JP2009216466A - Probe card provided with contact unit and replacement method of contact unit - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a probe card which facilitates replacement of respective contact units separately. <P>SOLUTION: A probe card 20 provided with contact units 38S and 38L includes: a plurality of contact units each having a plurality of contacts to be contacted with or separated from an input/output signal terminal group in an inspection object, a substrate supporting a predetermined number of the contacts arranged in rows on one surface, and a conductor layer formed on the other (opposite) surface of the substrate and electrically connected to the plurality of the contacts; an external connection terminal; and a conductor layer for electrically connecting the plurality of the contact units and the external connection terminal, and includes a mother board for supporting the plurality of the contact units. The plurality of the contact units are directly or indirectly and removably connected with the surface of the mother board 34 with a heat-separable adhesive or solder material. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、接触子ユニットを備えるプローブカード、および、接触子ユニットの交換方法に関する。   The present invention relates to a probe card including a contact unit and a replacement method of the contact unit.

シリコンウェハ等の半導体装置に縦横に複数個形成された回路および回路パターンの良否をそれぞれ判定するために電気的特性検査が行なわれている。このような検査においては、例えば、特許文献1にも示されるような、プローブカードを備える検査装置(テストシステム)が用いられている。   An electrical characteristic inspection is performed to determine whether or not a plurality of circuits and circuit patterns formed vertically and horizontally on a semiconductor device such as a silicon wafer are acceptable. In such an inspection, for example, an inspection apparatus (test system) including a probe card as shown in Patent Document 1 is used.

プローブカードは、例えば、特許文献2にも示されるように、被検査物としてのシリコンウェハの各回路パターンに電気的に接続される複数のスプリングプローブを有するプローブヘッドと、プローブヘッドを挟持する二つの締結部材とを含んで構成されている。   For example, as shown in Patent Document 2, the probe card includes a probe head having a plurality of spring probes that are electrically connected to each circuit pattern of a silicon wafer as an object to be inspected, and a probe card that sandwiches the probe head. And two fastening members.

二つの締結部材は、スティフナーおよびプローブボードを介して向かい合って配されている。   The two fastening members are arranged to face each other via a stiffener and a probe board.

また、そのようなプローブヘッドは、複数のスプリングプローブを協働して保持するように共通の軸線上に貫通穴をそれぞれ、有し、互いに重ねあわされるボトムボード、中間ボード、および、トップボードを含んで構成されている。これにより、不良とされるスプリングプローブが交換される場合、ボトムボードを下側にして、トップボードが取り外されることにより、そのスプリングプローブが貫通穴から引き抜かれ、交換されることとなる。   In addition, such a probe head includes a bottom board, an intermediate board, and a top board that each have a through hole on a common axis so as to hold a plurality of spring probes in cooperation, and are overlapped with each other. It is configured to include. As a result, when a spring probe deemed defective is replaced, the spring probe is pulled out of the through hole and replaced by removing the top board with the bottom board facing down.

特開2004−172551号公報JP 2004-172551 A 特開2007−71699号公報JP 2007-71699 A

上述のようなプローブカードのプローブヘッドにおいては、試験されるシリコンウェハの直径が大きくなる従い、プローブヘッドの直径も大となる。これにより、プローブヘッドにおいて、不良とされる1本のスプリングプローブの交換の際、上述のような複数のボードからなるプローブヘッドの分解および再組み立て作業が容易ではなく、しかも、他の良品とされる複数本のスプリングプローブが誤って破損する虞もある。即ち、プローブカードの製造工程における歩留や破損接触子の補修等が問題となる。   In the probe head of the probe card as described above, the diameter of the probe head increases as the diameter of the silicon wafer to be tested increases. This makes it difficult to disassemble and reassemble the probe head composed of a plurality of boards as described above when replacing one spring probe, which is regarded as defective in the probe head. A plurality of spring probes may be accidentally damaged. In other words, yield and repair of damaged contacts in the probe card manufacturing process are problematic.

以上の問題点を考慮し、本発明は、接触子ユニットを備えるプローブカード、および、接触子ユニットの交換方法であって、接触子ユニットを個別に容易に交換することができる接触子ユニットを備えるプローブカード、および、接触子ユニットの交換方法を提供することを目的とする。   In view of the above problems, the present invention is a probe card including a contact unit, and a contact unit replacement method, which includes a contact unit that can be easily replaced individually. It is an object of the present invention to provide a probe card and a method for replacing a contact unit.

上述の目的を達成するために、本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードは、被検査物における入出力信号用端子群に当接または離隔せしめられる複数の接触子と、複数の接触子を所定の個数ごとに一方の表面に支持する基板と、基板における相対向する他方の表面に形成され複数の接触子に電気的に接続される導体層と、をそれぞれ、含んでなる複数の接触子ユニットと、外部接続端子と、複数の接触子ユニットと外部接続端子とを電気的に接続する導体層とを有し、複数の接触子ユニットを支持するマザーボードと、を備え、複数の接触子ユニットが、加熱剥離可能な接着剤またはろう材により、マザーボードの表面に直接的または間接的に取り外し可能に接合されることを特徴とする。   In order to achieve the above-described object, a probe card including a contact unit according to the present invention includes a plurality of contacts that are in contact with or separated from an input / output signal terminal group in an object to be inspected, and a plurality of contacts. A plurality of contacts each including a substrate supported on one surface for each predetermined number and a conductor layer formed on the opposite surface of the substrate and electrically connected to the plurality of contacts. A plurality of contact units, comprising a unit, an external connection terminal, and a mother board that has a conductor layer that electrically connects the plurality of contact unit and the external connection terminal, and supports the plurality of contact units. Is removably bonded directly or indirectly to the surface of the motherboard with a heat-peelable adhesive or brazing material.

本発明に係る接触子ユニットの交換方法は、上述のマザーボードの所定位置に取り外し可能に接合された複数の接触子ユニットのうちの1個の接触子ユニットを、赤外線または加熱空気が供給されるリペアノズルの内側に所定時間、配し、所定時間経過後、1個の接触子ユニットをリペアノズルの内側から取り外し、新たな接触子ユニットを接合材により前記マザーボードの所定位置に接合することを含む。   According to the contact unit replacement method of the present invention, one contact unit among a plurality of contact units detachably joined to a predetermined position of the mother board described above is repaired with infrared or heated air. And disposing one contact unit from the inside of the repair nozzle after a predetermined time, and joining a new contact unit to a predetermined position of the motherboard with a joining material.

以上の説明から明らかなように、本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカード、および、接触子ユニットの交換方法によれば、複数の接触子ユニットが、加熱剥離可能な接着剤またはろう材により、マザーボードの表面に直接的または間接的に取り外し可能に接合されるので接触子ユニットを個別に容易に交換することができる。   As is clear from the above description, according to the probe card including the contact unit and the contact unit replacement method according to the present invention, the plurality of contact units are made of an adhesive or brazing material that can be thermally peeled. The contactor unit can be easily replaced individually because it is detachably joined directly or indirectly to the surface of the motherboard.

図3は、本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの各実施例が用いられるテストヘッドを備えるテストシステムの構成を概略的に示す。   FIG. 3 schematically shows a configuration of a test system including a test head in which each embodiment of the probe card including the contact unit according to the present invention is used.

図3において、テストシステムは、例えば、被検査物としての液晶ディスプレイの一部を構成する液晶パネルの点灯検査、または、後述するシリコンウェハの回路動作検査を行うために使用される。   In FIG. 3, the test system is used, for example, to perform a lighting inspection of a liquid crystal panel constituting a part of a liquid crystal display as an object to be inspected or a circuit operation inspection of a silicon wafer described later.

被検査物としての液晶パネルWOは、図5および図6に示されるように、その中央部に、偏光フィルタおよびカラーフィルター等から構成される表示部DDと、表示部DDに重ねられて形成され、表示部DDへの駆動信号等の授受を行う接続端子板DEとを含んで構成される。表示部DDにおいては、その内側の領域DAに画像等が表示される。接続端子板DEにおける表示部DDの全周縁には、複数のコンタクトパッドからなる端子群TAが所定の間隔で形成されている。   As shown in FIG. 5 and FIG. 6, the liquid crystal panel WO as an object to be inspected is formed at the center portion thereof by superimposing the display portion DD composed of a polarizing filter, a color filter and the like on the display portion DD. And a connection terminal board DE that transmits and receives a drive signal and the like to the display unit DD. In the display unit DD, an image or the like is displayed in the inner area DA. A terminal group TA composed of a plurality of contact pads is formed at predetermined intervals on the entire periphery of the display portion DD in the connection terminal board DE.

