し工程で取り出された、前記アルコールを含んだ含フッ素エーテルに、該含フッ素エーテルの質量に対して、1〜10倍の量の水を接触させる水抽出工程6、含フッ素エーテルと水とを分離させる水分離工程7、水と分離された含フッ素エーテルを、上記エーテル置換工程4に戻す工程を有する物品の水切り方法。
【選択図】図1
Description
該物品を、式1で表される含フッ素エーテルに接触させるエーテル置換工程、
エーテル置換工程から、アルコールを含んだ含フッ素エーテルを取り出す取出し工程、
取出し工程で取り出された、前記アルコールを含んだ含フッ素エーテルに、該含フッ素エーテルの質量に対して、1〜10倍の量の水を接触させる水抽出工程、
含フッ素エーテルと水とを分離させる水分離工程、
水と分離された含フッ素エーテルを、上記エーテル置換工程に戻す工程
を有する物品の水切り方法を提供する。
式1において、Rf1およびRf2は、各々独立に含フッ素アルキル基である。Rf1およびRf2に含まれるフッ素原子の数はそれぞれ1以上であり、Rf1およびRf2に含まれる炭素原子数の合計は4〜8である。
本発明における含フッ素エーテルは、式1で表される化合物である。Rf1およびRf2の各々は、1以上、好ましくは2〜10のフッ素原子を有し、Rf1およびRf2に含まれる炭素数の合計は4〜8である。
上記含フッ素エーテルは、Rf1およびRf2のいずれか一方にフッ素原子を有する含フッ素エーテルに比べ、熱安定性の点で優れる。
本発明において用いられるアルコールは、入手が容易なもので、式1で表される含フッ素エーテルに溶解するものが好ましく、水への溶解度が高く、その結果として前記アルコールを含んだ含フッ素エーテルから抽出が容易で、含フッ素エーテルの再利用が容易であるという観点から、沸点が60〜90℃であるものが特に好ましい。具体的には、メタノール、エタノール、2−プロパノールが挙げられる。
本発明の水切り方法を適用できる物品としては、プリント基板、フープ剤関係、液晶表示器、磁気記録部品、半導体材料、電歪用水晶、磁気記録部品、光電変換部品等の電子部品、電動機部品、発券用等部品、貨幣検査用等部品等の電機部品、ベアリング、時計等の精密機械部品、光学レンズ、プリズム、ポリゴンミラー、光学フィルター等の光学部品、超硬チップなど加工用精密機械部品等様々な物品が挙げられる。
アルコール接触工程は、例えば、水系洗浄剤で洗浄した後のすすぎや、めっき後のめっき液のすすぎ工程において、被洗物品に付着した水をアルコールに溶解させて除去することを目的として行われる。物品にアルコールを接触させる方法としては、アルコールをスプレー式で吹き付ける方法、アルコールの蒸気に接触させる方法、アルコールの液体中に浸漬する方法のいずれでもよく、これらの方法を組合せた方法であってもよい。
エーテル置換工程において、物品を含フッ素エーテルに接触させる方法としては、物品を含フッ素エーテル液中に浸漬する方法、物品に含フッ素エーテルをスプレー式に吹き付ける方法、物品を含フッ素エーテルの蒸気に接触させる方法等が挙げられる。
取出し工程において、物品の表面に付着していたアルコールを含んだ含フッ素エーテルは、水と接触させる槽(以下、水接触槽という。)に送られる。
水抽出工程においては、アルコールを含んだ含フッ素エーテルに、該含フッ素エーテルの質量に対して、1倍以上の量の水を接触させ、アルコールを水で抽出する。
水抽出工程の後、静置するなどして含フッ素エーテル相と水相とを分離する。得られた含フッ素エーテル相は、エーテル置換工程に戻す。水相は系外へ排出し、然るべき処理をする。
あらかじめよく洗浄したSUS304ステンレス板(縦100mm×横100mm×厚さ2mm)を準備した。
上記物品を切削油(ダフニカットAS−40H:出光興産株式会社製)に10秒間浸漬して引き上げ、5分間放置した。その後、洗剤(パワークリーナー:花王株式会社製)に1分間浸漬し、次いで、別の洗剤(パワークリーナー)に1分間浸漬した(水系洗浄工程1)。その後、水道水に1分間浸漬、さらに別の水道水に1分間浸漬した。引き続き、蒸留水に1分間浸漬、さらに別の蒸留水に1分間浸漬した(すすぎ工程2)。
アルコールとしてエタノールの代わりに2−プロパノールを用いたこと以外は、例7と同様に洗浄試験を行った。
(1)エタノール除去率
試験終了後、水抽出工程後の含フッ素エーテル中のエタノールの含有割合、および、エーテル置換工程で発生した凝縮液におけるエタノールの含有割合を、アジレント社製ガスクロマトグラフ(アジレント6890GCシステム)により測定し、エタノールが除去された割合を算出した。
5日後運転終了時のステンレス板表面の乾燥状態を目視で確認した。
また、前記水抽出工程後の水相に含まれる含フッ素エーテルの濃度を、アジレント社製ガスクロマトグラフ(アジレント6890GCシステム)により測定した。上記水相に含まれる含フッ素エーテルの、初期含フッ素エーテルの仕込み量に対する割合を、含フッ素エーテルの損失率として算出した。
例1〜11の評価の結果を1に示す。
B:含フッ素エーテル中のアルコールを除去するフロー
1:水系洗浄工程
2:すすぎ工程
3:アルコール接触工程
4:含フッ素エーテルに接触させるエーテル置換工程
5:含フッ素エーテル取出し工程
6:水抽出工程
7:水分離工程
8:分離された水
Claims (6)
- 水系の液体が付着した物品をアルコールに接触させるアルコール接触工程、
該物品を、式1で表される含フッ素エーテルに接触させるエーテル置換工程、
エーテル置換工程から、アルコールを含んだ含フッ素エーテルを取り出す取出し工程、
取出し工程から取り出された、前記アルコールを含んだ含フッ素エーテルに、該含フッ素エーテルの質量に対して、1〜10倍の量の水を接触させる水抽出工程、
含フッ素エーテルと水とを分離させる水分離工程、
水と分離された含フッ素エーテルを、上記エーテル置換工程に戻す工程
を有する物品の水切り方法。
Rf1−O−Rf2 ・・・式1
式1において、Rf1およびRf2は、各々独立に含フッ素アルキル基である。Rf1およびRf2に含まれるフッ素原子の数はそれぞれ1以上であり、Rf1およびRf2に含まれる炭素原子数の合計は4〜8である。 - 含フッ素エーテルが、1,1,2,2−テトラフルオロエチル−2,2,2−トリフルオロエチルエーテルである請求項1に記載の水切り方法。
- アルコールが、メタノール、エタノールまたは2−プロパノールである請求項1または2に記載の水切り方法。
- 上記エーテル置換工程において、物品を含フッ素エーテルの蒸気と接触させる請求項1、2または3に記載の水切り方法。
- 上記エーテル置換工程において、物品を、含フッ素エーテルの液体に浸漬した後、含フッ素エーテルの蒸気と接触させる請求項4に記載の水切り方法。
- 上記水抽出工程において、接触槽の下部から水を供給し、該接触槽の上部から含フッ素エーテルを供給し、両者を連続的に接触させる請求項1〜5のいずれかに記載の水切り方法。
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JP2008073690A JP2009228048A (ja) | 2008-03-21 | 2008-03-21 | 物品の水切り方法 |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH06142404A (ja) * | 1992-11-06 | 1994-05-24 | Olympus Optical Co Ltd | 乾燥液の再生方法と再生装置 |
JPH0731802A (ja) * | 1993-07-23 | 1995-02-03 | Minolta Co Ltd | 分配用液を用いた液体混合物の分離方法 |
JP2005171147A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Asahi Glass Co Ltd | 物品の洗浄乾燥方法 |
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2008
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Patent Citations (3)
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