テストシステムは、液晶パネルWOが着脱可能に搭載されるステージ16を有するプローバ10と、プローバ10と並設される基台10Bにジョイント14を介して回動可能に支持され、ニ点鎖線で示されるように、ステージ16に対し近接または離隔可能とされるテストヘッド12と、図4に示されるように、試験される複数の液晶パネルWOまたは試験済みの複数の液晶パネルWOが貯蔵される貯蔵室25とを含んで構成されている。   The test system is supported by a prober 10 having a stage 16 on which a liquid crystal panel WO is detachably mounted, and a base 10B provided in parallel with the prober 10 via a joint 14, and is indicated by a two-dot chain line. As shown in FIG. 4, a storage head in which a plurality of liquid crystal panels WO to be tested or a plurality of tested liquid crystal panels WO are stored is stored. And a chamber 25.

プローバ10におけるステージ16は、図示が省略される駆動機構における回転駆動系、および、直交座標系3軸に沿った並進駆動系により、移動可能に支持されている。これにより、ステージ16における回転角および三次元座標位置が、図示が省略される制御部により制御される。   The stage 16 in the prober 10 is movably supported by a rotational drive system in a drive mechanism (not shown) and a translational drive system along the three axes of the orthogonal coordinate system. Thereby, the rotation angle and the three-dimensional coordinate position in the stage 16 are controlled by a control unit (not shown).

また、ステージ16における被検査物搭載面16Sには、図示が省略される吸引手段に連通する複数の細孔が形成されている。これにより、その吸引手段が選択的に作動状態とされる場合、被検査物としての液晶パネルWOは、その端子群TAをテストヘッド12のプローブカード20に向けて被検査物搭載面16Sにおける所定位置に搭載され保持されることとなる。   The inspection object mounting surface 16S of the stage 16 is formed with a plurality of pores communicating with suction means (not shown). As a result, when the suction means is selectively activated, the liquid crystal panel WO as an object to be inspected has a predetermined group on the object mounting surface 16S with its terminal group TA facing the probe card 20 of the test head 12. It will be mounted and held in position.

テストヘッド12は、接続ケーブル18を介して電気的にコントローラ22に接続されている。コントローラ22は、テストヘッド12に対する試験信号群DCを形成し供給する。これにより、液晶パネルWOの表示部DDにテストパターンが表示される。その際、液晶パネルWOの目視による検査、または、コントローラ22に制御されるCCDカメラ(不図示)等による画像認識技術に基づく検査、もしくは、双方の検査により、液晶パネルのドット抜け、色むら等について各液晶パネルWOごとに対する点灯検査が行われる。これにより、各液晶パネルWOの良否が判定される。   The test head 12 is electrically connected to the controller 22 via the connection cable 18. The controller 22 forms and supplies a test signal group DC for the test head 12. Thereby, the test pattern is displayed on the display portion DD of the liquid crystal panel WO. At that time, by a visual inspection of the liquid crystal panel WO, an inspection based on an image recognition technique using a CCD camera (not shown) or the like controlled by the controller 22, or both inspections, the liquid crystal panel has missing dots, uneven color, etc. A lighting test is performed for each liquid crystal panel WO. Thereby, the quality of each liquid crystal panel WO is determined.

テストヘッド12は、図1および図2に示されるように、テストヘッド12がステージ16に対して近接した位置をとるとき、液晶パネルWOの端子群TAと電気的接続を行う
プローブカード20を最下端部に有している。
As shown in FIGS. 1 and 2, when the test head 12 takes a position close to the stage 16, the test head 12 is provided with the probe card 20 that is electrically connected to the terminal group TA of the liquid crystal panel WO. It has at the lower end.

プローブカード20は、テストヘッド12の端部に対し着脱可能に支持され、後述する接触子ユニット38Lおよび38Sを有するマザーボード34を備えている。   The probe card 20 is detachably supported with respect to the end of the test head 12, and includes a mother board 34 having contact units 38L and 38S described later.

マザーボード34は、例えば、熱硬化性樹脂(BTレジン:商標名)、ガラスエポキシ樹脂、ガラス、および、セラミックで薄板状に成形されている。マザーボード34における中央部には、目視検査用の開口部34Aが形成されている。開口部34Aの寸法は、液晶パネルWOの表示部DDの大きさ以上に設定されている。   The mother board 34 is formed into a thin plate shape using, for example, a thermosetting resin (BT resin: trade name), glass epoxy resin, glass, and ceramic. An opening 34A for visual inspection is formed at the center of the mother board 34. The dimension of the opening 34A is set to be equal to or larger than the size of the display part DD of the liquid crystal panel WO.

マザーボード34の一方の表面における縁部には、図1に示されるように、長辺および短辺のうちの一方に沿ってそれぞれ、複数の接触子ユニット38Lおよび38Sが接合されている。接触子ユニット38Lおよび38Sの列は、互いに交差するようにL字状に接合されている。接触子ユニット38Lおよび38Sは、それぞれ、所定の間隔で一列に配されている。   As shown in FIG. 1, a plurality of contact units 38 </ b> L and 38 </ b> S are joined to the edge portion on one surface of the mother board 34 along one of the long side and the short side, respectively. The rows of contact units 38L and 38S are joined in an L shape so as to cross each other. The contact units 38L and 38S are arranged in a line at a predetermined interval.

接触子ユニット38Lおよび38Sは、互いに同一の構造を有するので接触子ユニット38Sについて説明し、接触子ユニット38Lの説明を省略する。   Since the contact units 38L and 38S have the same structure, the contact unit 38S will be described, and the description of the contact unit 38L will be omitted.

接触子ユニット38Sは、図7(A)および(B)に拡大されて示されるように、マザーボード34の一方の表面に接着される基板38Bと、基板38Bの一方の表面上に半田付け固定される接触子38ai(i=1〜n,nは正の整数)とを含んで構成されている。   As shown in enlarged views in FIGS. 7A and 7B, the contact unit 38S is fixed by soldering onto a substrate 38B bonded to one surface of the motherboard 34 and one surface of the substrate 38B. Contact 38ai (i = 1 to n, n is a positive integer).

ガラスエポキシ樹脂、または、上述の熱硬化性樹脂で成形される基板38Bにおけるマザーボード34の一方の表面に接着される表面には、図7(B)に拡大されて示されるように、各接触子38aiに対応して半田ボール38bi(i=1〜n,nは正の整数)が形成されている。半田ボール38biは、例えば、低融点のろう材(Sn−Zn,または、Sn−Zn−Bi)で作られている。半田ボール38biは、3つの縦列となるように形成されている。各列は、所定の間隔をもって互いに略平行に形成されている。   As shown in an enlarged view in FIG. 7B, each contactor is provided on the surface of the substrate 38B formed of glass epoxy resin or the above-described thermosetting resin and bonded to one surface of the mother board 34. A solder ball 38bi (i = 1 to n, n is a positive integer) is formed corresponding to 38ai. The solder ball 38bi is made of, for example, a low melting point brazing material (Sn—Zn or Sn—Zn—Bi). The solder balls 38bi are formed in three columns. Each row is formed substantially parallel to each other with a predetermined interval.

各列の半田ボール38biは、マザーボード34の内部に形成される導体層を介して外部接続ピン36ai(i=1〜n,nは正の整数)に電気的に接続されている。外部接続ピン36aiは、図1に示されるように、各接触子ユニット38Lおよび38Sに対応して長辺および短辺に沿って所定の間隔で配置されている。外部接続ピン36aiは、図示が省略されるテストヘッド12の接続用ソケットに接続される。   The solder balls 38bi in each row are electrically connected to external connection pins 36ai (i = 1 to n, n is a positive integer) through a conductor layer formed inside the mother board 34. As shown in FIG. 1, the external connection pins 36ai are arranged at predetermined intervals along the long side and the short side corresponding to the contact units 38L and 38S. The external connection pin 36ai is connected to a connection socket of the test head 12 (not shown).

また、各列の半田ボール38biは、導体パターン38wを介して貫通電極38tの一方の開口端に接続されている。貫通電極38tは、半田ボール38biの列に沿って千鳥掛け状に形成されている。   The solder balls 38bi in each row are connected to one open end of the through electrode 38t via the conductor pattern 38w. The through electrodes 38t are formed in a staggered pattern along the rows of solder balls 38bi.

さらに、基板の各角には、それぞれ、所定の高さを有する支持体38ST(スタンドオフ)が設けられている。ガラスエポキシ樹脂または熱硬化性樹脂で成形される支持体38STは、例えば、熱圧着シートにより接着されている。   Furthermore, a support 38ST (standoff) having a predetermined height is provided at each corner of the substrate. The support 38ST formed of glass epoxy resin or thermosetting resin is bonded by, for example, a thermocompression sheet.

支持体38STにより、半田ボール38biの直径がばらついた場合であっても、実装時、接触子ユニット38Sおよび38Lの実装高さ(マザーボード34の表面から基板38Bの表面までの高さ)のばらつきが抑制される。   Even when the diameter of the solder ball 38bi varies due to the support 38ST, the mounting height of the contact units 38S and 38L (the height from the surface of the motherboard 34 to the surface of the substrate 38B) is varied during mounting. It is suppressed.

支持体38STに隣接した4箇所には、マーカ28MBが形成されている。なお、マーカ28MBは、画像認識による接触子ユニット38Sおよび38Lのマザーボード34における所定位置に対する位置決めを行うために使用される。   Markers 28MB are formed at four locations adjacent to the support 38ST. The marker 28MB is used for positioning the contact units 38S and 38L with respect to a predetermined position on the mother board 34 by image recognition.

貫通電極38tの他方の開口端は、マザーボード34の他方の表面に開口している。各貫通電極38tの他方の開口端は、図7(A)に示されるように、その表面に形成される導体パターン38PPの一端に接続されている。導体パターン38PPは、所定の間隔、例えば、上述の液晶パネルWOの端子群TAを構成する端子相互間隔に対応して形成されている。各導体パターン38PP上の他端側には、接触子38aiがろう付けされている。   The other opening end of the through electrode 38t opens on the other surface of the mother board 34. As shown in FIG. 7A, the other open end of each through electrode 38t is connected to one end of a conductor pattern 38PP formed on the surface thereof. The conductor pattern 38PP is formed corresponding to a predetermined interval, for example, a mutual interval between the terminals constituting the terminal group TA of the liquid crystal panel WO described above. A contact 38ai is brazed to the other end on each conductor pattern 38PP.

基板38Bにおける接触子38aiの実装部分には、Au−Sn,Sn,Sn−Ag,Sn−Ag−Cu等の比較的高融点のろう材が、めっき法やスクリーン印刷などにより形成されている。   A brazing material having a relatively high melting point such as Au—Sn, Sn, Sn—Ag, or Sn—Ag—Cu is formed on the mounting portion of the contact 38ai on the substrate 38B by plating or screen printing.

これにより、基板38Bが局所加熱されることにより、例えば、ガラス基材上に複数の接触子38aiが実装された接触子ユニットが製造される。接触子ユニット38Sの状態で、接触子の実装精度や外観検査が行われ、不具合の接触子ユニットは、手直し又は廃棄される。その結果、実装密度が微小になるにつれ、例えば、局所加熱時の隣接する接触子への影響やろう材の不足による倒れなど、歩留低下につながる要因が多くなるので、接触子ユニット38Sでの選別は、歩留まりの向上にとって非常に有効となる。   Thereby, the board | substrate 38B is locally heated, for example, the contactor unit by which the some contactor 38ai was mounted on the glass base material is manufactured. The contactor mounting accuracy and appearance inspection are performed in the state of the contactor unit 38S, and the defective contactor unit is repaired or discarded. As a result, as the mounting density becomes smaller, for example, there are many factors that lead to a decrease in yield, such as an influence on adjacent contacts during local heating and a fall due to a lack of brazing material. Sorting is very effective for improving yield.

接触子38aiは、図7(C)に拡大されて示されるように、薄板金属材料でプレス加工により成形され、先端部に接点部を有するとともに内部にスリットを有する可動片部38Cと、可動片部38Cの基端部に連なり基板38Bに固定される固定部38Fとから構成される。   As shown in an enlarged view of FIG. 7C, the contact 38ai is formed by press working with a thin metal material, and has a movable piece 38C having a contact portion at the tip and a slit inside, and a movable piece. The fixing portion 38F is connected to the base end portion of the portion 38C and fixed to the substrate 38B.

図7(A)において、両端および略中央に位置する導体パターン38PPの他端近傍には、マーカ28MAが3箇所に形成されている。なお、マーカ28MAは、画像認識による接触子ユニット38Sおよび38Lのマザーボード34における所定位置に対する位置決めおよび実装を行うために使用される。   In FIG. 7A, markers 28MA are formed at three positions in the vicinity of the other end of the conductor pattern 38PP located at both ends and substantially in the center. The marker 28MA is used for positioning and mounting the contact units 38S and 38L with respect to a predetermined position on the mother board 34 by image recognition.

斯かる構成において、液晶パネルWOの点灯検査にあたり、先ず、液晶パネルWOがステージ16の被検査物搭載面16Sにおける所定位置に位置決めされた状態で吸引手段が作動状態とされることにより、図4に示されるように、液晶パネルWOが被検査物搭載面16Sに保持される。   In such a configuration, in the lighting inspection of the liquid crystal panel WO, first, the suction unit is activated in a state where the liquid crystal panel WO is positioned at a predetermined position on the inspection object mounting surface 16S of the stage 16, whereby FIG. As shown, the liquid crystal panel WO is held on the inspection object mounting surface 16S.

次に、テストヘッド12のプローブカード20が、図3に実線で示されるように、液晶パネルWOに対し近接せしめられる。その際、接触子ユニット38Sおよび38Lの可動片部38Cの接点部が、液晶パネルWOにおける一方の長辺および短辺の各端子群TAに当接せしめられる。   Next, the probe card 20 of the test head 12 is brought close to the liquid crystal panel WO as shown by a solid line in FIG. At that time, the contact portions of the movable piece portions 38C of the contact units 38S and 38L are brought into contact with the terminal groups TA on one long side and the short side of the liquid crystal panel WO.

続いて、コントローラ22が試験信号群DCをテストヘッド12に供給し、点灯検査が行われる。これにより、コントローラ22は、得られたデータ群DQに基づいて各液晶パネルWOごとに対する点灯検査において各液晶パネルWOの良否を判定する。   Subsequently, the controller 22 supplies the test signal group DC to the test head 12, and a lighting test is performed. Thereby, the controller 22 determines pass / fail of each liquid crystal panel WO in the lighting inspection for each liquid crystal panel WO based on the obtained data group DQ.

続いて、テストヘッド12のプローブカード20が、図3に一点鎖線で示されるように、液晶パネルWOに対し離隔せしめられた状態で、ステージ16が、制御信号に基づいて設定された所定角度だけ回転せしめられる。所定の回転角度は、例えば、検査されていない液晶パネルWOにおける他方の長辺および短辺の各端子群TAに、接触子ユニット38Lおよび38Sがそれぞれ、向かい合うまでの角度に設定される。   Subsequently, in a state where the probe card 20 of the test head 12 is separated from the liquid crystal panel WO as shown by a one-dot chain line in FIG. 3, the stage 16 is set at a predetermined angle set based on the control signal. It can be rotated. The predetermined rotation angle is set to, for example, an angle until the contact units 38L and 38S face each other terminal group TA on the other long side and short side of the liquid crystal panel WO that has not been inspected.

そして、テストヘッド12のプローブカード20が、図3に実線で示されるように、液晶パネルWOに対し近接せしめられる。その際、接触子ユニット38Sおよび38Lの可動片部38Cの接点部が、液晶パネルWOにおける他方の長辺および短辺の各端子群TAに当接せしめられる。   Then, the probe card 20 of the test head 12 is brought close to the liquid crystal panel WO as shown by a solid line in FIG. At that time, the contact portions of the movable piece portions 38C of the contact units 38S and 38L are brought into contact with the terminal groups TA on the other long side and short side of the liquid crystal panel WO.

これ以降、上述と同様に、コントローラ22は、試験信号群DCをテストヘッド12に供給し、点灯検査が行われる。これにより、コントローラ22は、得られたデータ群DQに基づいて各液晶パネルWOごとに対する点灯検査において各液晶パネルWOの良否を判定する。なお、上述の2回目の検査は、省略されてもよい。   Thereafter, similarly to the above, the controller 22 supplies the test signal group DC to the test head 12, and the lighting inspection is performed. Thereby, the controller 22 determines pass / fail of each liquid crystal panel WO in the lighting inspection for each liquid crystal panel WO based on the obtained data group DQ. Note that the second inspection described above may be omitted.

図8および図9は、本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの第2実施例
の外観を概略的に示す。
8 and 9 schematically show the appearance of a second embodiment of the probe card including the contact unit according to the present invention.

上述の第1実施例におけるプローブカードは、被検査物としての液晶パネルWOに対して使用するものとされるが、図8および図9に示されるプローブカード20は、被検査物としてのシリコンウェハWA(図15参照)に対して使用するものとされる。なお、図8および図9に示される例および後述される他の一例においても、プローブカード20は、図3および図4に示されるような、テストシステムにおいてテストヘッド12に装着された状態で使用される。   The probe card in the first embodiment described above is used for the liquid crystal panel WO as an object to be inspected, but the probe card 20 shown in FIGS. 8 and 9 is a silicon wafer as an object to be inspected. It shall be used for WA (see FIG. 15). In the example shown in FIGS. 8 and 9 and another example described later, the probe card 20 is used in a state where it is mounted on the test head 12 in the test system as shown in FIGS. Is done.

被検査物としてのシリコンウェハWAは、図15に示されるように、所定の直径を有しており、その表層部に、縦横に回路パターンWAij(i=1〜n,j=1〜n,nは正の整数)を有している。図16は、図15における6個の回路パターンWAijからなるA部を拡大し代表して部分的に示す。   As shown in FIG. 15, a silicon wafer WA as an object to be inspected has a predetermined diameter, and circuit patterns WAij (i = 1-n, j = 1-n, n is a positive integer). FIG. 16 is an enlarged view of a portion A composed of six circuit patterns WAij in FIG.

図16において、A部における回路パターンA1,A2,A3,A4,A5、および、A6には、それぞれ、同様な試験信号入出力用コンタクトパッド群が、その中央部に互いに略平行に二列形成されている。回路パターンA1,A2,A3,A4,A5、および、A6における各試験信号入出力用コンタクトパッド群には、試験のとき、後述するプローブカード20における1つの接触子ユニットの各接触子が当接される。   In FIG. 16, circuit pattern A1, A2, A3, A4, A5, and A6 in part A have similar test signal input / output contact pad groups formed in two rows substantially parallel to each other at the center. Has been. Each test signal input / output contact pad group in the circuit patterns A1, A2, A3, A4, A5, and A6 abuts each contact of one contact unit in the probe card 20 described later during the test. Is done.

プローブカード20は、図9に拡大されて示されるように、マザーボード24と、マザーボード24の一方の表面の周縁部に突出する複数の外部接続ピン26aiと、マザーボード24の他方の表面における中央部分に縦横に接着される複数の接触子ユニット28ij(i=1〜n,j=1〜n,nは正の整数)とを含んで構成されている。   As shown in an enlarged view in FIG. 9, the probe card 20 includes a mother board 24, a plurality of external connection pins 26 ai projecting on the peripheral edge of one surface of the mother board 24, and a central portion on the other surface of the mother board 24. A plurality of contact units 28ij (i = 1 to n, j = 1 to n, where n is a positive integer) bonded vertically and horizontally.

マザーボード24は、例えば、ガラスエポキシ樹脂、上述の熱硬化性樹脂、または、セラミック、ガラスで円板状に所定の厚さで成形されている。   For example, the mother board 24 is formed in a disk shape with a predetermined thickness using glass epoxy resin, the above-described thermosetting resin, ceramic, or glass.

外部接続ピン26aiは、図8に示されるように、円周方向に沿って所定の角度で均等に離隔配置されて、複数の環状列を形成している。外部接続ピン26aiの基端部は、マザーボード24内に形成される導体層30ai(i=1〜n,nは正の整数)を介して後述する接触子ユニット28ijの1個の半田ボール28bi(図13参照)に電気的に接続されている。   As shown in FIG. 8, the external connection pins 26ai are evenly spaced at a predetermined angle along the circumferential direction to form a plurality of annular rows. A base end portion of the external connection pin 26ai is connected to one solder ball 28bi (a contact unit 28ij described later) via a conductor layer 30ai (i = 1 to n, n is a positive integer) formed in the mother board 24. (See FIG. 13).

接触子ユニット28ijは、図11に拡大されて示されるように、マザーボード24の一方の表面に接着される基板28Bと、基板28Bの一方の表面上に固定される一対の接触子28ai(i=1〜n,nは正の整数)とを含んで構成されている。   As shown in an enlarged view in FIG. 11, the contact unit 28ij includes a substrate 28B bonded to one surface of the motherboard 24 and a pair of contacts 28ai (i = 1 to n and n are positive integers).

ガラスエポキシ樹脂、または上述の熱硬化性樹脂で成形される基板28Bにおけるマザーボード24の一方の表面に接着される表面には、図12、図13、および、図14に拡大されて示されるように、各接触子28aiに対応して半田ボール28bi(i=1〜n,nは正の整数)が形成されている。半田ボール28biは、6つの縦列となるように形成されている。各列は、所定の間隔をもって互いに略平行に形成されている。なお、半田ボール28biのろう材には、Sn−Zn、Sn−Zn−Biなどの後述の第一のろう材よりも低融点のものとされる。   The surface bonded to one surface of the mother board 24 in the substrate 28B formed of the glass epoxy resin or the thermosetting resin described above is enlarged as shown in FIG. 12, FIG. 13, and FIG. A solder ball 28bi (i = 1 to n, n is a positive integer) is formed corresponding to each contact 28ai. The solder balls 28bi are formed in six columns. Each row is formed substantially parallel to each other with a predetermined interval. Note that the soldering material of the solder balls 28bi has a lower melting point than the first brazing material described later such as Sn—Zn and Sn—Zn—Bi.

各列の半田ボール28biは、図10に示されるように、マザーボード24の内部に形成される導体層30aiを介して外部接続ピン26ai(i=1〜n,nは正の整数)に電気的に接続されている。外部接続ピン26aiは、図示が省略されるテストヘッド12の接続用ソケットに接続される。   As shown in FIG. 10, the solder balls 28bi in each row are electrically connected to the external connection pins 26ai (i = 1 to n, n is a positive integer) through a conductor layer 30ai formed inside the mother board 24. It is connected to the. The external connection pin 26ai is connected to a connection socket of the test head 12 (not shown).

また、各接触子28aiに対応した各列の半田ボール28biは、導体パターン28wを介して貫通電極28tの一方の開口端に接続されている。貫通電極28tは、半田ボール28biの列に沿って千鳥掛け状に形成されている。   Also, each row of solder balls 28bi corresponding to each contact 28ai is connected to one open end of the through electrode 28t via a conductor pattern 28w. The through electrodes 28t are formed in a staggered pattern along the rows of solder balls 28bi.

さらに、基板28Bの各角には、それぞれ、所定の高さを有する支持体28STが設けられている。なお、支持体28STの材料は、ろう材の濡れ性の悪い材料が好ましい。例えば、ステンレス材料を基板28Bに挟み込むか、あるいは、貼り合せる方法などもある。   Further, a support 28ST having a predetermined height is provided at each corner of the substrate 28B. Note that the material of the support 28ST is preferably a material with poor wettability of the brazing material. For example, there is a method of sandwiching or bonding a stainless material between the substrates 28B.

支持体28STにより、半田ボール38biの直径がばらついた場合であっても、実装時、接触子ユニット28ijの実装高さ(マザーボード24の表面から基板28Bの表面までの高さ)のばらつきが抑制される。   Even when the diameter of the solder ball 38bi varies due to the support 28ST, variation in the mounting height of the contact unit 28ij (the height from the surface of the mother board 24 to the surface of the substrate 28B) is suppressed during mounting. The

支持体28STに隣接した4箇所には、マーカ28MBが形成されている。また、マーカ28MB相互間の中間位置にも、マーカ28MBが形成されている。なお、マーカ28MBは、画像認識による接触子ユニット28ijのマザーボード24における所定位置に対する位置決めを行うために使用される。   Markers 28MB are formed at four locations adjacent to the support 28ST. A marker 28MB is also formed at an intermediate position between the markers 28MB. The marker 28MB is used for positioning the contact unit 28ij with respect to a predetermined position on the mother board 24 by image recognition.

貫通電極38tの他方の開口端は、図11に示されるように、マザーボード24の他方の表面に開口している。各貫通電極28tの他方の開口端は、その表面に形成される各導体パターン群28B1、28B2、28B3、28B4、28B5、および、28B6を構成する導体パターンの一端に接続されている。各導体パターンは、所定の間隔、例えば、上述のシリコンウェハWAの試験信号入出力用コンタクトパッド群を構成するコンタクトパッド相互間隔に対応して形成されている。各導体パターン上の他端側には、接触子28aiが半田付け固定されている。基板28Bにおける接触子28aiの実装部分には、ろう材が、めっき法やスクリーン印刷などにより形成されている。なお、接触子の実装部分のろう材には、接触子ユニット実装時に熱の影響を極力受けないように、Au−Sn、Sn、Sn−Ag、Sn−Ag−Cuなど比較的高融点のろう材(第1のろう材)が、用いられるのが望ましい。   The other opening end of the through electrode 38t is opened on the other surface of the mother board 24 as shown in FIG. The other open end of each through electrode 28t is connected to one end of a conductor pattern constituting each conductor pattern group 28B1, 28B2, 28B3, 28B4, 28B5, and 28B6 formed on the surface thereof. Each conductor pattern is formed corresponding to a predetermined interval, for example, a contact pad mutual interval constituting the test signal input / output contact pad group of the silicon wafer WA described above. A contact 28ai is fixed by soldering to the other end on each conductor pattern. A brazing material is formed on the mounting portion of the contact 28ai on the substrate 28B by plating or screen printing. In addition, the brazing material of the contact mounting part has a relatively high melting point such as Au—Sn, Sn, Sn—Ag, Sn—Ag—Cu so as not to be affected by heat when the contact unit is mounted. A material (first brazing material) is preferably used.

これにより、基板28Bが局所加熱されることにより、例えば、ガラス基材上に複数の接触子28aiが実装された接触子ユニットが製造される。接触子ユニット28ijの状態で、接触子の実装精度や外観検査が行われ、不具合の接触子ユニットは、手直し又は廃棄される。その結果、実装密度が微小になるにつれ、例えば、局所加熱時の隣接する接触子への影響やろう材の不足による倒れなど、歩留低下につながる要因が多くなるので、接触子ユニット28ijでの選別は、歩留まりの向上にとって非常に有効となる。   Thereby, the board | substrate 28B is locally heated, for example, the contactor unit by which the some contactor 28ai was mounted on the glass base material is manufactured. In the state of the contact unit 28ij, mounting accuracy and appearance inspection of the contact are performed, and the defective contact unit is repaired or discarded. As a result, as the mounting density becomes smaller, for example, there are many factors that lead to a decrease in yield, such as the influence on adjacent contacts during local heating and the collapse due to the lack of brazing material. Sorting is very effective for improving yield.

接触子28aiは、図12に拡大されて示されるように、薄板金属材料でプレス加工により成形され、先端部に接点部を有するとともに、内部にスリットを有する可動片部28Cと、可動片部28Cの基端部に連なり基板28Bに固定される固定部28Fとから構成される。   As shown in an enlarged view in FIG. 12, the contact 28ai is formed by press working with a thin metal material, and has a contact piece at the tip and a movable piece 28C having a slit inside, and a movable piece 28C. And a fixed portion 28F that is fixed to the substrate 28B.

図11において、基板28Bにおいて、その両端、導体パターン群28B1、28B2相互間、導体パターン群28B2、28B3相互間、導体パターン群28B4、28B5相互間、および、導体パターン群28B5、28B6相互間に位置する導体パターン近傍には、マーカ24MAが、合計8箇所に形成されている。なお、マーカ24MAは、画像認識による接触子ユニット28ijのマザーボード24における所定位置に対する位置決めを行うために使用される。   In FIG. 11, the substrate 28B is positioned at both ends thereof, between the conductor pattern groups 28B1 and 28B2, between the conductor pattern groups 28B2 and 28B3, between the conductor pattern groups 28B4 and 28B5, and between the conductor pattern groups 28B5 and 28B6. In the vicinity of the conductor pattern to be performed, markers 24MA are formed in a total of eight locations. The marker 24MA is used for positioning the contact unit 28ij with respect to a predetermined position on the mother board 24 by image recognition.

なお、接触子ユニット28ijにおける接触子は、斯かる例に限られることなく、例えば、図17(A),(B),(C)、(D)、および(E)に示されるように、鋭利な針状の接点部を弾性変位可能に有する接触子48aiが基板48B上に一対支持されるもの、円弧状の接点部を弾性変位可能に有する接触子50aiが基板50B上に一対支持されるもの、釣鐘の輪郭のように曲げられた可動片部の先端に接点部を接触子52aiが基板52B上に一対支持されるもの、弓形の可動片部の一端に接点部を有する接触子54aiが基板54B上に一対支持されるもの、および、図12に示される接触子においてスリットがないものに類似した形状とされる接触子56aiが基板56B上に一対支持されるものであってもよい。   Note that the contacts in the contact unit 28ij are not limited to such an example. For example, as shown in FIGS. 17 (A), (B), (C), (D), and (E), A pair of contacts 48ai having sharp needle-like contact portions elastically displaceable are supported on the substrate 48B, and a pair of contacts 50ai having arc-shaped contact portions elastically displaceable are supported on the substrate 50B. A pair of contacts 52ai supported on the substrate 52B at the tip of the movable piece bent like a bell shape, and a contact 54ai having a contact on one end of the arcuate movable piece. A pair of contacts 56ai supported on the substrate 54B and a pair of contacts 56ai having a shape similar to that of the contactor shown in FIG. 12 having no slit may be supported on the substrate 56B.

なお、接触子は、プレス加工に限られることなく、例えば、エッチング、MEMS、ワイヤーカット等により製造されてもよい。   In addition, a contactor is not restricted to press work, For example, you may manufacture by an etching, MEMS, a wire cut, etc.

斯かる構成において、シリコンウェハWAの電気的特性検査にあたり、先ず、シリコンウェハWAがステージ16の被検査物搭載面16Sにおける所定位置に位置決めされた状態で吸引手段が作動状態とされることにより、シリコンウェハWAが被検査物搭載面16Sに保持される。   In such a configuration, in the electrical characteristic inspection of the silicon wafer WA, first, the suction means is activated in a state where the silicon wafer WA is positioned at a predetermined position on the inspection object mounting surface 16S of the stage 16, The silicon wafer WA is held on the inspection object mounting surface 16S.

次に、テストヘッド12のプローブカード20が、シリコンウェハWAに対し近接せしめられる。その際、接触子ユニット28ijの接触子28aiの接点部が、シリコンウェハWAの回路パターンWAijのコンタクトパッド群に当接される。その際、一枚のシリコンウェハWAに対しての電気的特性検査は、例えば、2回に分けて行われるために所定の間隔をもった列ごとに、即ち、間引いた状態で行われる。   Next, the probe card 20 of the test head 12 is brought close to the silicon wafer WA. At that time, the contact portion of the contact 28ai of the contact unit 28ij is brought into contact with the contact pad group of the circuit pattern WAij of the silicon wafer WA. At that time, the electrical characteristic inspection for one silicon wafer WA is performed, for example, in two rows, that is, every column having a predetermined interval, that is, in a thinned state.

続いて、コントローラ22が試験信号群DCをテストヘッド12に供給し、電気的特性検査が行われる。これにより、コントローラ22は、得られたデータ群DQに基づいて電気的特性検査の良否を判定する。   Subsequently, the controller 22 supplies the test signal group DC to the test head 12, and an electrical characteristic inspection is performed. Thereby, the controller 22 determines the quality of the electrical characteristic inspection based on the obtained data group DQ.

図18は、本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの第3実施例の要部を概略的に示す。   FIG. 18 schematically shows the main part of a third embodiment of the probe card provided with the contact unit according to the present invention.

図10に示される例においては、外部接続ピン26aiが導体層30aiを介して直接的に接触子ユニット28ijに接続されている。一方、図18に示される例においては、外部接続ピン26aiが、導体層30aiおよび接続ブロック部材32に内蔵されるプローブピン34ai(i=1〜n,nは正の整数)を介して接触子ユニット58ij(i、j=1〜n,nは正の整数)に接続されるものである。   In the example shown in FIG. 10, the external connection pin 26ai is directly connected to the contact unit 28ij through the conductor layer 30ai. On the other hand, in the example shown in FIG. 18, the external connection pin 26 ai is contacted via the probe pin 34 ai (i = 1 to n, n is a positive integer) built in the conductor layer 30 ai and the connection block member 32. It is connected to the unit 58ij (i, j = 1 to n, n is a positive integer).

なお、図18乃至図22において、図10に示される例における構成要素と同一の構成要素について同一の符号を付して示し、その重複説明を省略する。   18 to 22, the same components as those in the example shown in FIG. 10 are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof is omitted.

ガラスエポキシ樹脂、セラミック等で成形される接続ブロック部材32は、マザーボート24に対して位置決めされ、ネジ等の所定の締結部材により固定されている。接続ブロック部材32における各接触子ユニット28ijが位置決めされる位置には、複数のスプリングプローブ34ai(i=1〜n,nは正の整数)群が各穴に貫通されて配置されている。なお、斯かる例に限られることなく、例えば、スプリングプローブの代わりに、弓形の板ばねで作られるコンタクトピンであってもよい。   The connection block member 32 formed of glass epoxy resin, ceramic or the like is positioned with respect to the mother boat 24 and is fixed by a predetermined fastening member such as a screw. A plurality of spring probes 34ai (i = 1 to n, where n is a positive integer) group is disposed through each hole at a position where each contact unit 28ij is positioned on the connection block member 32. In addition, it is not restricted to such an example, For example, the contact pin made from a bow-shaped leaf | plate spring may be sufficient instead of a spring probe.

接触子ユニット58ijは、図19および図20に拡大されて示されるように、マザーボード24の一方の表面に接着される基板58Bと、基板58Bの一方の表面上に固定される一対の接触子28ai(i=1〜n,nは正の整数)とを含んで構成されている。   As shown in enlarged views in FIGS. 19 and 20, the contact unit 58ij includes a substrate 58B bonded to one surface of the mother board 24 and a pair of contacts 28ai fixed to one surface of the substrate 58B. (Where i = 1 to n, n is a positive integer).

ガラスエポキシ樹脂で成形される基板58Bにおけるマザーボード24の一方の表面に接着される表面には、図21および図22に拡大されて示されるように、各接触子28aiに対応してコンタクトパッド58cpi(i=1〜n,nは正の整数)が形成されている。接触子28aiの相互間隔よりも大なる相互間隔で配されるコンタクトパッド58cpiは、6つの縦列となるように形成されている。各列は、所定の間隔をもって互いに略平行に形成されている。   As shown in enlarged views in FIGS. 21 and 22, a contact pad 58cpi (corresponding to each contact 28ai is provided on the surface of the substrate 58B formed of glass epoxy resin, which is bonded to one surface of the mother board 24. i = 1 to n, where n is a positive integer). The contact pads 58 cpi arranged at a mutual interval larger than the mutual interval between the contacts 28 ai are formed to be six columns. Each row is formed substantially parallel to each other with a predetermined interval.

また、各接触子28aiに対応した各列のコンタクトパッド58cpiは、導体パターン58wを介して貫通電極58tの一方の開口端に接続されている。貫通電極58tは、コンタクトパッド58cpiの列に沿って千鳥掛け状に形成されている。   In addition, each row of contact pads 58cpi corresponding to each contact 28ai is connected to one open end of the through electrode 58t via a conductor pattern 58w. The through electrodes 58t are formed in a staggered pattern along the row of contact pads 58cpi.

基板58Bは、例えば、所定の紫外線硬化性接着剤により接続ブロック部材32に接着されている。その紫外線硬化性接着剤は、例えば、100℃加熱剥離可能な接着剤(型式A−1582)とされる。この接着剤は、100℃の加熱で樹脂が融解されることにより、剥離可能とされる。剥離後、その付着物は、アルコール系溶剤で溶解される。なお、接着剤は、斯かる例に限られることなく、例えば、80℃加熱剥離可能な接着剤(型式A−1579)、または、160℃加熱剥離可能な接着剤(型式A−1611)であってもよい。   The substrate 58B is bonded to the connection block member 32 with a predetermined ultraviolet curable adhesive, for example. The ultraviolet curable adhesive is, for example, an adhesive (model A-1582) that can be peeled off by heating at 100 ° C. This adhesive can be peeled when the resin is melted by heating at 100 ° C. After peeling, the deposit is dissolved with an alcohol solvent. The adhesive is not limited to such an example, and is, for example, an adhesive that can be peeled off by heating at 80 ° C. (model A-1579) or an adhesive that can be peeled off by heating at 160 ° C. (model A-1611). May be.

また、8個のマーカ58MBが、図21に示されるように、上述の基板28Bと同様な位置に形成されている。貫通電極58tの他方の開口端は、図19に示されるように、接続ブロック部材32の他方の表面に向けて開口している。各貫通電極58tの他方の開口端は、その表面に形成される各導体パターン群58B1、58B2、58B3、58B4、58B5、および、58B6を構成する導体パターンの一端に接続されている。各導体パターンは、所定の間隔、例えば、上述のシリコンウェハWAの試験信号入出力用コンタクトパッド群を構成するコンタクトパッド相互間隔に対応して形成されている。各導体パターン上の他端側には、接触子28aiが半田付け固定されている。   Further, as shown in FIG. 21, eight markers 58MB are formed at the same position as the above-described substrate 28B. The other opening end of the through electrode 58t is opened toward the other surface of the connection block member 32 as shown in FIG. The other open end of each through electrode 58t is connected to one end of a conductor pattern constituting each conductor pattern group 58B1, 58B2, 58B3, 58B4, 58B5, and 58B6 formed on the surface thereof. Each conductor pattern is formed corresponding to a predetermined interval, for example, a contact pad mutual interval constituting the test signal input / output contact pad group of the silicon wafer WA described above. A contact 28ai is fixed by soldering to the other end on each conductor pattern.

図19において、基板58Bにおいて、その両端、導体パターン群58B1、58B2相互間、導体パターン群58B2、58B3相互間、導体パターン群58B4、58B5相互間、および、導体パターン群58B5、58B6相互間に位置する導体パターン近傍には、マーカ58MAが、合計8箇所に形成されている。なお、マーカ58MAは、画像認識による接触子ユニット58ijの接続ブロック部材32における所定位置に対する位置決めを行うために使用される。   In FIG. 19, the substrate 58B is positioned at both ends thereof, between the conductor pattern groups 58B1 and 58B2, between the conductor pattern groups 58B2 and 58B3, between the conductor pattern groups 58B4 and 58B5, and between the conductor pattern groups 58B5 and 58B6. In the vicinity of the conductor pattern to be performed, markers 58MA are formed in a total of eight locations. The marker 58MA is used for positioning the contact unit 58ij with respect to a predetermined position in the connection block member 32 by image recognition.

従って、接触子ユニットを単体で検査し良品のみ使用することで、製造時の歩留向上となる。また、使用時のアクシデントや耐久寿命により破損した箇所をユニット単位で交換修理可能となり運用コストの低減が可能となる。接触子ユニット裏面に外部接続端子を設けることで、接触子ユニットの実装密度が上がり、より効率的なテストが可能となる。   Therefore, the yield at the time of manufacture can be improved by inspecting the contact unit alone and using only good products. In addition, it is possible to replace and repair parts damaged due to accidents during use and durability, and unit costs can be reduced. By providing the external connection terminal on the back surface of the contact unit, the mounting density of the contact unit is increased and a more efficient test can be performed.

接続ブロック部材32のスプリングプローブ34aiにより、例えば、パッド配置の異なるICに対しても接触子ユニットの外部接続端子位置を標準化することにより同一のマザーボードが使用可能となり、大幅なコストダウンが図られる。   By using the spring probe 34ai of the connection block member 32, for example, the same motherboard can be used by standardizing the position of the external connection terminal of the contact unit even for ICs having different pad arrangements, and the cost can be greatly reduced.

図23は、本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの第4実施例の要部を概略的に示す。   FIG. 23 schematically shows a main part of a fourth embodiment of the probe card including the contact unit according to the present invention.

図10に示される例においては、外部接続ピン26aiが導体層30aiを介して直接的に接触子ユニット28ijに接続されている。一方、図23に示される例においては、外部接続ピン26aiが、導体層30ai、FPCコネクタ68CN、および、フレキシブル配線基板68FCを介して接触子ユニット68ijに接続されている。   In the example shown in FIG. 10, the external connection pin 26ai is directly connected to the contact unit 28ij through the conductor layer 30ai. On the other hand, in the example shown in FIG. 23, the external connection pins 26ai are connected to the contact unit 68ij through the conductor layer 30ai, the FPC connector 68CN, and the flexible wiring board 68FC.

なお、図23乃至図26において、図10に示される例における構成要素と同一の構成要素について同一の符号を付して示し、その重複説明を省略する。   23 to 26, the same components as those in the example shown in FIG. 10 are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof is omitted.

接触子ユニット68ijは、図24,図25、および、図26に拡大されて示されるように、マザーボード24の一方の表面に接着される基板68Bと、基板68Bの一方の表面上に固定される一対の接触子28ai(i=1〜n,nは正の整数)と、一端がFPCコネクタ68CNに接続され、他端が基板68Bに接続されるフレキシブル配線基板68FCとを含んで構成されている。   As shown in enlarged views in FIGS. 24, 25, and 26, the contact unit 68ij is fixed on one surface of the substrate 68B and a substrate 68B bonded to one surface of the motherboard 24. A pair of contacts 28ai (i = 1 to n, n is a positive integer) and a flexible wiring board 68FC having one end connected to the FPC connector 68CN and the other end connected to the board 68B are configured. .

ガラスエポキシ樹脂で成形される基板68Bは、例えば、所定の紫外線硬化性接着剤によりマザーボード24に接着されている。その紫外線硬化性接着剤は、例えば、100℃加熱剥離可能な接着剤(型式A−1582)とされる。この接着剤は、100℃の加熱で樹脂が融解されることにより、剥離可能とされる。剥離後、その付着物は、アルコール系溶剤で溶解される。なお、接着剤は、斯かる例に限られることなく、例えば、80℃加熱剥離可能な接着剤(型式A−1579)、または、160℃加熱剥離可能な接着剤(型式A−1611)であってもよい。   The substrate 68B formed of glass epoxy resin is bonded to the mother board 24 with a predetermined ultraviolet curable adhesive, for example. The ultraviolet curable adhesive is, for example, an adhesive (model A-1582) that can be peeled off by heating at 100 ° C. This adhesive can be peeled when the resin is melted by heating at 100 ° C. After peeling, the deposit is dissolved with an alcohol solvent. The adhesive is not limited to such an example, and is, for example, an adhesive that can be peeled off by heating at 80 ° C. (model A-1579) or an adhesive that can be peeled off by heating at 160 ° C. (model A-1611). May be.

また、基板68Bの一方の表面には、導体パターン群68B1、68B2、68B3、68B4、68B5、および、68B6が形成されている。   Conductive pattern groups 68B1, 68B2, 68B3, 68B4, 68B5, and 68B6 are formed on one surface of the substrate 68B.

導体パターン群を構成する各導体パターンは、所定の間隔、例えば、上述のシリコンウェハWAの試験信号入出力用コンタクトパッド群を構成するコンタクトパッド相互間隔に対応して形成されている。各導体パターン上の他端側には、接触子28aiがろう付けされている。   Each conductor pattern constituting the conductor pattern group is formed corresponding to a predetermined interval, for example, a contact pad mutual interval constituting the test signal input / output contact pad group of the silicon wafer WA described above. A contact 28ai is brazed to the other end side of each conductor pattern.

図19において、基板68Bにおいて、その両端、導体パターン群68B1、68B2相互間、導体パターン群68B2、68B3相互間、導体パターン群68B4、68B5相互間、および、導体パターン群68B5、68B6相互間に位置する導体パターン近傍には、マーカ68Mが、合計8箇所に形成されている。なお、マーカ68Mは、画像認識による接触子ユニット68ijのマザーボード24における所定位置に対する位置決めを行うために使用される。さらに、フレキシブル配線基板68FCの一端には、図27に示されるように、コンタクトパッド群68FCPが形成されている。   In FIG. 19, the substrate 68B is positioned at both ends thereof, between the conductor pattern groups 68B1 and 68B2, between the conductor pattern groups 68B2 and 68B3, between the conductor pattern groups 68B4 and 68B5, and between the conductor pattern groups 68B5 and 68B6. In the vicinity of the conductor pattern to be performed, markers 68M are formed in a total of eight locations. The marker 68M is used for positioning the contact unit 68ij with respect to a predetermined position on the mother board 24 by image recognition. Further, as shown in FIG. 27, a contact pad group 68FCP is formed at one end of the flexible wiring board 68FC.

従って、基板68Bに貫通電極等を形成する必要がないので安価に接触子ユニット68ijの製作が可能となる。   Accordingly, since it is not necessary to form a through electrode or the like on the substrate 68B, the contact unit 68ij can be manufactured at a low cost.

上述のプローブカード20における接触子ユニット28ijを個別に交換することができる本発明に係る接触子ユニットの交換方法の一例においては、先ず、図28に示されるように、マザーボード24における所定の位置ARに接合され交換が必要とされる接触子ユニット28ijが取り外される。接触子ユニット28ijを取り外すにあたっては、先ず、図29および図30に示されるように、リペアノズル70が所定の位置ARに配される接触子ユニット28ijに被される。リペアノズル70内には、図示が省略される光源から赤外線または温風が所定時間、照射または送風される。   In an example of the contact unit replacement method according to the present invention in which the contact unit 28ij in the probe card 20 can be replaced individually, first, as shown in FIG. The contact unit 28ij that is joined to the connector and needs to be replaced is removed. In removing the contact unit 28ij, first, as shown in FIGS. 29 and 30, the repair nozzle 70 is put on the contact unit 28ij disposed at a predetermined position AR. In the repair nozzle 70, infrared rays or warm air is irradiated or blown from a light source (not shown) for a predetermined time.

これにより、上述の半田ボールが融解されることとなるので接触子ユニット28ijが容易に取り外される。   Thereby, since the above-mentioned solder ball is melted, the contact unit 28ij is easily removed.

次に、図28に示されるように、新たな接触子ユニット28ijがマザーボード24における所定の位置ARに半田ボールを介して接合される。その際、マザーボード24におけるマーカ24MA〜24MDと、接触子ユニット28ijのマーカ24MAとが参照され、新たな接触子ユニット28ijが、画像認識技術により所定の位置ARに位置決めされる。   Next, as shown in FIG. 28, a new contact unit 28ij is joined to a predetermined position AR on the mother board 24 via solder balls. At that time, the markers 24MA to 24MD on the mother board 24 and the marker 24MA of the contact unit 28ij are referred to, and the new contact unit 28ij is positioned at the predetermined position AR by the image recognition technique.

これにより、接触子ユニットの交換作業が終了することとなる。   Thereby, the replacement | exchange operation | work of a contactor unit will be complete | finished.

従って、低融点バンプを形成することで、従来のBGA型と同様な実装方法、及び装置が利用できる。また、接触子ユニットの交換修理の際にも、一般的なリワーク装置が利用できる。さらに、第二のろう材を低融点とすることで、接触子の実装には影響を与えずに接触子ユニットの交換修理が可能となる。   Therefore, by forming the low melting point bump, the same mounting method and apparatus as those of the conventional BGA type can be used. Also, a general rework device can be used for replacement and repair of the contact unit. Furthermore, by making the second brazing material have a low melting point, it is possible to replace and repair the contact unit without affecting the mounting of the contact.

本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの第1実施例の外観を概略的に示す正面図である。It is a front view which shows roughly the external appearance of 1st Example of a probe card provided with the contactor unit which concerns on this invention. 図1に示される例における上面図である。FIG. 2 is a top view of the example shown in FIG. 1. 本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの各実施例が用いられるテストヘッドを備えるテストシステムの構成を概略的に示す。1 schematically shows a configuration of a test system including a test head in which each embodiment of a probe card including a contact unit according to the present invention is used. 図3に示される例における平面図である。It is a top view in the example shown by FIG. 本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの第1実施例により検査される液晶パネルの平面図である。It is a top view of the liquid crystal panel test | inspected by 1st Example of a probe card provided with the contactor unit which concerns on this invention. 図5に示される液晶パネルの正面図である。FIG. 6 is a front view of the liquid crystal panel shown in FIG. 5. (A)は、本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの第1実施例に用いられる接触子ユニットを示す平面図であり、(B)は、(A)に示される接触子ユニットの裏面図であり、(C)は、図2の一部を部分的に拡大して示す断面図である。(A) is a top view which shows the contact unit used for 1st Example of a probe card provided with the contact unit which concerns on this invention, (B) is the back surface of the contact unit shown by (A). (C) is sectional drawing which expands and shows a part of FIG. 2 partially. 本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの第2実施例の外観を概略的に示す正面図である。It is a front view which shows roughly the external appearance of 2nd Example of a probe card provided with the contactor unit which concerns on this invention. 図8に示される例における上面図である。FIG. 9 is a top view of the example shown in FIG. 8. 図9に示される例における一部を拡大して示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which expands and shows a part in the example shown by FIG. 本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの第2実施例における接触子ユニットを示す平面図である。It is a top view which shows the contact unit in 2nd Example of a probe card provided with the contact unit which concerns on this invention. 図11に示される例における側面図である。It is a side view in the example shown by FIG. 図11に示される接触子ユニットの裏面図である。FIG. 12 is a rear view of the contact unit shown in FIG. 11. 図13に示される例の正面図である。FIG. 14 is a front view of the example shown in FIG. 13. 本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの第2実施例により検査されるシリコンウェハの外観を示す平面図である。It is a top view which shows the external appearance of the silicon wafer inspected by 2nd Example of a probe card provided with the contactor unit which concerns on this invention. 図15に示されるシリコンウェハにおける回路パターンの一部を拡大して模式的に示す構成図である。FIG. 16 is a configuration diagram schematically showing an enlarged part of a circuit pattern in the silicon wafer shown in FIG. 15. (A),(B)、(C)、(D)、および、(E)は、それぞれ、接触子ユニットに用いられる接触子の他の一例を示す部分断面図である。(A), (B), (C), (D), and (E) are partial sectional views showing other examples of the contact used in the contact unit. 本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの第3実施例の要部を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the principal part of 3rd Example of a probe card provided with the contactor unit which concerns on this invention. 本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの第3実施例に用いられる接触子ユニットの平面図である。It is a top view of the contact unit used for the 3rd example of a probe card provided with the contact unit concerning the present invention. 図19に示される例における側面図である。It is a side view in the example shown by FIG. 図19に示される例における裏面図である。FIG. 20 is a back view of the example shown in FIG. 19. 図21に示される例における正面図である。It is a front view in the example shown by FIG. 本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの第4実施例の要部を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the principal part of 4th Example of a probe card provided with the contactor unit which concerns on this invention. 本発明に係る接触子ユニットを備えるプローブカードの第4実施例に用いられる接触子ユニットの平面図である。It is a top view of the contact unit used for the 4th example of a probe card provided with the contact unit concerning the present invention. 図24に示される例における正面図である。It is a front view in the example shown by FIG. 図24に示される例における側面図である。It is a side view in the example shown by FIG. 図24に示される例における裏面図である。It is a back view in the example shown by FIG. 本発明に係る接触子ユニットの交換方法の一例の説明に供されるプローブカードの構成図である。It is a block diagram of the probe card used for description of an example of the exchange method of the contactor unit which concerns on this invention. 本発明に係る接触子ユニットの交換方法の一例に用いられるリペアノズルの説明に供される図である。It is a figure with which it uses for description of the repair nozzle used for an example of the exchange method of the contactor unit which concerns on this invention. 図28に示される基板上の接触子ユニットの一部を拡大して示す構成図である。It is a block diagram which expands and shows a part of contactor unit on the board | substrate shown by FIG.

符号の説明Explanation of symbols

12 テストヘッド
20 プローブカード
28ij、38S、38L、58ij、68ij 接触子ユニット
WO 液晶パネル
WA シリコンウェハ
12 Test head 20 Probe card 28ij, 38S, 38L, 58ij, 68ij Contact unit WO Liquid crystal panel WA Silicon wafer

Claims (6)

被検査物における入出力信号用端子群に当接または離隔せしめられる複数の接触子と、該複数の接触子を所定の個数ごとに一方の表面に支持する基板と、該基板における相対向する他方の表面に形成され該複数の接触子に電気的に接続される導体層と、をそれぞれ、含んでなる複数の接触子ユニットと、
外部接続端子と、前記複数の接触子ユニットと該外部接続端子とを電気的に接続する導体層とを有し、前記複数の接触子ユニットを支持するマザーボードと、を備え、
前記複数の接触子ユニットが、加熱剥離可能な接着剤またはろう材により、前記マザーボードの表面に直接的または間接的に取り外し可能に接合されることを特徴とする接触子ユニットを備えるプローブカード。
A plurality of contacts that are brought into contact with or separated from an input / output signal terminal group in the object to be inspected, a substrate that supports the plurality of contacts on one surface for each predetermined number, and the other opposite to each other on the substrate A plurality of contact units each including a conductor layer formed on the surface of the contact layer and electrically connected to the plurality of contacts.
An external connection terminal, a plurality of contact units and a conductor layer that electrically connects the external connection terminals, and a mother board that supports the plurality of contact units,
A probe card comprising a contact unit, wherein the plurality of contact units are detachably joined directly or indirectly to the surface of the mother board by a heat-peelable adhesive or brazing material.
前記複数の接触子が、第1のろう材により前記基板に固定され、前記接触子ユニットの導体層が、該第1のろう材の融点よりも低い融点を有する第2のろう材で作られた半田ボールであることを特徴とする請求項1記載の接触子ユニットを備えるプローブカード。   The plurality of contacts are fixed to the substrate by a first brazing material, and the conductor layer of the contact unit is made of a second brazing material having a melting point lower than the melting point of the first brazing material. The probe card comprising the contact unit according to claim 1, wherein the probe card is a solder ball. 前記マザーボードの導体層に電気的に接続されるコンタクト端子を内蔵する接続ブロック部材をさらに備え、前記複数の接触子ユニットが、該コンタクト端子を介して前記マザーボードの導体層に電気的に接続されることを特徴とする請求項1記載の接触子ユニットを備えるプローブカード。   It further comprises a connection block member containing a contact terminal electrically connected to the conductor layer of the motherboard, and the plurality of contact units are electrically connected to the conductor layer of the motherboard via the contact terminal A probe card comprising the contact unit according to claim 1. 前記接触子ユニットの基板は、前記マザーボードに当接される支持体を有することを特徴とする請求項2記載の接触子ユニットを備えるプローブカード。   The probe card having the contact unit according to claim 2, wherein a substrate of the contact unit has a support that is in contact with the motherboard. 前記接触子ユニットが、該接触子ユニットの基板の導体層に接続されるフレキシブル配線基板、および、前記マザーボードに設けられ該フレキシブル配線基板に接続されるコネクタを介して該マザーボードの導体層に電気的に接続されることを特徴とする請求項1記載の接触子ユニットを備えるプローブカード。   The contact unit is electrically connected to the conductor layer of the motherboard via a flexible wiring board connected to the conductor layer of the board of the contact unit and a connector provided on the motherboard and connected to the flexible wiring board. The probe card comprising the contact unit according to claim 1, wherein the probe card is connected to the probe card. 請求項1記載の前記マザーボードの所定位置に取り外し可能に接合された前記複数の接触子ユニットのうちの1個の接触子ユニットを、赤外線または加熱空気が供給されるリペアノズルの内側に所定時間、配し、
前記所定時間経過後、前記1個の接触子ユニットをリペアノズルの内側から取り外し、
新たな接触子ユニットを接合材により前記マザーボードの所定位置に接合することを含む接触子ユニットの交換方法。
One contact unit of the plurality of contact units removably joined to a predetermined position of the motherboard according to claim 1 for a predetermined time inside a repair nozzle to which infrared rays or heated air is supplied, Arrange
After the predetermined time has elapsed, the one contact unit is removed from the inside of the repair nozzle,
A method for replacing a contactor unit, comprising joining a new contactor unit to a predetermined position of the mother board with a bonding material.
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